电沉积Ni-S合金硫含量的影响因素

电沉积Ni-S合金硫含量的影响因素
刘芳;何捍卫;周科朝;袁铁锤;刘红江;李军
【期刊名称】《粉末冶金材料科学与工程》
【年(卷),期】2005(010)001
【摘要】用电沉积法制备了Ni-S合金电极,研究了电流密度、镀液温度、镀液pH 值、电沉积时间、硫脲浓度对镀层硫含量的影响;测试了不同硫含量的极化曲线;并用XRD、SEM对镀层进行了表征.结果表明:硫含量随着电流密度、pH值的增高而降低,随着镀液温度的升高、电沉积时间增长而增高;在硫脲浓度为100 g/L时硫含量最高.硫含量在12.5%～16.5%时,Ni-S合金电极析氢电位较低.所获得的镀层有Ni3S2活性成分,并有部分非晶态.镀层经电解后,变得更细,更均匀.
【总页数】5页(P60-64)
【作者】刘芳;何捍卫;周科朝;袁铁锤;刘红江;李军
【作者单位】中南大学,粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083;中南大学,粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083;中南大学,粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083;中南大学,粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083;中南大学,粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083;中船重工集团公司七一八研究所,邯郸,056027
【正文语种】中文
【中图分类】TQ153.2
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