国产刻蚀机很棒,但造芯片只是“配角”
卡住中国脖子地35项技术
卡住中国脖子的35项技术！来源：报人亚东（ID：baorenLYD）作者：亚东这35项卡住我国脖子的技术，只是冰山一角！1．光刻机《这些“细节”让中国难望顶级光刻机项背》（科技日报4月19日）制造芯片的光刻机，其精度决定了芯片性能的上限。
在“十二五”科技成就展览上，中国生产的最好的光刻机，加工精度是90纳米。
这相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。
而国外已经做到了十几纳米。
光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。
两者需始终同步，误差在2纳米以下。
两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多。
在工作时，相当于两架大飞机从起飞到降落，始终齐头并进一架飞机上伸出一把刀，在另一架飞机的米粒上刻字，不能刻坏了。
2．芯片《中兴的“芯”病，中国的心病》（4月20日）低速的光芯片和电芯片已实现国产，但高速的仍全部依赖进口。
国外最先进芯片量产精度为10纳米，我国只有28纳米，差距两代。
据报道，在计算机系统、通用电子系统、通信设备、存设备和显示及视频系统中的多个领域中，我国国产芯片占有率为0。
3．操作系统《丧失先机，没有自研操作系统的大国之痛》（4月23日）普通人看到中国IT业繁荣，认为技术差距不大，实则不然。
3家美国公司垄断手机和个人电脑的操作系统。
数据显示，2017年安卓系统市场占有率达85.9%，苹果IOS为14%。
其他系统仅有0.1%。
这0.1%，基本也是美国的微软的Windows和黑莓。
没有谷歌铺路，智能手机不会如此普及，而中国手机厂商免费利用安卓的代价，就是随时可能被“断粮”。
4．航空发动机短舱《居者无其屋，国产航空发动机的短舱之困》（4月24日）飞机上安放发动机的舱室，俗称“房子”，是航空推进系统最重要的核心部件之一，其成本约占全部发动机的1/4左右。
短舱需要将发动机包覆，减少飞行阻力；其进气道还要具有防、除冰的能力；飞行中，要保护发动机不受干扰正常工作；在地面，需要做到方便发动机的维护和维修，一旦短舱有损，飞行中可能会引起发动机严重事故。
反应离子刻蚀机介绍
《反应离子刻蚀机介绍》
嘿，你知道反应离子刻蚀机吗？这玩意儿可神奇啦！今天我就来给你好好唠唠。
我第一次见到反应离子刻蚀机的时候，那场面可真是有点懵。我跟着我们实验室的老大，也就是李教授，还有师兄小张一起走进那个摆满各种仪器的大房间。一进去，就看到这个反应离子刻蚀机像个神秘的大盒子似的站在角落里。
这个反应离子刻蚀机啊，它可不是个简单的家伙。从外观上看，它有着一个结实的外壳，就像一个穿着铠甲的战士，保护着里面精密的部件。它身上有好多的线路和接口，就像人的血管和神经一样，密密麻麻的，看得我眼花缭乱。
李教授就站在旁边，指着这个刻蚀机开始给我们介绍。他说：“这反应离子刻蚀机啊，就像是一个超级精确的雕刻大师。”然后他开始详细地解释它的原理。原来啊，这个刻蚀机是通过产生等离子体来工作的。就像一群小小的精灵在里面跳舞，这些精灵就是离子啦。它们在电场的作用下，变得超级活跃，然后冲向要被刻蚀的材料。
然后就是设置各种参数。这可真是个技术活啊，就像调鸡尾酒一样，各种比例都得恰到好处。李教授在旁边指挥着，一会儿说这个电压要调高一点，一会儿说那个气体流量要减少一些。我和小张师兄就像两个小跟班一样，按照教授的指示在操作面板上按来按去。
等一切都设置好，按下开始键的时候，我们都紧张地盯着刻蚀机。里面会发出一些轻微的嗡嗡声，就好像那些离子精灵在欢呼着开始工作了。这个时候，李教授就开始给我们讲他以前用反应离子刻蚀机做项目的故事。他说有一次，他们在刻蚀一个非常复杂的芯片结构，遇到了好多问题。就像在迷宫里找不到出口一样，一会儿这个地方刻蚀过度了，一会儿那个地方又没刻蚀到位。但是他们没有放弃，经过一次又一次的尝试，不断调整参数，最后终于成功了。
