TFT-LCD模组工艺介绍

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TFT-LCD模组工艺介绍

TFT-LCD模组工艺介绍
申超科技
POL
POL贴附
※ 偏光片产生的最大不良时偏光片异物。
POL
一、概述
1. POL定义
POL工艺:将光轴垂直两片偏光片按照一定方向贴在上下玻璃上,在 经过一定的温度、压力、时间脱泡,达到点亮后正常显示的目的。
2.车间资材
车间所用材料:直接材料、消耗材料 直接材料:最终保存在产品上的材料,如:POL、PANEL 消耗材料:最终不存在产品上的材料,如:酒精、全棉纸、无尘布、刀片等;
工序介绍
TUFFY 涂敷
目的:将端子区域涂上一层 保护层,保护ITO电极。
遮光带粘贴
目的:将端子正反两面贴上 黑色的遮光带,使IC不受光 照,保护脆弱的IC芯片。
工序介绍
U/V涂敷&固化
目的:将FPC与PANEL连接处涂上粘力很强的UV胶,使FPC 更加牢固地固定在PANEL上。
工序介绍
组装
目的:最主要的目的是使背光源焊接到FPC上,为显示提供光。 组装客户所要求的所有部件。
工位常见不良: 原材不良:FPC材质不良、FPC线路刻痕等 作业不良:FPC压接错位、FPC剥离强度不够(温度、压力、时间选择)、FPC邦定异物、 偏光片烫伤
FOG车间
上下错位判定基准
水平对 位标记 水平对位,向下或者向上错位,若错位超出出一个水平对位BUMP的宽度(或 ITO的宽度),为不良.水平对位标记FPC BUMP和PANEL ITO有重叠就为良品
RUBBER放置时重叠导致温 度压力异常
FOG车间
4、导电球状态及错位基准
左右错位判定基准
两边空的线路,不作为错位判定基准
两边第一根有效线路,作为判定的基准
若错出的宽度超出BUMP宽度(或ITO的宽度)的1/2,判定为不良品;若错出1/2或1/2以 内,判定为良品.

tft-lcd生产工艺

tft-lcd生产工艺

tft-lcd生产工艺
TFT-LCD是一种液晶显示技术,全称为薄膜晶体管液晶显示器。

TFT-LCD生产工艺主要包括以下几个步骤:
1. 基板清洗:将玻璃基板放入清洗机内,通过化学溶液和超声波清洗,去除表面的污染物和杂质。

2. 蒸镀:将清洗后的基板放入真空蒸镀机内,通过热蒸发或磁控溅射的方式,将ITO(氧化铟锡)等导电材料薄膜均匀地沉积在基板上,形成液晶显示器的电极。

3. 形成图形:利用UV曝光机将光掩膜与基板层叠在一起进行曝光,然后通过显影和蚀刻的步骤,去除未曝光的部分物质,形成规定的图形。

4. 涂布液晶层:将液晶原料涂布在形成图形的基板上,然后通过加热和冷却控制液晶分子的方向和排列,形成液晶层。

5. 定位贴合:将两块涂有液晶层的基板通过真空吸附的方式,精确地对准并叠放在一起,形成液晶显示区域。

同时,在两块基板的边缘区域添加背光源、驱动IC等组件。

6. 封装:将贴合好的基板放入封装机内,通过高温封装胶或薄膜封装胶封住整个液晶显示器结构,保护液晶显示区域以及内部电路。

7. 背光模组制造:制作背光源,通常采用CCFL(冷阴极荧光
灯)或LED(发光二极管),通过封装、组装等过程,将背
光源和液晶显示器组装在一起。

8. 电功能测试:对制作好的液晶显示器进行电功能测试,确保其正常工作。

以上是TFT-LCD生产工艺的基本流程,当然还有很多其他细
节的工艺步骤,如氧化硅沉积、染料封装等。

随着技术的发展,TFT-LCD生产工艺也在不断改进和完善,以提高产品的质量
和性能。

TFTLCD阵列工艺介绍解析ppt

TFTLCD阵列工艺介绍解析ppt
如氧化物、氮化物等,用于隔离不 同层级的电子元件。
光学材料
如液晶、彩色滤光片等,用于实现 图像显示。
制程中的工艺技术
光刻技术
刻蚀技术
薄膜淀积技术
离子注入技术
其他技术
利用光学曝光将设计好 的电路图案转移到半导 体或导体材料上。
通过化学或物理方法将 不需要的材料去除,形 成电路和元件结构。
在半导体或导体表面形 成一层或多层薄膜,以 实现电子元件的功能。
tftlcd阵列工艺介绍解析ppt
xx年xx月xx日
目 录
• tftlcd阵列工艺简介 • tftlcd阵列工艺制程 • tftlcd阵列工艺技术特点 • tftlcd阵列工艺应用 • tftlcd阵列工艺的未来展望
01
tftlcd阵列工艺简介
tftlcd定义
显示屏幕的构成
TFT-LCD(Thin-Film Transistor Liquid Crystal Display)是薄膜晶体管液晶显示 器的英文缩写,它是一种被动式矩阵液晶 显示器,由彩色滤光片、偏光片、TFT( 薄膜晶体管)等部件构成。
医疗器械应用
随着医疗器械的不断发展,TFT-LCD技术将越来越被广泛应用于 医疗设备和器械中,例如医用监护仪、彩超等。
AR/VR领域
随着AR/VR技术的不断发展和普及,TFT-LCD技术将在这个领域发 挥越来越重要的作用,例如头戴式显示器等设备。
THANKS
感谢观看
加省电并具有更长的续航时间。
响应速度快
03
TFT-LCD的响应时间相对较快,能够在短时间内完成图像切换
,从而提高用户的交互体验。
工艺技术的不足
成本高
由于TFT-LCD阵列工艺的生产过程复杂,需要精密的设备和原 材料,因此其成本相对较高。

