H6540干膜渗镀

合集下载

氨基磺酸镍

FXCWZ-3001半光亮低应力镀镍工艺WZ-3001 Semi-bright Nickel Plating Process WZ-3001半光镍添加剂适用于电子工业电镀如各种低应力要求的电子产品,诸如印制板,接插件,镍层线路电镀等。

其工艺特点为：添加剂组分单一，使用维护简单，其镀层应力极低，色泽白晰且呈半光亮状。

优点：·是用于瓦特(Watts)及氨基璜酸镍(Suiphamate)镍浴;·镀层平滑,低应力,延展性佳,·特别适用于作金,钯,铑,银等贵重金属电镀和非金属镀层的打底镀层; ·适用于连续电镀,Tab 电镀,快速电镀及高电流作业;·单一组分添加,现场操作,维护简单;·镀液稳定,槽液操作温度低,更加有利于生产操作.一.操作条件:控制范围最佳值氨基磺酸镍 280-400g/l 300g/l 氯化镍 15-30g/l 20g/l 硼酸 30-50g/l 40g/l 添加剂WZ-3001 10-15ml/l 12ml/l 润湿剂 WZ-K 1-2ml/l 1.5ml/l PH 3.8-4.5 4.0 温度 40-50℃ 45℃ 阴极电流密度 1-4A/dm 2 2A/dm 2 阳极电流密度 0.5-6A/dm 2 2.2A/dm 2 搅拌无油无尘空气搅拌兼阴极移动过滤 5—10umPP 滤芯循环过滤二. 槽液配制:1. 将备用槽洗干净,加入3/4体积去离子水并加温至60℃;2. 加入计量氨基磺酸镍,氯化镍和硼酸,并充分搅拌使之完全溶解;3. 用碳酸镍把溶液PH 值调至5-5.2；4. 在55-60℃条件下加入4g/l 活性碳粉，搅拌4小时并静置2小时。

5. 过滤至溶液无活性碳粉之后,（可采用2—3级过滤）将溶液滤到镀槽中， 6 . 把硼酸用热水溶解后加入镀液中，加去离子水至最终体积。

7. 用10%稀硫酸将溶液PH 值调至2.5-3.0，用瓦楞板做阴极，在50℃、0.2-0.4A/dm 2条件下电解处理4—8小时,直至瓦楞板低谷处无灰暗色或棕色阴影为止。

BDXS系列海水淡化反渗透膜元件.

BDXS系列海水淡化反渗透膜元件1、产品简介BDXS系列海水淡化反渗透膜元件拥有目前国际一流的品质，在保持较高的产水流量时，仍拥有高达99.4%的脱盐率。

产品性能稳定，使用寿命长，具有较强的抗化学降解性能。

BDXS系列海水淡化反渗透膜元件适用于处理含盐量超过5000ppm的进水2、膜元件规格性能3、操作使用需知事项3.1 当PH值大于10时，连续运行的最高温度为35℃，当进水中含有游离氯或其它氧化性物质时，由于其氧化性能会严重损环膜的性能，因此建议用户在预处理中除去游离氯或其它氧化性物质。