在实际操作的时候，那更是一场紧张又有趣的过程。我们要先把样品小心翼翼地放进刻蚀机里面。这个过程就像是把宝贝放进保险箱一样，得特别小心，不能有一点闪失。小张师兄在放样品的时候，那手都是微微颤抖的。我还打趣他说：“师兄，你这手咋比林黛玉的还娇弱呢？”他白了我一眼说：“你懂啥，这要是放不好，整个实验都得报废。”
河南省新未来联盟2022-2023学年高一11月联考语文试题含解析
倪光南：从历史原因来看，我们起步晚。1947 年，美国贝尔实验室发明了半导体点接触式晶体管。直 到 1956 年，中国才成功制成第一根硅单晶。
随着集成电路发展到大规模集成电路时代，中国由于没有集成电பைடு நூலகம்产业的支撑，就明显追赶乏力了， 而世界上的芯片技术却突飞猛进，
在芯片制造领域，包括制造工艺和制造装备方面，整体而言，中国能力亟待提高。芯片制造工艺包括 光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、抛光、金属化、扩散、氧化……与这些制造工艺相对应，制造关键装 备多达 200 多种，其中包括光刻机、刻蚀机、清洗机、切割减薄设备、分选机以及其他工序所需的扩散、 氧化、清洗设备等。每种装备的制造技术要求都很高，制造难度极大且造价十分高昂。
记者：面对内部“短板”外部封锁等难题，中国芯片技术和产业要怎么做才能实现突破? 倪光南：从供应链安全的角度来看，需要集中力量去突破供应链中薄弱环节的关键核心技术。而关键 核心技术的发展，往往是从无到有，从小到大的过程，要有“板凳要坐十年冷”的思想准备。 核心技术的发展成熟也离不开市场的支持，在政府采购的过程中，要给予因产自主研发芯片和软件一 定的扶持，让其进入商业应用，接受检验和磨砺，只有这样，才能不断走向成熟。 从产业集群的角度来看，可以参考硅谷的产业集群模式。在人才，技术，资本、经营等方面强强联合。 北京的中关村有潜力打造成芯片技术和产业集群的高地。 发展大型软件或芯片产业，还要发扬举国体制和市场经济相结合的优势，将国家层面制定的规划纲要 和金融市场相融合。
（摘编自《强起来离不开自主创“芯”》） 1. 下列对材料相关内容的理解和分析，不正确的一项是（ ） A. 中兴公司，华为公司接连遭遇美国芯片“断供”事件很好地给国人上了一课，让人们意识到芯片的重要 性，只靠从市场购买是行不通的。 B. 光刻、刻蚀、离子注入等芯片制造工艺繁复，光刻机、刻蚀机等制造设备制造难度极大，因此我们在芯 片设计领域需要不断提高。 C. 发展集成电路产业，要有长期的思想准备和投入，不能指望短短几年就获得回报，我们要有决心和定力 去补齐行业“短板”。 D. 材料二认为美国对中国芯片“出口禁运”的做法另有企图，并引用了《纽约时报》的说法加以佐证，能 够让读者更清楚事件的真相。 2. 根据材料内容，下列说法不正确的一项是（ ） A. 美国根据摩尔定律加快芯片行业的发展速度，赚取高额利润，形成芯片行业的先发优势。而临发展后发 劣势的中国，无法与之角逐比拼 B. 我们不必为美国的封镜惊慌失措，中国的高科技能够克服初期从无到有的困难，也会在将来突破芯片制 造核心技术的瓶颈。 C. 在当前芯片产业缺乏核心技术的情况下，我们需要实实在在地创新，把核心技术掌握在自己手中，才能 真正掌握竞争和发展的主动权。 D. 面对外界的高科技技术封锁，我们不能因为不公而导致不理智，更不能主动与外界脱钩，闭门造车只能 延缓发展进度，甚至出现衰退。 3. 结合材料内容，下列选项中不能证明材料二观点的一项是（ ） A. 祸兮福之所倚；福兮祸之所伏。孰知其极?——《老子》 B. 历史的道路不是涅瓦大街上的人行道，它完全是在田野中前进的，有时穿过尘埃，有时穿过泥泞，有时 横波沼泽，有时行经丛林。——车尔尼雪夫斯基 C. 与治同道，罔不兴；与乱同事，罔不亡。——《尚书》 D. 只有合作共赢才能办大事，办好事，办长久之事。——习近平