TFT-LCD模组工艺介绍

TFT-LCD模组工艺介绍

COG B/D
COG B/D工序介绍
目的:将IC B/D到PANEL上,IC相当于人的大脑,要使PANEL实现显 示必须有IC进行驱动。
COG车间
一、概述 1. COG定义 COG工艺:将IC直接邦定在玻璃上工艺,在一定温度、压力、时间下通过ACF实现 上下电极导通,达到显示目的。产品型号不同,但主要工艺路径基本相同。 2. 资材 COG所用材料:直接材料、消耗材料 直接材料:最终保存在产品上的材料,如:IC、ACF、PANEL、POL 消耗材料:最终不存在产品上的材料,如:酒精、全棉纸、无尘布、特氟龙等; 名词解释: IC:集成电路 特氟龙:缓冲材料 ACF:各向异性导电胶 POL A:带有POL的屏
7、NICK
POL工序介绍
压泡
目的:去除偏光片贴附过程中可能出现的气泡。
设备操作较简单,以下点需要注意: ●进出洁净棚动作尽量小 ●小心取放,开启时注意周围无人
向上扳动操作面板上的“DOOR” 键打开仓门注意用手轻推仓门,
确认旁边无人
向下扳动操作
面板上的 “DOOR”键关
闭仓门
按“START”键, 开始压泡
端子清洗主要作业过程:准备作业——正式作业——后作业
作业步骤:无尘布折叠一定形状——按一定顺序清洗——擦试后检查 主要直资:带有POL的PANEL
COG车间
COG邦定
ACF粘贴单元
ACF粘贴目的:通过ACF,在一定温度、压力、时间下,实现IC与PANEL电极导 通,达到显示目的。
ACF粘贴过程中主要不良:ACF贴不上、ACF贴歪、邦定异物(在ACF与屏线路 之间;在ACF上表面),MARK点报警等等
IC主邦定中主要不良:IC导电球压接不均、IC破损,IC错位等等

tft lcd生产工艺流程

tft lcd生产工艺流程

tft lcd生产工艺流程TFT LCD(Thin-Film Transistor Liquid Crystal Display)是一种采用薄膜晶体管技术制作的液晶显示器。

下面是关于TFTLCD生产工艺流程的简要介绍。

第一步:基板准备TFT LCD的制造过程首先需要准备好基板。

常见的基板材料有玻璃和塑料,通常使用的是玻璃基板。

基板会经过清洗和表面处理等步骤,确保其表面干净平整。

第二步:背板制备接下来需要制作液晶显示器的背板。

背板通常是由非晶硅等材料制成,分为多个层次,包括玻璃、金属层和透明导电层等。

这些层次通过物理沉积和化学气相沉积等方法形成。

第三步:薄膜晶体管制备在背板上制作薄膜晶体管(TFT)是制造TFT LCD的关键步骤。

首先,在背板上涂覆一层非晶硅薄膜,然后使用光刻技术将其进行精确刻画。

接着,通过光刻和铜蒸发等技术制作导线,形成TFT电路。

最后,使用激光修复技术进行检查和维修。

第四步:液晶贴合液晶贴合是将液晶层与TFT基板粘接在一起的过程。

首先,将液晶层通过喷洒、滚压或涂覆等方式涂覆在TFT基板上,然后使用蒸发技术制备对齐膜。

接着,将液晶层和TFT基板对齐,然后进行加热和压力处理,使其牢固贴合在一起。

第五步:封装在液晶贴合完成后,需要对TFT LCD进行封装。

这涉及将TFT LCD置于玻璃基板之间,形成密封结构。

然后将结构封装在金属或塑料外壳中,以保护内部结构。

第六步:测试和检验生产完毕后,对TFT LCD进行测试和检验是确保质量的关键步骤。

这包括对液晶显示器的像素、亮度、对比度和色彩等方面进行检测,并进行修复或调整。

总结:以上是TFT LCD生产工艺流程的简要介绍。

整个制造过程包括基板准备、背板制备、薄膜晶体管制备、液晶贴合、封装和测试等步骤。

每个步骤都需要高度的精确度和技术要求,以确保TFT LCD的质量和性能。

TFT-LCD制造工艺

TFT-LCD制造工艺

TFT-LCD制造工艺1.衬底制备:首先,要准备一个光学质量的镜片或玻璃衬底。

这个衬底需要经过平整、清洁和化学处理等步骤,以便为后续的层堆栈提供一个均匀和精确的表面。

2.清洗和光刻:接下来,衬底被放入一个洗涤槽中,使用化学物质和机械手段进行清洗。

清洗后,一层光刻胶沉积在衬底上。

光刻机根据设计和控制的模板光刻胶,形成透明的图案,作为后续步骤的参考。

3.薄膜沉积:在清洗和光刻步骤之后,一层薄膜被沉积在衬底上来形成TFT的晶体管结构。

沉积这层薄膜使用的技术有热升华、蒸镀和溅射等。

这些薄膜可以是金属、半导体或绝缘体,根据晶体管的类型而定。

4.晶体管制造:晶体管是TFT-LCD显示器的关键部分。

晶体管可以通过多种方法制造,其中一种常见的方法是光刻技术。

在这个步骤中,一个透明导电薄膜被刻蚀成一个晶体管的形状。

这个透明导电薄膜通常是以氧化铟锡(ITO)为主。

5.液晶填充和封装:晶体管结构完成后,液晶材料填充到显示器的内部。

液晶材料通常是一个有机化合物,可以通过电场控制其光学性质。

一旦液晶填充完成,显示器会被密封,以保护液晶材料不受外部环境的干扰。

6.后期处理:生产完成之后,还需要进行后期处理,包括修整、测试和包装等。

显示器需要经过高温处理,以确保它的性能和质量。

然后,显示器会被测试,以确保其符合规定的标准。

最后,显示器会被包装,以便运输和销售。

总的来说,TFT-LCD的制造工艺是一个复杂而精细的过程,需要多个步骤和工序的精确控制。

只有当每个步骤都被正确执行和控制,才能生产出高质量和可靠的TFT-LCD显示器。

TFTLCD模组工艺介绍

TFTLCD模组工艺介绍

TFTLCD模组工艺介绍TFT LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display)是一种主动矩阵液晶显示技术,被广泛应用于电子设备的显示屏中。

