电容屏Sensor基础知识简介

二、Glass Sensor与Film Sensor的比较
结构及其主要材料比较
ITO Film（菲林）分为亮面材料和雾面材料。均有不防划伤、防划伤、防牛顿环、防 反射（高透处理）等材质； ITO Glass（导电玻璃）分为普通玻璃和强化玻璃。其中强化玻璃有表面镀膜和离子 置换工艺。厚度有2.0mm、1.1mm、0.7mm、0.55mm、0.4mm、0.3mm等规格。
Glass Sensor与Film Sensor的比较
市场比较
1、苹果采用的是Double-ITO玻璃电容屏，Sumsung采用的是Film电容屏； 2、目前，HTC、ZTE、MEIZU等都有玻璃电容屏和Film电容屏产品； 3、目前市面上的芯片都能支持玻璃电容屏和Film电容屏，因此，客户选择 玻璃电容屏还是Film电容屏将不限制电容屏芯片与平台之间调制的限制； 4、Film电容屏采用印刷工艺制程，设备不需要采用曝光、显影等高端制程，因 此相对玻璃电容屏而言，成本较低； 5、Film电容屏是柔性的Film与面板玻璃贴合，贴合容易，而玻璃电容屏是刚性 的玻璃与玻璃贴合，贴合难； 6、Film电容屏打样周期短，目前，国内供应商还是以Film电容屏为主。 注：曝光、显影制程是一种高端制程、在芯片封装和LCD电极设备中常用，相 对印刷而言，其精度高、成本高，但是电容屏芯片在计算坐标时是一种权重计 算，分辨率低，因此精度高对触摸屏的实际坐标精度提高不明显。最大的优势 是可以使玻璃电容屏的边框能设计很窄。
厚度优势，未来Film电容屏将越来越薄
Glass做ITO载体的Sensor：
可全ITO工艺，OGS结构等
Sensor基本常识
Film做ITO载体的工艺：
单层： 一层ITO层，无屏蔽层，主要用于中小尺寸Film，成本低； 双层： 两层ITO层，无屏蔽层，大尺寸都倾向于Film，成本低； 三层： 两层ITO层，一层屏蔽层，工艺步骤多且良率不好控制，Film只能承载单 层ITO。
丝印 工艺流程
激光工艺：
ITO 具有反射红外线，吸收紫外线能量的特性。人们利用这两个特性制作了 1055nm 和355nm 的激光器，进行ITO 膜图形制备加工。红外线激光加工是使 ITO 层在高温下汽化挥发，把ITO 去除掉。紫外线激光加工让ITO 层里的原子吸 收紫外线能量后自己激化成离子，从ITO 层表面不断逃逸，把ITO 去除掉。 激光蚀刻法制作 ITO 层有比较严格的线距限制，在图形制备工艺中有相当大 的局限性，对那些图形简单的产品如触摸屏、硅片光伏电池、薄膜开关等比较实 用。当然，在其它使用ITO 膜的产品中，也经常用来做为ITO 线路短、断路修补 使用。 在激光加工方式中，大尺寸的ITO 膜一般采用矢量图形激光切割ITO 层的方式 加工，小尺寸的除了采用矢量切割方式外，也有人使用振镜式图形点阵激光扫描 雕刻方式进行快速加工。 激光加工是一种非接触性加工，对产品表面处理要求不高，产品表面更容易 得到保护，产品品质更能得到保证。由于不用使用化学原料和消耗水资源，更符 合环境保护要求，在包含电子信息业的各个产业中，得到迅速的发展和应用，慢 慢在往主流加工方式靠拢。 目前我司Film Sensor供应商主要采用激光镭雕配合丝印的工艺——外围线路采 用镭雕工艺、ITO用丝印工艺
ITO：
ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半 导体透明导电膜,通常有两个性能指标:电阻率和透光率。在氧化物 导电膜中，以掺Sn的In2O3(ITO)膜的透过率最高和导电性能最好, 而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形.其中透光率达90%以上,ITO 中其透光率和阻值分别由In2O3与Sn2O3之比例来控制,通常 Sn2O3:In2O3=1:9,多用于触控面板、触摸屏、冷光片等。
三、电容屏ITO制程工艺简介
丝印工艺（即化学蚀刻法）：
在绝大多数的场合中，化学蚀刻法是ITO 图形制备最成熟和可行的技术，它可以根据你的需 要，生成目前足够精细的图案和相对比较少的前期投资。随着深紫外线技术在曝光设备上的应 用，微米的精度，早已被大多数厂家所实现。它具有高效率、批次稳定性和重复性好、设备投 资额低、配套技术完善等诸多优点，目前仍是大规模生产的主要方向，使用的原料有蚀刻膏、 耐酸油墨、光刻胶。
ITO 是所有电阻技术触屏及电容技术触摸屏都用到的主要材料， 实际上电阻和电容技术触摸屏的工作面就是ITO 涂层。
OCA：
OCA是将光学亚克力胶做成无基材，然后在上下底层各贴合一层离型薄膜，是 一种无基体材料的双面贴合胶带。 特性：高透光率、雾度低、耐紫外线、高粘着力、耐高温、长时间不使用 不发黄
目录
一．Sensor基本常识简介 二．Glass Sensor与Film Sensor的比较 三．电容屏ITO制程工艺简介 四．电容屏Sensor常见不良简介
源自文库
一、Sensor基本常识简介
Glass ITO Film ITO
Sensor：是电容屏的电信号功能 层，其可以是单层材料构成，也可以 是多层材料形成复合结构，俗称"功能 片" 种类及其特点： Film做ITO载体的Sensor ：
Glass做ITO载体的工艺：
单层搭桥： 只需要一片玻璃，一面搭桥做ITO层一面做屏蔽层，主要用于小尺寸的屏， 工艺少、成本低、良率好控制； 双层： 一块玻璃的两面都铺有ITO，由于自电容抗干扰能力弱必须再加一层屏 蔽层，导致成本增加但实现工艺比单层容易，通常把一层ITO做到LENS上 面，另一块玻璃做ITO层和屏蔽层。
蚀刻膏制程（简称干蚀刻）：是直接在产品电极图形区域外印制蚀刻膏，等反应完全后，用蚀刻膏溶 剂，一般是水清洗干净，留下所需的电极图形。因为不用耗费大量的化学物品，对环境污染影响更小， 节省大量水、电费、场地费用，前期投资费用低廉，一般的中小型企业都可以掌握大部分技术。该工艺 的线宽线距一般要求在0.2mm以上，对丝印网版感光胶要求高。 控制要点：温度、蚀刻速度、边缘效应 耐酸油墨制程（简称湿蚀刻）：分为UV 型和热固型。它是在产品电极图形区域内印制阻蚀油墨保护 起来，然后把产品浸入化学蚀刻液中，让产品电极图形区域外部分与化学蚀刻液完全反应后，再把阻蚀 油墨从产品电极图形表面剥离下来，形成产品电极图形。它的线宽和线距做到0.08mm，仍可以达到 95%以上的蚀刻良率 阻蚀油墨的控制要点：针孔度、粘度 保护胶制程：热固型，过酸不过减蚀刻良率较高，成本较高