河北省沧州市第八中学高二语文期末试卷含解析
河北省沧州市第八中学高二语文期末试卷含解析一、现代文阅读（35分，共3题）1. 阅读下面的文字，完成下列小题材料一：近来有网络媒体称，“中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机，性能优良，将用于全球首条5纳米芯片制程生产线”，并评论说“中国芯片生产技术终于突破欧美封锁，第一次占领世界制高点”等。
中微公司的刻蚀机的确水平一流，但夸大阐述其战略意义，则被相关专家反对。
刻蚀只是芯片制造多个环节之一。
刻蚀机也不是对华禁售的设备，在这个意义上不算“卡脖子”。
光刻机是芯片制造中用到的最金贵的机器，要达到5纳米曝光精度难比登天，ASML公司一家通吃高端光刻机；而刻蚀机没那么难，中微的竞争对手还有应用材料、泛林、东京电子等，国外巨头体量优势明显。
在IC业界工作多年的电子工程师张光华告诉《科技目报》记者：“硅片从设计到制造到封测，流程复杂。
刻蚀是制造环节的工序之一，还有造晶棒、切割晶圆、涂膜、光刻、掺杂、测试等，都需要复杂的技术。
中国在大部分工序上落后。
”《科技日报》记者发现，2017年开始网络上经常热炒“5纳米刻蚀机”，而中微公司一再抗议媒体给他们“戴高帽”。
（摘编自高博《专家：国产刻蚀机很棒，但造芯片只是“配角”》）材料二：核心芯片国产占有率（单位：%）（摘引自《前经济学人APP》）材料三：就已经发布的产品来看，华为的手机芯片麒麟980比苹果更强——苹果的芯片没有基带，所以说华为手机芯片达到世界第一，是没有问题的。
但是，华为手机芯片的突破不意味着中国芯片业摆脱“卡脖子”窘境。
事实上，2018年进口的芯片全额为20584.1亿人民币，高于石油进口总金额15881.7亿人民币。
芯片分设计、制造和封装三大领域。
如英特尔、三星，既设计也制造；联发科和威盛，则只设计，不制造；台积电只替别人代工生产。
近几年中国重视IC设计，此类公司已有1400家，别的国家加在一起也没有中国多，但水平不能说最高。
另外，造芯片就好比装修房子，除了好的设计图，还得有高水平的施工队。
蚀刻机和光刻机的区别
蚀刻机和光刻机的区别
最近光刻机和蚀刻机一直都是当前最热的话题，可以说光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，要想制造高端的芯片，这两个东西都必须顶尖。
这俩机器最简单的解释就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面，刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉，这样看起来似乎没什幺难的，但是有一个形象的比喻，每一块芯片上面的电路结构放大无数倍来看比整个北京都复杂，这就是这光刻和蚀刻的难度。
光刻的过程就是现在制作好的硅圆表面涂上一层光刻胶（一种可以被光腐蚀的胶状物质），接下来通过光线（工艺难度紫外光＜深紫外光＜极紫外光）透过掩膜照射到硅圆表面（类似投影），因为光刻胶的覆盖，照射到的部分被腐蚀掉，没有光照的部分被留下来，这部分便是需要的电路结构。
蚀刻分为两种，一种是干刻，一种是湿刻（目前主流），顾名思义，湿刻就是过程中有水加入，将上面经过光刻的晶圆与特定的化学溶液反应，去掉不需要的部分，剩下的便是电路结构了，干刻目前还没有实现商业量产，其原理是通过等离子体代替化学溶液，去除不需要的硅圆部分。
国产刻蚀设备发展现状
国产刻蚀设备发展现状
随着国内半导体产业的快速发展，国产刻蚀设备也在迅速壮大。
目前，国内的刻蚀设备市场呈现出以下几个发展现状：
1. 技术水平提升：国产刻蚀设备的技术水平不断提高。
本土企业在工艺流程控制、设备性能优化等方面进行创新，提高了设备的刻蚀精度和稳定性。
2. 市场份额扩大：国产刻蚀设备在国内市场的份额逐渐增加。
随着国家对半导体行业的支持力度加大，本土企业在与国外品牌的竞争中逐渐取得优势，市场份额逐渐扩大。