TFT LCD模组工艺是指将液晶显示屏及相关元器件,如驱动电路、背光源等组装到一个整体的模组中的制造过程。

以下是TFT LCD模组工艺的介绍。

1.玻璃基板切割:TFTLCD的制造过程从玻璃基板切割开始。

玻璃基板根据显示屏尺寸进行切割,通常采用大块玻璃进行切割,随后经过精密的加工和打磨,形成规定尺寸的玻璃基板。

2.玻璃基板预处理:切割后的玻璃基板需要进行一系列的预处理工艺,包括玻璃基板清洗、光刻涂覆、烘干等。

这些步骤旨在去除基板表面的杂质、改善基板表面的平整度,并为后续的生产步骤做好准备。

3.光刻:在玻璃基板上进行光刻工艺是制造TFTLCD关键的一步。

光刻将光敏材料,如光刻胶,涂覆在玻璃基板上,并通过光刻机进行曝光、显影等步骤,形成光刻图案。

这些图案将被用于制造TFT(薄膜晶体管)。

4.涂布TFT膜:在光刻完成后,需要将TFT膜沉积在基板上。

这一步骤通常采用物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)的方式进行。

TFT薄膜的组成包括导电层、绝缘层和半导体层,这些层的顺序和厚度对TFTLCD的性能有较大的影响。

5.激活和切割TFT膜:经过涂布TFT膜之后,需要进行激活和切割工艺。

激活是将TFT膜中的导电层和半导体层结合起来,形成可用的晶体管。

切割则是将基板切割成适当尺寸的小块,每块即成为一个TFT液晶显示单元。

6.液晶填充:切割好的基板需要进行液晶的填充。

液晶是一种特殊的有机化合物,在涂布到基板上之前需要经过一系列的净化和控制工艺。

液晶填充是整个工艺中最关键的一步,它决定了液晶显示屏的品质和性能。

7.封装:液晶填充后,需要将两块基板用密封胶水封装在一起,形成液晶显示屏的最终结构。

封装过程需要控制温度和压力,确保液晶层均匀分布,并排除气泡等问题。

tft lcd生产工艺流程

tft lcd生产工艺流程

tft lcd生产工艺流程TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)是一种高质量的平面显示技术,广泛应用于计算机、电视、手机和平板电脑等电子产品中。

