一种半导体基片的流体动压抛光装置[实用新型专利]

专利名称：一种半导体基片的流体动压抛光装置专利类型：实用新型专利
发明人：梁华卓,路家斌,阎秋生,陈润
申请号：CN201620483822.4
申请日：20160524
公开号：CN205765540U
公开日：
20161207
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本实用新型公开了一种半导体基片的流体动压抛光装置，包括抛光盘、第一转轴、抛光液、第二转轴、工件盘和待抛光件，所述第二转轴向第一转轴方向水平滑动，所述抛光盘固定安装于所述第一转轴上，所述工件盘固定安装于所述第二转轴上，所述待抛光件固定安装于所述工件盘的下底面，且待抛光件的下底面与所述抛光盘的上表面相接触；所述抛光盘的上表面沿圆周方向设有多个楔形结构，所述抛光液覆盖于所述抛光盘的上表面上。

本实用新型抛光液从待抛光件与楔形结构之间间隙较大地方流向间隙较小的地方而形成流体动压膜，在金刚石磨料或磨头与流体动压膜的双重作用下均匀快速去除抛光工件表面材料，大大提高了抛光加工的均匀性和效率。

申请人：广东工业大学
地址：510062 广东省广州市越秀区东风东路729号
国籍：CN
代理机构：广东广信君达律师事务所
代理人：杨晓松
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