废水特点和成分分析
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磨板废水收集池
9
可回用水
25%
PH、铜离子等
曝光机、面板清洗等
可回用水收集池
10
镀锡废液
1～2%
Sn2SO4(硫酸亚锡)、HCl(盐酸)
电镀锡
退锡废液回收槽
11
碱性蚀刻废液
1～2%
Cu(NH3)4离子、氢氧化氨
碱性蚀刻线
碱性蚀刻液回收槽
B、废水及污染物成分表
序号
设施名称
排放废水中的主要成分
1
显影机
Na2CO3(碳酸钠)、菲林浆
A、废水分类及特点
序号
废水分类
所占
比例
主要污染物
生产线/工序
废水流向
1
酸碱清洗水
40%
PH、悬浮物、铜离子等
大部分工序
综合废水调节池
2
络合铜废水
6%
柠檬酸、氨碱铜、EDTA等
蚀板、化学沉铜
化学铜废水收集池
3
显影油墨废水
2～3%
悬浮物、PH、COD等
化学清洗、显影、脱膜等工序
高有机废液池
4
含氰废水
暂无
5
酸性蚀刻机
菲林碎、蚀刻废液、NaOH（氢氧化钠）、CuCl2（氯化铜）、
HCl(盐酸)、
6
喷锡前处理
(NH4)2S2O3（硫代硫酸铵）、H2SO4(硫酸)、Cu粉
7
图电
除油剂、(NH4)2S2O3（硫代硫酸铵）、H2SO4(硫酸)、CuSO4(硫酸铜)、AuK(CN)3(氰化亚金钾)、Ni(NH2SO3)2(氨基磺酸镍)、NiCl2(氯化镍)、H3BO3(硼酸)
8
化学镍金
除油剂、(NH4)2S2O3（硫代硫酸铵）、H2SO4(硫酸)、离子钯、CN¯(氰化物)、SnCl2(氯化锡)、金缸废液回收、AuK(CN)3(氰化亚金钾)、带出液回收、NiSO4(硫酸镍)、络合物
9
化学洗板机
柠檬酸、板屑
10
喷锡后处理
松香、铅锡（微量）
11
抗氧化拉
氧化剂、护铜液、H2SO4(硫酸)、有机酸
12
返洗房
油墨、NaOH（氢氧化钠）
13
磨板机
H2SO4(硫酸)、Cu粉
14
板面电镀
酸性除油剂
CN¯(氰化物)
镀金钯等
含氰废水收集池
5
浓酸废水
2%
H2SO4(硫酸)、HCl(盐酸)
大部分清洗工序
高废酸贮存池
6
浓碱废水
5～10%
NaOH（氢氧化钠）
蚀板、化学沉铜
铜氨废水贮存池
7
有机废水
10%
COD、悬浮物、PH、氨氮等
蚀板、化学沉铜、显影机清洗等
有机废水调节池
8
磨板废水
10%
PH、铜离子等
磨板机清洗
2
碱性蚀刻线
NaOH（氢氧化钠）、CuCl2（氯化铜）、NH4Cl（氯化氨）、
3
沉铜线
除油剂、KMnO4（高锰酸钾）、(NH4)2S2O3（硫代硫酸铵）、NaOH（氢氧化钠）、EDTA(乙二胺四乙酸)、CuSO4(硫酸铜)、HCOHO(甲酸)、SnCl2(氯化锡)、HCl(盐酸)、胶体钯
4
棕化线
除油剂、(NH4)2S2O3（硫代硫酸铵）、NaOH（氢氧化钠）、Na2CO3(碳酸钠)、H2SO4(硫酸)
9
可回用水
25%
PH、铜离子等
曝光机、面板清洗等
可回用水收集池
10
镀锡废液
1～2%
Sn2SO4(硫酸亚锡)、HCl(盐酸)
电镀锡
退锡废液回收槽
11
碱性蚀刻废液
1～2%
Cu(NH3)4离子、氢氧化氨
碱性蚀刻线
碱性蚀刻液回收槽
B、废水及污染物成分表
序号
设施名称
排放废水中的主要成分
1
显影机
Na2CO3(碳酸钠)、菲林浆
A、废水分类及特点
序号
废水分类
所占
比例
主要污染物
生产线/工序
废水流向
1
酸碱清洗水
40%
PH、悬浮物、铜离子等
大部分工序
综合废水调节池
2
络合铜废水
6%
柠檬酸、氨碱铜、EDTA等
蚀板、化学沉铜
化学铜废水收集池
3
显影油墨废水
2～3%
悬浮物、PH、COD等
化学清洗、显影、脱膜等工序
高有机废液池
4
含氰废水
暂无
5
酸性蚀刻机
菲林碎、蚀刻废液、NaOH（氢氧化钠）、CuCl2（氯化铜）、
HCl(盐酸)、
6
喷锡前处理
(NH4)2S2O3（硫代硫酸铵）、H2SO4(硫酸)、Cu粉
7
图电
除油剂、(NH4)2S2O3（硫代硫酸铵）、H2SO4(硫酸)、CuSO4(硫酸铜)、AuK(CN)3(氰化亚金钾)、Ni(NH2SO3)2(氨基磺酸镍)、NiCl2(氯化镍)、H3BO3(硼酸)
8
化学镍金
除油剂、(NH4)2S2O3（硫代硫酸铵）、H2SO4(硫酸)、离子钯、CN¯(氰化物)、SnCl2(氯化锡)、金缸废液回收、AuK(CN)3(氰化亚金钾)、带出液回收、NiSO4(硫酸镍)、络合物
9
化学洗板机
柠檬酸、板屑
10
喷锡后处理
松香、铅锡（微量）
11
抗氧化拉
氧化剂、护铜液、H2SO4(硫酸)、有机酸
12
返洗房
油墨、NaOH（氢氧化钠）
13
磨板机
H2SO4(硫酸)、Cu粉
14
板面电镀
酸性除油剂
CN¯(氰化物)
镀金钯等
含氰废水收集池
5
浓酸废水
2%
H2SO4(硫酸)、HCl(盐酸)
大部分清洗工序
高废酸贮存池
6
浓碱废水
5～10%
NaOH（氢氧化钠）
蚀板、化学沉铜
铜氨废水贮存池
7
有机废水
10%
COD、悬浮物、PH、氨氮等
蚀板、化学沉铜、显影机清洗等
有机废水调节池
8
磨板废水
10%
PH、铜离子等
磨板机清洗
2
碱性蚀刻线
NaOH（氢氧化钠）、CuCl2（氯化铜）、NH4Cl（氯化氨）、
3
沉铜线
除油剂、KMnO4（高锰酸钾）、(NH4)2S2O3（硫代硫酸铵）、NaOH（氢氧化钠）、EDTA(乙二胺四乙酸)、CuSO4(硫酸铜)、HCOHO(甲酸)、SnCl2(氯化锡)、HCl(盐酸)、胶体钯
4
棕化线
除油剂、(NH4)2S2O3（硫代硫酸铵）、NaOH（氢氧化钠）、Na2CO3(碳酸钠)、H2SO4(硫酸)