下面是一个简要的TFT-LCD生产工艺流程的概述,包括薄膜涂布、模制、曝光、切割、组装和测试等步骤。

首先,薄膜涂布是整个生产工艺的第一步。

在这个步骤中,生产商会使用具有特殊化学成分的溶液,将液晶的薄膜涂布在玻璃基板上。

这个溶液通常包含液晶分子、聚合物和其他添加剂。

薄膜涂布对于最终产品的质量和性能非常重要。

接下来是模制步骤,也称为亨德尔过程。

在这个步骤中,玻璃基板上的薄膜被切割成所需的尺寸和形状。

这些切割好的基板将成为液晶显示器的各个部分。

然后是曝光步骤。

在这个步骤中,通过将特定的光线照射在液晶层上,将所需的图案和图像“曝光”在液晶中,形成所需的像素。

这个步骤非常关键,因为它决定了TFT-LCD显示器的分辨率和图像质量。

接下来是切割步骤。

在这个步骤中,将刚刚曝光完毕的玻璃基板切割成所需的尺寸,并将其分成多个独立的显示器单元。

这样可以保证每个单元都能够独立地显示图像和信息。

然后是组装步骤。

在这个步骤中,经过切割的显示器模块将被组装成完整的显示器。

这包括将各个部件(如液晶层、背光模块和电路板)连接在一起,并且进行胶合和固定。

组装过程通常需要非常精确的工艺和设备,以确保显示器的性能和品质。

最后是测试步骤。

在这个步骤中,已经组装完成的显示器将经过一系列的测试,以确保其质量和性能达到要求。

测试项目可能包括像素点亮、亮度调整、对比度检测、颜色准确性等等。

只有通过各项测试的显示器才会被认为是合格的,可以被投放到市场上销售。

综上所述,TFT-LCD的生产工艺流程包括薄膜涂布、模制、曝光、切割、组装和测试等步骤。

这些步骤的每个环节都非常重要,对于最终产品的质量和性能起到了决定性的作用。

随着技术的不断进步,TFT-LCD的生产工艺也在不断演进和改进,以满足市场对高质量和高分辨率显示器的需求。

tft-lcd 模组工艺

tft-lcd 模组工艺

tft-lcd 模组工艺TFTLCD模块是一种集成了显示器、控制器、驱动器、信号处理器等功能的模块化显示设备。

其工艺可分为几个步骤:基板制备、光刻、蒸镀、涂层、封装等。

一、基板制备TFTLCD模块的基板需要精细的加工,以便将灵敏的电子元件以及微细的电路布线放置在上面。

基板制备的过程包括以下几个步骤:1.基材选择将尺寸、机械强度和热膨胀系数等因素考虑在内,选择适合的基材。

2.基板清洗在制造TFTLCD模块前,基板需要经过多次清洗,以清除杂质和油污,以及保证基板表面的平整度和纯度。

3.光刻蚀刻在基板表面涂上光刻胶,然后利用光刻机器将图案暴光到光刻胶上。

通过化学处理,将涂有光刻胶的区域蚀刻掉,形成需要的线路和电路。

二、光刻光刻工艺是制备TFTLCD模块中最重要的部分之一。

光刻工艺主要用于将模块内部的线路、IC等器件图案投射到基板上,然后通过化学蚀刻技术来形成隔离区域以及元器件连接的电路板线路等组成部分。

在光刻工艺中,主要包含以下几个步骤:1.光掩膜制作通过绘图软件和光刻技术,将TFTLCD模块的金属线路和元器件的图案反映到光掩膜上。

2.光刻在半导体制造中,光刻机器一般使用UV光在光刻胶外的区域形成透明模板,通过蒸发法将金属层沉积到模板上,最终形成需要的电路图案。

3.蚀刻经过光刻之后,需要通过蚀刻技术进行清洗,以去除不需要的金属片,以及一些残留的光刻胶等杂质。

三、蒸镀蒸镀是在制造TFTLCD模块中最重要的步骤之一。

它包括物理气相沉积和化学气相沉积两种方式,可用于制造透明导电氧化锌层或透明电极,从而通过触控来操控触摸屏。

蒸镀的步骤主要包括:1.产生沉积物利用化学或物理方法的反应,在基板上产生薄层的金属或化合物。

2.沉积在真空中,利用热源或电子束等方式,将沉积物沉积到基板上形成所需的功能层。

3.整形根据层数和功能的不同,需要对沉积物进行整形,以确保其可以正确连接到其他电路和器件。

四、涂层涂层是制造TFTLCD模块中的一个重要步骤,可用于保护基板、光刻胶以及电路等关键部分,避免机械损坏和氧化腐蚀。

tftlcd实装生产工艺

tftlcd实装生产工艺

tftlcd实装生产工艺TFT LCD(薄膜晶体管液晶显示器)是一种常见的液晶显示技术,广泛应用于智能手机、平板电脑、电视等电子产品中。

TFT LCD的实装生产工艺是一个非常复杂的过程,需要经过多个步骤来完成。

本文将为您介绍TFT LCD实装生产工艺的主要步骤。

首先是基板制备。

生产TFT LCD的第一步是制备基板,通常采用的是玻璃或塑料基板。

基板需要进行平整化处理,以确保后续的图案制作和尺寸控制的准确性。

接下来是光刻和蒸发。

光刻是制造TFT LCD的核心步骤之一,它通过光源照射暴露光刻胶,然后用化学液体进行处理。

这样可以形成微小的光刻图案,用于制造晶体管等器件。

蒸发则是使用高温和真空的环境,将金属材料蒸发到基板上,形成导电层和结构层。

接下来是涂覆和对准。

在涂覆步骤中,通过机器将液态的液晶材料均匀地涂覆在基板上,形成液晶层。

对准则是通过高精度的设备,将基板上的各个层次对准,确保后续的光学效果和显示品质。

然后是封装和切割。

封装是将制作好的液晶层和控制电路封装在一起,形成LCD模组。

切割是将大面积的模组切割成单个LCD屏幕,以便后续的组装和使用。

最后是组装和测试。

在组装步骤中,将已经切割好的LCD屏幕与后光源、触摸屏、连接器等组件一起组装在一起。

测试则是对组装好的LCD屏幕进行各项测试,确保其电路连接、显示效果等达到标准要求。

总结起来,TFT LCD实装生产工艺是一个复杂而精细的过程,需要通过多个步骤来完成。

每个步骤都需要使用高精度的设备和精密的技术来保证制造出的LCD屏幕具有良好的显示效果和稳定的品质。

随着科技的不断发展,TFT LCD生产工艺也在不断创新和改进,以满足对于更高分辨率、更快刷新率等要求的不断增长的市场需求。

tft-lcd工艺

tft-lcd工艺

TFT-LCD工艺是一种制造液晶显示器的方法,以下是其详细步骤:
1.掩膜制作:在TFT-LCD的生产过程中,需要使用金属掩膜来定义每个像
素的位置。

通过光刻技术,将金属掩膜上的图案转移到底片上,形成像素点的排列。

这个步骤的关键是确保掩膜的制作精度和稳定性。

2.刻蚀:刻蚀是将底片上金属掩膜之外的区域去除,只保留需要的图案。


可以通过化学或物理的方式完成。

刻蚀是整个工艺中最关键的一步,任何偏差都可能导致显示器的质量问题,因此需要非常精确和细致的处理。

3.涂膜:在玻璃基板上涂布一层薄膜,如薄膜晶体管、色滤镜、间隔物等。

这层薄膜的质量会直接影响到TFT-LCD的品质。

4.成像:利用光刻技术将涂布在玻璃基板上的薄膜刻画成特定的形状,形成
电路和像素结构。

5.注入液晶:将液晶注入到已经制作好的TFT玻璃盒中,并施加电压使液
晶分子排列起来。

6.背光源:在TFT玻璃下方放置背光源,以提供光源照亮液晶像素。

7.测试与包装:对TFT-LCD进行测试和检查,确保其性能和质量符合要求,
并进行包装和运输。

以上步骤只是TFT-LCD工艺的基本步骤,具体的制造过程会因工艺和技术的发展而有所不同。

TFT-LCD阵列工艺介绍(PPT38张)

TFT-LCD阵列工艺介绍(PPT38张)

33
3.7 O/S测定
Gate Etching 剥离完了
O/S check
O/S check
Short&Open缺陷检出
自动外观检查
Laser Repair (Short)
G-Open
Laser CVD (Open)
G-Com short
实例:用于G极断路和短路的检查
34
AC 200V

完全非接触的测量方法 可以避免玻璃表面的划伤
刻蚀Mura、剥离残留
Mura有无 刻蚀Mura、剥离残留 PR涂敷Mura等 刻蚀Mura、剥离残留 PR涂敷Mura等 刻蚀Mura、剥离残留
22
・装置原理
Micro検査 光学系统X,Y轴可以移动进行目视观察。 明/暗视野、透过照明、干渉光观察等。
CCD Camera Or 接眼目視镜筒 落斜照明
表4 线幅check项目
工程 G-PR G剥离 DIPR DI剥离 测量项目 PR后光刻胶图形——G线线宽 G剥离后金属图型——G线线宽 PR后光刻胶图形——D线线宽、DI/G重合精度 DI剥离后图形——D线线宽、沟道长度L
25
3.3 PR形状测定
检查装置:原子力显微镜(AFM)
工程 DIPR 测量项目 PR后光刻胶图形——沟道处残膜厚度
PI-PR剥离
D-WE
CH-DE D-PR剥离 图15 4mask和5mask工艺流程图
20
三、阵列检查介绍

工程检查的目的 对上一工序的工艺结果进行监测,防止生产线上不符合工艺管理规格的不 良品大量产生。
表2 Array工程检查项目概况
检查项目名称
显影Check 剥离外观Check

TFTLCD模组工艺介绍

TFTLCD模组工艺介绍

TFTLCD模组工艺介绍TFTLCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display)是一种目前广泛应用于电视、电脑显示器和移动设备上的液晶显示技术。

