Virtuoso_Layout_版图基本知识课件

S/D
Gate
D/S PSG
Poly
N-imp
P-sub
The cross section of mos
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Layout
Layout of cmos transistors
Pwell P-imp Active Poly
N-imp contact
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N -im p c o n ta c t
Oxide/Iso Substrate
Al
注：我们在这里指出各个层次说明是为了更好的对下面的实例进行分析
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CMOS Transistor Introduction
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MOS(Cross section)
?集成电路的制造收到工艺水平的限制受到器件物理参数的制约为了保证器件正确工作和提高芯片的成品率要求设计者在版图设计时遵循一定的设计规则designrule这些设计规则直接由流片厂家提供
版图基本知识
MOS器件简介
2009年11月25日
市场IDEA 结构定义 系统设计仿真 电路设计仿真 版图设计 原型&测试 大规模生产
工具介绍
• 我们现阶段主要使用的版图软件有基于 PC的 chiplogic 、 Tanner 公 司 的 L-edit 、 基 于 Cadence的Virtuoso
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virtuoso 使用流程
• 登录到工作站 • 创建版图库、版图单元 • 确立相关技术文件以及配置
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I.工艺流程介绍
现有的IC工艺主要分为： ＊ CMOS工艺 ＊ BIPOLAR工艺 ＊ BICMOS工艺 下面简单介绍CMOS工艺
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层次申明：
w e ll/N B L P -im p A c tiv e P o ly
版图设计规则概述
• 集成电路的制造收到工艺水平的限制，受到器 件物理参数的制约，为了保证器件正确工作和 提高芯片的成品率，要求设计者在版图设计时 遵循一定的设计规则（design rule），这些设 计规则直接由流片厂家提供。
• 设计规则是版图设计与工艺之间的接口。
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c
• 取消操作 u
• 撤销取消操作 shift + u
• 移动
m
• 标尺
k
• 合并
shift + m
• 剪切
shift + c
• 取消选中 ctrl + d
• 标注label
l Virtuoso_Layout_版图基本知识
版图设计规则
• 版图设计规则概念 • 设计规则种类
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设计规则
• 设计规则主要包括最小宽度，层与层之间的最小间距等等。
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版图设计流程
项目下达
资料准备
解剖并照片
照片分析
工艺确认
器件分析整理
工艺选择
方案评估 可行
版图绘制
文件确认
适用性评估
不可行
项目终止
环境配置
模块分配
绘制
验证
数据出代
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• 数字工艺主要以CMOS器件为主，它的做法是在 衬底上直接做出MOS管，和在衬底上扩散出阱， 在阱内做出MOS管，完成电路功能。
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工艺简介
• 随着设计的要求和发展，数模混合电路大量应 用 ， BiCMOS 工 艺 被 开 发 出 来 并 大 量 应 用 。 BiCMOS 工 艺 顾 名 思 义 ， 这 种 工 艺 中 既 包 含 Bipolar器件，也包含CMOS器件。常见的BiCMOS 工艺一般都基于CMOS工艺，利用CMOS工艺中存 在的阱、有源等，寄生出电路所需的的双极管 来。
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目录
• 工艺简介 • 工艺流程介绍 • 工具介绍 • 版图设计规则 • 版图设计流程 • 小结
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工艺简介
• 现有的IC工艺主要分为两大类，分为模拟工艺 和数字工艺。
• 模拟工艺主要以双极器件为主，它的做法是在 晶元上生长外延，在外延上制作双以制造模拟电路。
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virtuoso 常用快捷键
放大
ctrl + z
• 缩小
shift + z
• 画线
p
• 画矩形 r
• 画多边形 shift + p
• 插入单元 i
• 显示属性 q
• 拉伸
s
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