3.2 膜元件在出厂前都经过通水测试，并真空封装于1.0%(重量)浓度的亚硫酸氢钠和20ppm浓度的异噻唑啉酮保护液中。

在严寒地区，保护液中添有10%(重量)浓度的甘油作为防冻液。

为防止在短期储藏、运输及系统停机时微生物的滋长，建议用1.0%(重量)的亚硫酸氢钠（食品级）保护液（用RO产水配制）对膜元件进行浸泡处理。

3.3 膜元件在未投入使用前尽量不要拆封，一旦拆封应始终维持湿润状态。

3.4 膜元件进水应逐渐加压，到正常运行状态的时间应不少于30-60秒，膜元件进水流速应逐渐增加，到规定值的时间应不少于15-20秒。

3.5 初次使用应先将系统产水进行排放，排放时间至少达到一小时。

3.6 膜元件至少需使用六小时后方可用甲醛进行消毒。

如在六小时内使用甲醛，可能会导致通量损失。

3.7 任何时候产水背压不得超过0.03MPa。

每支压力容器的最大允许压降为50psi（0.34MPa）。

3.8 如果用户未严格遵守公司产品技术样本中规定的操作条件和使用极限条件，对此引起的膜质量问题，我们将不承担三年有限质量保证。

3.9 如果用户使用与膜元件不兼容的化学药剂、润滑剂或保护液等，对此引起的膜质量问题，我们将不承担三年有限质量保证。

4、膜元件外形尺寸图示尺寸单位：英寸(毫米)5、注意事项北斗星公司产品样本中提供的有关产品数据及产品信息仅供用户参考。

PCB(6140)干膜试用测试报告

HR-6140S干膜测试报告报告人：wangyunping 报告日期：2022/03/07一、测试背景&目的内层使用9040干膜成本较高，为降低生产成本测试使用HR-6140S干膜降，是否符合本公司生产需求。

二、测试项目序号项目名称接受标准跟进人1 干膜附着力测试同一位置3M胶带拉扯3次不掉膜wangyunping2 显影点测试40%-60% wangyunping3 曝光尺测试5-7格wangyunping4 解析力测试40um/40um wangyunping5 生产效率测试优于9040干膜wangyunping6 一次良率测试优于长春干膜（AOI一次良率≥95%）wangyunping三、测试结果3.1测试参数序号流程管控项目重点管控参数实际作业参数1 宇宙前处理微蚀0.6-1.2mm 0.8mm 酸洗3-5% 4.0% 烘干温度90±5℃90℃线速 4.0±1m/min 4.0m/min2 思沃自动压膜机压膜温度110±10℃108℃压膜压力 4.0±1kg/cm2 4.0kg/cm2压膜速度 4.0±1m/min 4.9m/min 入板温度45±5℃43℃出板温度50±5℃55℃序号流程管控项目控制作业参数实际作业参数3 源卓LDI曝光机曝光能量5-7级（21级曝光尺）6级能量值40-70mj 50mj4 宇宙显影显影浓度0.8-1.2% 1.0% 显影温度30±2℃30℃显影压力 1.0-1.5kg/cm2 1.2kg/cm2水洗压力 1.0-1.5kg/cm2 1.2kg/cm2线速 5.5±0.5m/min 5.5m/min 显影点40-60% 50-52%5 宇宙退膜温度50±5℃52℃压力 1.5±0.3kg/cm2 1.5kg/cm2速度 6.0±0.5m/min 6.0m/min 浓度 3.0-5.0% 4.5%小结：综上实际作业参数都在现有文件管控范围内，不影响现有文件与指示，符合生产技术要求。

美国星达synder卷式超滤膜

回收行业1.1．在电泳漆涂装领域，美国星达（Synder ）与海德能（HYDRANAUTICS ）生产的超滤膜可以实现：星达M 型膜组规格V62-4051.5HV62-5651.5H V62-7647.5H 尺寸 A1016mm （40.00") 1016mm(40.00") 1016mm(40.00") B 99.8mm(3.93") 142.2mm(5.60") 184.9mm(7.28")C 1308.1㎜(51.50")1305.1㎜(51.38") 1206.5㎜(47.50") 膜材料（特别处理）聚偏二氟乙烯（ PVDF ）膜面积 7.4㎡(80.0ft2) 13.7㎡（148ft2） 25.5㎡(274ft2) 渗透阳极漆 170升/小时 570升/小时 900升/小时液量阴极漆 100升/小时 350升/小时 570升/小时参数介质流量 6吨/小时 9吨/小时 16吨/小时星达F 型膜组规格V62-4040H V62-5640H V62-7640H 尺寸 A 1016㎜（40.00") 1016㎜(40.00") 1016㎜(40.00") B 99.8㎜(3.93") 142.2㎜(5.60") 184.9㎜(7.28") ID 15.8㎜(0.62") 32.8㎜(1.29") 32.8㎜(1.29")膜材料（特别处理）聚偏二氟乙烯（ PVDF ）膜面积 7.4㎡(80ft2) 13.7㎡（148ft2） 25.5㎡(274ft2) 渗透阳极漆 170升/小时 570升/小时 900升/小时液量阴极漆 100升/小时 350升/小时 570升/小时参数介质流量 6吨/小时 9吨/小时 16吨/小时海德能2120型膜组规格8040-FFF-2120 4040-FTV-2120 尺寸A 1016㎜（40.00") 1016㎜(40.00")B 201.9㎜(8.00") 100.6㎜(4.00") ID 25.2㎜(1.00") 12.6㎜(1/2") 膜材料（特别处理）聚烯烃膜面积 23.2㎡(250ft2) 5.1㎡（55ft2）渗透堆荐进料流量 60-80GPM 15-20GPM 液量设计透过液流量 2.8GPM 0.5GPM。