TFTLCD模组是基于TFT技术的LCD显示屏模块,具有高精度、高亮度、高对比度和高刷新率等优点。

首先,TFTLCD模组的工艺开始于玻璃衬底的制备。

玻璃衬底通常是由硅基玻璃材料制成,经过高温处理和平整化处理后的玻璃衬底具有较好的物理性能和平整度。

接下来,玻璃衬底上进行涂布层的制备。

涂布层是用来提高透光性和平整度的一层透明材料。

在制备涂布层时,需要将液态的透明材料均匀涂布在玻璃衬底上,并通过烘烤或紫外光固化等处理方式使涂布层形成均匀致密的薄膜。

然后,在涂布层上制备透明导电膜。

透明导电膜一般是由氧化铟锡(ITO)等材料制成,具有很好的导电性和透光性。

制备透明导电膜时,通过物理或化学方法将透明导电材料薄膜沉积在涂布层上,并通过烘烤或紫外光固化等处理方式使导电膜转化为薄膜状。

接下来是制备TFT(Thin Film Transistor)晶体管。

TFT晶体管通过在透明导电膜上制备氧化硅(SiO2)绝缘层、源和漏极、栅极和薄膜晶体管等结构,实现对液晶的驱动。

TFT晶体管的制备通常采用光刻、蒸发、溅射、离子注入等制程技术。

然后,将液晶材料填充在TFT晶体管和透明导电膜之间形成液晶层。

液晶是一种具有液态与固态特性的有机材料,其分子排列结构可通过外加电场改变,从而实现对光的调控。

在液晶模组制备中,需要在透明导电膜上涂布公共电极,然后在公共电极和TFT晶体管之间加入边界电极,通过电场效应将液晶排列在规则的结构中。

最后,进行封装和封袋工艺。

封装是将制备好的模组组装到外壳中,并接入电源和信号源,以实现对TFTLCD的控制和驱动。

封袋是将模组封装在透明塑料袋中,防止灰尘和污染物进入模组内部,并保护模组。

总的来说,TFTLCD模组工艺是一个复杂的流程和技术体系,涉及多种材料和制程技术。

TFT-LCDARRAY,CELL,MODULE工艺技术介绍

TFT-LCDARRAY,CELL,MODULE工艺技术介绍

成膜
CVD・Sputter [膜] [Glass]
G
178
Lithography
反复 (a) (b) 曝光 (c) 显像 (d) Etching (e) 剥离
C D/I
329
[Mask]
314
354
PI
287
5
二、4Mask与5Mask工艺对比
1600 1400 1200 287 354 287 354 314 579 329 G 178 4Mask 178 5Mask PI C D I D/I
I-DE
PR-DE
D-WE
D2-WE
CH-DE
CH-DE
7
三、ARRAY基板的工艺流程
工艺名称 洗净 工艺目的 清洁基板表面,防止成膜不良
溅射(SPUTTER)
P-CVD PR/曝光
成Al膜、Cr膜和ITO膜
成a-Si膜、n+a-Si膜和SiNx膜 形成与MASK图案相一致的光刻胶图案
湿刻(WE)
S4 X3Type 1sheet Max3sheet
Sputter X3Type (1~3Target)
VacRob 2sheet
UpperSlot-Load (Heating) UnderSlot-Unload (Cooling)
Cassette Loader
AtmRob 2sheet
cassette1 20sheet
药 液
洗净 功能
洗净对象 作 用
氧化分解 有机物 (浸润性改善) UV/O3
溶 解 有机物 溶 解
机械剥离 微粒子 (大径)
机械剥离 微粒子 (中径) 水压
接触压
机械剥离 微粒子 (小径) 加速度 cavitation 10

TFT-LCD制造工艺

TFT-LCD制造工艺

TFT-LCD制造工艺1.基板制备:2.对齐和曝光:在基板上涂覆一层透明导电层,常用的是氧化铟锡(ITO)。

然后利用光刻技术,在导电层上创建一个薄膜晶体管的图案。

这个过程包括对齐和曝光,通过对光源进行控制,实现所需图案的精确传输到导电层上。

3.沉积涂覆:液晶屏中的液晶材料需要通过沉积涂覆的方法添加到基板上。

在这个步骤中,通过将液晶材料放置在基板上,并使用液晶电池技术来控制其密度和均匀性。

高质量的沉积涂覆可以确保液晶屏的显示效果和性能。

4.硅片蚀刻:接下来的步骤是利用化学气相沉积技术在基板上生长非晶硅薄膜。

然后使用蚀刻技术去除多余的硅片,创建所需的晶体管结构。

5.金属沉积:在晶体管结构中,需要添加金属图层用于连接和信号传输。

利用金属沉积技术,可以在基板上添加铜、铝等金属,以创建电极和导线。

6.封装:液晶屏通常是由两片基板共同构成的。

在液晶材料添加和晶体管等加工步骤完成后,将两片基板紧密封装在一起,并加入适量的液晶材料。

然后,在封装边缘处加入密封剂,确保液晶材料不泄漏。

7.后续处理:在液晶显示器制造的最后阶段,进行一系列的后续处理步骤,以保证显示器的性能和质量。

这些步骤包括对屏幕进行清洁、检查和测试,修复任何可能出现的问题,并最终对显示器进行封装。

总结:TFT-LCD的制造工艺是一个复杂的过程,需要多种材料和技术的配合。

从基板制备到最终的封装,每一步都需要高度的精确性和质量控制。

这种制造工艺的持续改进和创新,对于液晶显示器技术的发展和进步起到了重要的作用。

TFT-LCD液晶面板模组的生产工艺

TFT-LCD液晶面板模组的生产工艺

原理、生产流程概述所谓“模组”厂(LCM)其实是液晶显示器的“后段”生产过程,顾名思义,模组二字即模块组合,它共有三个步骤:第一步:将LCD液晶成品面板(Cell)、异方向性导电胶(ACF)、驱动IC、柔性线路板(FPC)和PCB电路板利用机台压合(其间需在太上老君炼丹炉内经过一定的温度和压力才能练就火眼金睛:),第二步:接下来和背光板、灯源、铁框一齐组装成品;第三步:老化处理,经过重重检测就是我们见到的“液晶面板了”。

总之,相对于第五代面板厂那种天价的投资(动辄数十亿美元)、惊人的占地面积(起码五个足球场)和需要的无数高精尖设备(全在美国对大陆禁运之列),模组厂在技术、规模上还属于小巫见大巫的,不过能亲眼进入无尘车间也是一大快事,在进入车间前,沐浴修身是不必了,不过所有的电子设备包括数码相机、手机等均需统统枪毙。

在用图片展示整个生产流程之前,我们还是先来了解一下液晶显示面板的工作原理吧,这能加深我们对工厂的认识。

TFT-LCD液晶屏显示原理液晶显示屏是透过硅玻璃上的电路形成电场,来驱动玻璃与滤光片间的液晶分子,在自然状态下呈并列平行排列,当电路对液晶层施加电场,液晶分子会朝不同的方向偏转,这时液晶类似于开关作用可以让光线通过,令液晶层形成不同的透光效果,从而达到显示不同画面的目的.好,有了这个基础,我们沿着生产流程来看.首先,在制造过程中,组装区和包装区所需要的“人力”成本还是相当可观,因此难怪台湾纷纷把大陆作为模组部分的首选——除接近客户外也可大幅降低成本。