3. 产品多样化：国产刻蚀设备的产品线不断丰富。
本土企业致力于研发不同领域、不同工艺要求的刻蚀设备，以满足不同客户的需求。
4. 自主创新加强：本土企业加大了对关键技术的研发投入，提高了自主创新能力。
通过自主创新，国产刻蚀设备的核心技术逐渐与国际先进水平接轨。
5. 售后服务完善：国产刻蚀设备的售后服务得到进一步加强。
本土企业注重售后服务体系建设，提供快速响应和专业支持，提高了客户的满意度。
总体来说，国产刻蚀设备在技术水平、市场份额、产品多样性、自主创新和售后服务等方面都有了显著的进步。
未来，随着半
导体产业的不断发展，国产刻蚀设备有望在国内外市场上更好地竞争和发展。
光刻机刻蚀技术创新增强芯片性能
光刻机刻蚀技术创新增强芯片性能正文：随着科技的快速发展，芯片技术在当今社会的许多领域中发挥着至关重要的作用。
而光刻机刻蚀技术作为芯片制造过程中不可或缺的关键环节，其进一步的创新和提升对于芯片性能的增强具有重要意义。
本文将探讨光刻机刻蚀技术在提升芯片性能方面的新进展。
一、背景介绍光刻机刻蚀技术是芯片制造过程中的一项关键技术。
它通过利用光刻光源和特殊的光刻胶材料，将芯片设计模式准确地转移到硅晶圆上。
在这个过程中，刻蚀是不可或缺的一步。
刻蚀的质量和精度直接影响到芯片的性能。
二、光刻机刻蚀技术的传统问题在传统光刻机刻蚀技术中存在一些问题，如模式失真、刻蚀不均匀、边缘效应等。
这些问题限制了芯片性能的进一步提升。
三、光刻机刻蚀技术的创新为了克服传统光刻机刻蚀技术中存在的问题，科研人员进行了大量的研究和创新。
1. 高分辨率技术为了提高芯片的分辨率，科研人员引入了高分辨率技术。
通过对光源进行改进，使得光的波长更短，从而提高了分辨率。
此外，还利用了新型的光刻胶材料，使得芯片的图案更加精细。
2. 多层刻蚀技术传统的光刻机刻蚀技术往往只能完成单层的刻蚀。
而多层刻蚀技术则可以同时进行多层的刻蚀，大大提高了生产效率。
通过合理的调节刻蚀参数，可以实现不同深度和形状的刻蚀，使得芯片的结构更加复杂。
3. 刻蚀均匀性改进刻蚀均匀性对于芯片的性能有着重要影响。
科研人员利用新的刻蚀装置和刻蚀参数优化算法，改善了刻蚀均匀性。
通过对刻蚀速率和刻蚀时间的精确控制，使得每个区域的刻蚀深度一致，提高了芯片的品质。
4. 边缘效应抑制技术边缘效应是指在光刻机刻蚀过程中，由于光线的衍射和散射导致刻蚀边缘不够垂直的现象。
科研人员通过改进光刻机的光学设计和优化刻蚀参数，缓解了边缘效应的问题。
使得芯片的刻蚀边缘更加垂直，提高了芯片的精度和稳定性。
四、光刻机刻蚀技术的应用前景光刻机刻蚀技术的创新和提升对于芯片行业的发展具有重要意义。
首先，芯片性能的提升将推动信息技术、通信技术和人工智能等领域的进一步发展。
国产刻蚀机的发展历史
国产刻蚀机的发展历史国产刻蚀机是中国独立研发和制造的科技设备，其发展历史可以追溯到20世纪80年代末期。
当时，中国在科技领域的发展相对滞后，几乎所有高精密制造设备都依赖进口。
为了提高自主创新和技术竞争力，中国开始加大对先进设备研发的投入。
在20世纪80年代末期到90年代初期，中国开始注重加强对光电子和半导体行业的技术研究和发展。
刻蚀技术作为半导体行业生产工艺中的关键环节之一，被纳入重点研发范围。
当时，中国的刻蚀机技术仍然相对落后，主要依赖于进口设备。
随着国家对科技领域的重视以及各类刺激政策的实施，中国刻蚀机行业开始逐渐崛起。
在90年代后期，中国一些科研机构和高校开始开展刻蚀机的研发工作，并取得了一些进展。
同时，一些国内企业也开始投入资金和人力资源进行刻蚀机的生产。
进入21世纪，中国刻蚀机行业迎来了快速发展的机遇。
随着国家经济的迅猛增长和科技创新能力的提升，中国的刻蚀机制造技术逐步接近国际先进水平。
国内企业通过引进国外技术和独立研发相结合的方式，逐渐提高了刻蚀机的性能和精度。
在近年来，国产刻蚀机的市场份额不断扩大，国内企业也在国际市场上逐渐崭露头角。