高耐温精密冷反光镜研制

热蒸发ＰＶＤ镀膜工艺基础上使用了ＩＤ及高温成Ａ
、＼
膜技术实现镀膜过程，主要技术条件如下：
焦点Ｆ２
＼光源Ｆ】
＼
＼
（）电子枪蒸发系统１双
ＨＢ）１ｏ（３０设备配备了两台电子枪，别将高＿分折射率膜料Ｔｉ和低折射率膜料ＳＯ交替蒸发沉Ｏｉ积在反光镜的表面。采用双电子枪结构不但可以减
摘要：耐温精密冷反光镜是应用于影像光学系统的一种常用光学元件，具有高耐温性、射可见光、射红外光的特高它反透点。本文介绍了采用低膨胀系数的高耐温性基底材料，用电子束热蒸发物理气相沉积镀膜方法及离子辅助沉积工艺，备利制
圈３冷反光膜光谱曲线
优质薄膜。电子束蒸发与ＩＡＤ膜层表面显微照片如图５所示，用电子束蒸发的膜层粗糙度明显］使高于ＩＡＤ工艺膜层，也说明采用Ｉ工艺膜层这ＡＤ
沉积密度更高，层内部结构更好。膜（）星式机构提升膜层均匀性３行
面光学涂层都具有出色的耐温性能，时反光镜光同
用要求。本文选用膨胀系数为３３０的高耐温． ×１性玻璃材料，证反光镜在４０至常温的骤冷骤保０℃ 热冲击下不炸裂。非球面反光镜基片加工采用热压成型，工效率高，本也相对较低，面精度能够加成表满足使用要求。

9h超硬光学膜的制备设备及工艺

9h超硬光学膜的制备设备及工艺
9H超硬光学膜是一种透明、坚硬、耐磨损的薄膜材料，具有出色的光学性能和机械性能，可以广泛应用于手机屏幕、摄像头镜头等高
端光学器件。

要制备9H超硬光学膜，需要一套专门的制备设备及工艺。

下面
将分步骤阐述其制备过程：
1.基板清洗：将需要制备膜层的基板（如玻璃、塑料等）进行清洗，以去除表面的油污、尘埃等杂质。

清洗流程一般包括溶剂清洗、
超声波清洗等。

2.预处理：将经过清洗的基板进行预处理，一般步骤为真空烘烤
去除水汽、用有机溶剂浸泡/喷涂进行表面活化、等离子喷雾激活等。

3.膜层制备：将经过预处理的基板放入真空镀膜机中，控制好真
空度、气体组成等参数，通过物理或化学反应，在基板表面上制备出
9H超硬光学膜。

这里一般采用磁控溅射、磁控反应溅射、离子束沉积
等工艺进行制备，过程中通常要加热基板保证反应温度和保证致密度。

4.后处理：将制备好的膜层进行表面平整、强化处理，以增加其
耐磨损性、防刮性等性能。

这里一般采用多种方法进行，有离子束抛光、浸泡处理、等离子体处理、致密化等等。

通过上述制备过程，就可以制备出具有优异性能的9H超硬光学膜。

需要注意的是，制备过程中需要严格控制各项参数，以确保膜层
质量的稳定和一致性，同时还需要保证生产环境的洁净、无尘等，以
避免杂质的污染。

渗镀

电镀出来即发现干膜起泡蚀刻线退膜，即发现有渗锡情况
切片发现有渗铜，渗锡蚀刻出来的渗镀
QDC变化量：Q：渗镀报废0.073%
D：影响过机返工C：增加返工费用及洗板成本
后日立干膜供货商提出：H6540干膜的特点，日立公司为提高
了一种铰联物质，在H6540推出市场之前，日立公司试验发现这种物质会使
化、温度变化敏感，容易收缩。

为此，我们正式找到了方向，开始将调查重点转移到图电工序，主要考察两方法
2.温差，发现一是图电温控不正常，个别缸体温度低于
计，电流夹具夹到干膜上，理论上会导致电流不稳定，我们将这两隐患消除后，此类型渗镀消。