生产流程详述看到液晶面板,你能明白第一步有几个元件需要压合吗?首先是异方向性导电胶(ACF)贴附:利用异方向性导电胶(可当作双面胶看待)黏附于IC 和Cell间,提供导通和粘合之功能;其次进行集成电路(IC)压合作业,目的是为了使面板线路与IC线路通过导电粒子导通,以达到电流信号流通的目的。

接下来是可挠式线路板(FPC)压合作业:FPC是软性印刷板,起连接讯号的作用,经过这一步压合我们可以使面板线路与FPC线路通过导电粒子导通以顺利连接信号.最后一步压合是集成电路板(PCBA)压合,通过这个步骤我们可以达到两个目的,一是可以使FPC和PCB的线路通过导电粒子导通,从而让电流信号流通,第二是机台压合提供一定的温度、压力通过控制压合时间,AFC可在高温下聚合硬化而将两种不同材料连在一起以提供足够的工作强度。

TFTLCD模组工艺介绍

TFTLCD模组工艺介绍

TFTLCD模组工艺介绍TFT(Thin-Film Transistor)液晶显示模组是一种先进的平面显示技术,广泛应用于智能手机、平板电脑、电视和计算机等电子设备中。

TFT液晶模组是由TFT液晶面板、背光源、IC驱动器、触摸面板和其他辅助零部件组成的。

本文将介绍TFT液晶模组的工艺流程。

1.玻璃基板处理:TFT液晶模组的制造过程通常从玻璃基板处理开始。

通常使用的是玻璃基板,大多数情况下是高质量的平板玻璃。

这些玻璃基板首先会经过清洗、干燥和去除尘埃等步骤,以确保基板的表面净度和平整度。

2.色彩滤光片制备:每个像素都有一个三原色滤光片,用于产生各种颜色的显示效果。

色彩滤光片通常由高分子材料制成,然后通过为每个像素区域逐一着色。

3.涂布薄膜制备:在液晶显示模组中,涂布多种材料用于形成不同的薄膜。

其中包括ITO(Indium Tin Oxide)透明导电薄膜,以及对齐膜和保护膜等。

这些薄膜通常通过溅射或喷涂等技术进行制备。

4.铭刻和曝光:在液晶显示模组中,部分结构需要通过光刻技术进行制备。

这需要使用光刻胶来覆盖材料表面,然后在光刻设备中进行曝光和开发,以形成所需的结构。

5.触摸屏集成:一些TFT液晶模组还包括触摸屏功能。

触摸屏通常是通过喷墨印刷或蒸发沉积技术制备的,并与液晶面板的一侧集成,以实现触摸操作功能。

6.液晶面板组装:在液晶显示模组制造的最后阶段,液晶面板和其他组件被组装在一起。

这包括将色彩滤光片、背光源、IC驱动器和触摸屏等各个部分组装在一起,并使用胶水、紧固件和导电胶来确保它们的稳定性和连接性。

7.测试和封装:在TFT液晶模组制造过程的最后,模组会经过严格的测试和封装,以确保其质量和性能。

测试通常包括检查显示质量、触摸屏响应和背光源亮度等方面。

总的来说,TFT液晶模组的制造过程非常复杂,需要多个步骤和不同的技术。

通过这些工艺,可以生产出高质量、高分辨率和高性能的液晶显示模组,满足现代电子设备对显示质量的要求。

TFT-LCD制造工艺

TFT-LCD制造工艺

TFT-LCD制造工艺
一、TFT-LCD制造工艺简介
TFT-LCD(Thin film transistor liquid crystal display)即薄膜
晶体管液晶显示器,它是一种常用的新型显示设备,它集传统连续液晶显
示器和面板模组的优点于一身,具有面积、重量小、耗电低以及良好的显
示效果等特点,被广泛应用于笔记本电脑、智能手机、电子投影仪、汽车
显示屏等各类电子设备上。

二、TFT-LCD制造工艺过程
1、薄膜晶体管面板模组制造
TFT-LCD制造中最基本的部件就是薄膜晶体管面板模组。

薄膜晶体管
面板模组制造复杂,涉及的化学和物理知识十分广泛,其主要工艺流程有:清洗、干燥、喷镀、光刻、蚀刻、无机覆盖层制作、结构层制作、转印、
钝化、离子注入等。

2、连续液晶制造
连续液晶制造涉及制备液晶显示材料、连续线上液晶制备技术以及连
续线上液晶检测技术。

TFT-LCD面板的制造工艺流程(图解)

TFT-LCD面板的制造工艺流程(图解)

TFT-LCD面板的制造工艺流程(图解)TFT-LCD是什么,这个在这里就不给大家介绍了,需要了解的在网站的产品介绍页面也是有的哦。

TFT-LCD主要的三段制程:首先是前段Array前段部分的Array 制程和半导体制程相似,但是不同的是将薄膜电晶体制作在玻璃之上,而不是矽晶圆上面。

然后是中段Cell中段部分的Cell ,是以前段的Array玻璃作为基板,和彩色的滤光片玻璃基板相结合,并且在两片玻璃基板之间灌入液晶(LC)。

最后是后段Module Assembly (模组组装)后段模组的组装制程则是将Cell制程之后的玻璃和其他的如电路、外框、背光板等等多种零组件组装生产的作业。

TFT-LCD面板的制作流程:薄膜晶体管液晶显示屏TFT-LCD)的模块薄膜晶体管液晶显示器模块:TFT-LCD:三明治一样的构造液晶显示屏的构造就如同三明治一样,将液晶夹杂在两片玻璃基板之间,这两片玻璃基板呢,就是TFT Array玻璃和彩色的滤光片。

在TFT Array玻璃的上面有着无数的画素(pixel)排列着,而彩色的滤光片则是画面颜色的重要来源,液晶呢便夹杂在TFT Array以及彩色的滤光片之间。

当电压在TFT(晶体管)的时候,液晶转向,那么光线便穿过了液晶在面板上面产生了一个画素,而此光源呢,则是由背光模块所负责提供的。

此时,彩色的滤光片给予了每一个画素特定的一个颜色。

结合了每一个不同颜色的画素最后所呈现出的,就是面板前端的影像了。

TFT-LCD:三明治一样的构造:经过300道以上的制程而产生TFT-LCD必须是在精密的无尘室之内,经过300道以上的制程而生产出来的。

无尘室的最高洁净度等级可以达到「10 」(即:在无尘室的环境之内,每立方尺最多只有10颗粉尘)。

经过300道以上的制程产生过程:TFT-LCD 工厂——世代和尺寸TFT-LCD 的工厂从以前的1代工厂演进到了现今的7.5代工厂,各个世代的厂房差别就是在于玻璃基板的一个尺寸。

TFT-LCD制造工艺1

TFT-LCD制造工艺1

S i z 46” /47” e
52”
55”+
• •
Currently, Samsung, AUO, CMO are all developing 26” TN for customers like Samsung TV and Philips TV. From 2007, 26”TN will take large share from current 26” MVA/IPS. For 32” and above, the wide view angle technology remains mainstream.
Normally White Mode
非选择态工作原理
对于液晶显示屏上处 于非选择态上的像素, 在不施加电压的情况下, 来自光源的自然光经过 起偏器后只剩下平行于 光轴方向的线偏振光射 入液晶层。
由于起偏器的光轴方向 平行(或垂直)于入射光 侧液晶分子的取向方向, 经过起偏器后的线偏振光 的偏振方向沿平行(或垂 直)于入射侧液晶分子取 向的方向方向,射向液晶et Color filters
LC-material 2< t< 5µm
Transparent Electrode (ITO) Glass sheet Linear polarizer Lamp (backlight)
大型高分辨率的显示器还需增加TFT 大型高分辨率的显示器还需增加TFT
Cell of a TN AMLCD (2)
液 晶盒 在 镀 有ITO ( 厚 度可达1000Å)透明电极 的两块玻璃板之间夹有正 性向列相液晶NP; 液晶层厚度4 ~10 微米。
液晶盒四周用密封 材料密封; 密封材料一般是环 氧树脂、固化剂、和 玻璃衬垫按一定比例 混合。
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判定:用卡尺测量,具体判定依据《基准》
(3)玻璃基板破损:出现在玻璃基板的边或角上 判定:角、边破损不能伤到线路 处理:第一步,清理玻璃渣,使用刷子刷掉,但不要将碎渣刷到产品上或托盘里 第二步,确定是设备故障还是人为失误,再做一产品,是否还有压碎现象 A、仍有压碎现象,可确定设备故障,通知流动由设备人员修理 B、无压碎现象,可确定操作失误,继续生产,并注意操作手法,以免类似情况发生 (4)偏光片烫伤:正反面均有可能出现 3、注意事项 (1)RUBBER放置时需要注意两个STAGE RUBBER的放置要分开,不可重叠。 (2)清洁:A、工作台,1次/小时,使用全棉纸清洁 B、热压头:1次/2小时,用包裹了全棉纸的筷子沾工业酒精擦洗
3、操作过程:
a、首件检查:目视检查ACF邦定位置。
IC ACF覆盖位置 垂直对位端 水平对位端
要求:覆盖左右水平对位端1/2以上(个别项目有特别要求除外),上下覆盖全部垂 直线路 b、生产自检:确认ACF上无异物(一般为黑色),ACF无打卷、贴歪,FPC AC F不可以与IC ACF重合,超出下边缘位置不能大于0.5mm。 c、不良处理:若出现ACF不良则将ACF用无尘布轻轻擦拭掉,切不可用纸胶带 粘或者用刀片刮。其他不可修复不良粘贴不良标签,放不良品托盘中。 d、更换RUBBER:RUBBRE每2小时更换一次,注意及时调整RUBBER保证其在压 头下方包裹平整。RUBBER若出现发白、变形等不良应及时更换,并填写《Rubb er&隔热带填写记录》
工序介绍
FOG B/D
目的:将FPC B/D到PANEL上, 为以后实现外部连接提供接 口,类似于电器的插头功能。
FPC ACF
FPC金手指
固性粘着剂 导电粒子 ITO 导电薄膜
GLASS
工序介绍
FOG 设备
A C F 粘 贴
正式作业:
FOG车间
1、检查:PANEL是否破损、POL是否有刻痕、保护膜是否翘起。 2、用无尘布清洁PANEL ITO部分。
端子清洗主要作业过程:准备作业——正式作业——后作业
作业步骤:无尘布折叠一定形状——按一定顺序清洗——擦试后检查
COG车间
C O G 邦 定 ACF粘贴单元
ACF粘贴目的:通过ACF,在一定温度、压力、时间下,实现IC与PANEL电极导 通,达到显示目的。 ACF粘贴过程中主要不良:ACF贴不上、ACF贴歪、邦定异物(在ACF与屏线路 之间;在ACF上表面),MARK点报警等等 C O G 邦 定 IC预邦定单元 IC预邦定目的:通过ACF,在一定温度、压力、时间下,实现IC与PANEL电极预 连接,在后续工艺中达到显示目的。 IC预邦定中主要不良:IC划伤、IC邦定异物、IC混料,IC错位等等 C O G 邦 定 IC预邦定单元
IC主邦定目的:通过ACF,在一定温度、压力、时间下,实现IC与PANEL电极主 连接,达到显示目的。
IC主邦定中主要不良:IC导电球压接不均、IC破损,IC错位等等
COG车间
四、常见不良及产生原因
序号
1 2 3 4 5
不良现象
IC邦定异物 导电球压接不 均 IC压接错位 碎屏 混料
常见不良原因
贴附ACF或预压或电极带入 压头上有异物或缓冲材异常 压头上有异物或预邦定对位 不良 设备异常 来料或工序混料
向上扳动操作面板上的“DOOR” 键打开仓门注意用手轻推仓门, 确认旁边无人
向下扳动操作 面板上的 “DOOR”键关 闭仓门
按“START”键, 开始压泡
COG B/D工序介绍
COG B/D
目的:将IC B/D到PANEL上,IC相当于人的大脑,要使PANEL实现显 示必须有IC进行驱动。
COG车间
一、概述
1. COG定义
COG工艺:将IC直接邦定在玻璃上工艺,在一定温度、压力、时间下通过ACF实现 上下电极导通,达到显示目的。产品型号不同,但主要工艺路径基本相同。 2. 资材
COG所用材料:直接材料、消耗材料
直接材料:最终保存在产品上的材料,如:IC、ACF、PANEL、POL 消耗材料:最终不存在产品上的材料,如:酒精、全棉纸、无尘布、特氟龙等; 名词解释: IC:集成电路 特氟龙:缓冲材料 ACF:各向异性导电胶 POL A:带有POL的屏
常见组装工序:安装导光板、导光板焊接、金属框组装、组装触摸 屏、绝缘膜粘贴、TAPE粘贴等。
工序介绍
最终功能检查
目的:验证LCD模块是否达到正常显示要求。
导电球压接状态:不同厂家ACF,压接状态可能有不同,但合格导电球压接状态 有其合格范围,按《FPC导电球判定基准》作业指南书检查。
FOG车间
2、B/D后自检:对位、压着偏光片NICK、刻痕与烫伤、玻璃基板破损 (1)压着:显微镜下观察会有欠压或过压现象,并导致张力异常 判定:肉眼观察压着部位顔色,如果发白,则压力异常 (2)偏光片NICK与刻痕:出现在保护膜破损时,用标签把保护膜揭起,发现有被扎的痕迹
COG ACF工序介绍
COG车间
二、工艺流程及工序控制点 主要工艺流程:
POL A 端子清洗 上 料 端子清洗 端子清洗目的:去除PANEL邦定区域异物,避免后续不良产生。 主要直资:带有POL的PANEL A C F 粘 贴 IC 预 邦 定 IC 主 邦 定 — 下 料
外 观 检 查
说明:清洗方法分两种,一种无尘布擦试, 另一种吹洗,根据不同屏电极结构选用适 当清洗方法,作业指导书规定。
发生工位
ACF贴附、上 载、预压 预压或本压 TUFFY工位 各工位 资材流动
如何减少不良
邦定前确认、勤打扫工作台 勤打扫、加强抽检频次 勤打扫、加强抽检频次 作业中留意 各班长及流动学习BOM表,作业 前自检
备注
作业 作业 作业 设备异常 作业
FOG车间
一、概述
1. FOG定义 FOG工艺:将FPC直接邦定在玻璃上工艺,在一定温度、压力、时间下通过ACF 实现上下电极导通,达到显示目的。产品型号不同,但主要工艺路径基本相同。 2.车间资材 车间所用材料:直接材料、消耗材料 直接材料:最终保存在产品上的材料,如:FPC、ACF 消耗材料:最终不存在产品上的材料,如:酒精、全棉纸、无尘布、RUBBER等; 名词解释: FPC:柔性线路板 RUBBER:缓冲材料 ACF:各向异性导电胶 COG A:带有IC的屏
2、清洁:工作台、热压头、地面、小桌子及值日表划分区域,使用全棉纸+酒精
3、清理垃圾
F P C 邦 定 FPC邦定目的:通过ACF,在一定温度、压力、时间下将FPC电极与PANEL电极对位主压接, 使ACF各向异性导电胶实际导通状态的过程。 FPC邦定主要作业过程:准备作业——正式作业——后作业
主要直材:FPC、贴有ACF的PANEL
工位常见不良: 原材不良:FPC材质不良、FPC线路刻痕等 作业不良:FPC压接错位、FPC剥离强度不够(温度、压力、时间选择)、FPC邦定异物、 偏光片烫伤
FOG车间
上下错位判定基准
水平对 位标记 水平对位,向下或者向上错位,若错位超出出一个水平对位BUMP的宽度(或 ITO的宽度),为不良.水平对位标记FPC BUMP和PANEL ITO有重叠就为良品
2. 设备基本结构及作业流程 贴上下偏及注意点: 注意:后偏错位上下不能超过0.5mm ●自检 1、P异物 2、胶纹 3、错位 4、异常贴附 5、翘起 6、刻痕 7、NICK
8、P划 伤 9、凹凸点
POL工序介绍
压泡
目的:去除偏光片贴附过程中可能出现的气泡。
设备操作较简单,以下点需要注意: ●进出洁净棚动作尽量小 ●小心取放,开启时注意周围无人
名词解释:
POL:偏光片 BTG22XXXX—XXXL B:BOE T:TFT G:COG 22:2.2英寸 L:LED
POL A:带有POL的屏
POL
1、工艺流程及工序控制点 主要工艺流程: 贴 下 偏 贴 上 偏 加 压 除 泡 外观检查
说明:增加偏光片联接强度
温度:50±10℃ 压力:4.9±0.2kgf/cm2 时间:30min=25min(设定时间)+ 5min (设备升压减压时间)
工序介绍
TUFFY 涂敷
目的:将端子区域涂上一层 保护层,保护ITO电极。
遮光带粘贴
目的:将端子正反两面贴上 黑色的遮光带,使IC不受光 照,保护脆弱的IC芯片。
工序介绍
U/V涂敷&固化
目的:将FPC与PANEL连接处涂上粘力很强的UV胶,使FPC 更加牢固地固定在PAN焊接到FPC上,为显示提供光。 组装客户所要求的所有部件。
RUBBER放置时重叠导致温 度压力异常
FOG车间
4、导电球状态及错位基准
左右错位判定基准
两边空的线路,不作为错位判定基准
两边第一根有效线路,作为判定的基准
若错出的宽度超出BUMP宽度(或ITO的宽度)的1/2,判定为不良品;若错出1/2或1/2以 内,判定为良品.
FOG车间
后作业: ACF粘贴 1、关掉设备 (1)通常情况下,只将显示器及照射工作台的灯关掉即可 (2)在放假且无下一班的情况下,需要关闭显视器、灯及设备电源
申超科技
POL
POL贴附
※ 偏光片产生的最大不良时偏光片异物。
POL
一、概述
1. POL定义
POL工艺:将光轴垂直两片偏光片按照一定方向贴在上下玻璃上,在 经过一定的温度、压力、时间脱泡,达到点亮后正常显示的目的。
2.车间资材
车间所用材料:直接材料、消耗材料 直接材料:最终保存在产品上的材料,如:POL、PANEL 消耗材料:最终不存在产品上的材料,如:酒精、全棉纸、无尘布、刀片等;
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