中国刻蚀机制造技术已经达到国际领先水平，并在半导体、光电子等行业中得到广泛应用。
此外，国内一些企业还开始通过提供全面的售后服务和技术支持来提升市场竞争力。
综上所述，中国国产刻蚀机从起步阶段到逐步接近国际先进水平，经历了几十年的发展历程。
随着科技创新能力的提升和市场需求的不断增长，国产刻蚀机有望在未来发展中更进一步。
国产氟化氩光刻机原理
国产氟化氩光刻机原理
哇塞，朋友们！今天咱来聊聊超级厉害的国产氟化氩光刻机原理。
你们知道吗，这玩意儿就像是一个魔法盒子，能在小小的芯片上创造出无数神奇的电路！（就像画家能在画布上绘出精美绝伦的画作一样）
氟化氩光刻机，听名字是不是就感觉很神秘？其实啊，它的工作原理真的蛮有趣的。
简单来说，它就像一个超级精确的雕刻大师。
（想象一下，一位大师在精心雕琢一件艺术品）它用氟化氩激光束当作刻刀，一点一点地在硅片上刻画出那些精细到极致的线路图案。
咱举个例子啊，你看手机里的芯片，那么小的一个东西，上面却有密密麻麻的线路，这些线路就是光刻机刻出来的呀！是不是很神奇？它得多么精确，才能不出差错呀！（这难度简直比走钢丝还高啊）。
那它是怎么做到这么精确的呢？这就涉及到一系列复杂的技术啦！它有超高精度的镜头，能把激光束聚焦到纳米级别的小点。
（就像把太阳光通过放大镜聚焦成一个小点一样厉害）还有超级先进的控制系统，能确保每一次光刻的位置和深度都恰到好处。
研发人员们为了让它这么厉害，那可是付出了超多心血啊！
哎呀，咱不得不感叹，科技的力量太强大了。
国产氟化氩光刻机的出现，让我们在芯片制造领域有了更大的话语权。
它就像是我们科技进步道路上的一把利剑，为我们披荆斩棘。
（让我们有了在科技舞台上展示实力的资本）我相信，未来它会越来越厉害，为我们带来更多的惊喜！让我们一起为国产氟化氩光刻机点赞！厉害啦，我的国！国产氟化氩光刻机，加油！。
2023年刻蚀机行业市场分析现状
2023年刻蚀机行业市场分析现状刻蚀机是一种用于制造微电子设备的关键工具。
它通过移除材料表面的特定部分来创建复杂的微细结构，细节精确度高，因此在集成电路、传感器、光学器件等领域具有广泛应用。
随着技术的不断进步，刻蚀机行业也取得了长足的发展。
一、市场规模刻蚀机市场近年来呈现出快速增长的趋势。
受到微电子产业的推动，刻蚀机市场规模逐渐扩大。
根据数据显示，2019年刻蚀机市场规模超过了50亿美元。
预计未来几年内，随着人工智能、大数据等技术的发展以及5G、物联网等应用的普及，刻蚀机市场将继续保持稳定增长。
二、行业竞争刻蚀机行业存在较为激烈的市场竞争。
目前，市场上主要的刻蚀机制造商包括应用材料公司、东京毅力科创公司、日机装公司等。
它们在技术研发、产品质量以及售后服务等方面不断进行创新和提升，力求在市场上占据领先地位。
此外，国内一些新兴企业也逐渐崭露头角，加大了市场竞争的强度。
三、发展趋势1.技术升级：随着微电子技术的快速发展，刻蚀机技术也在不断升级。
未来，刻蚀机将朝着更高精度、更高速度、更低污染的方向发展，以满足不断提升的生产需求。
2.多功能性：刻蚀机将逐渐实现多功能化。
目前，市场上已有一些具备深刻蚀和浅刻蚀两种功能的刻蚀机，未来还将出现更多集多种功能于一体的刻蚀机。
3.智能化：人工智能技术的应用将进一步推动刻蚀机的智能化发展。
通过数据分析与算法优化，刻蚀机可以实现更加精确的控制和自适应的操作，提高生产效率和产品质量。
4.绿色环保：刻蚀过程中会产生大量废液和废气，对环境造成一定的污染。
随着环境保护意识的提高，刻蚀机行业将加大对环保技术的研发与应用，以降低对环境的影响。
四、市场机遇1.5G商用：随着5G商用的推进，对高速高频的微电子器件需求增加，刻蚀机市场将迎来新的机遇。
2.新兴领域需求：随着人工智能、大数据、物联网等新兴技术的快速发展，对微电子设备的需求不断增加，相应地刻蚀机市场也将得到发展。
3.国家政策支持：我国政府对于刻蚀机行业给予了较大的支持，通过政策引导和资金扶持，加速了刻蚀机的技术进步和市场成熟度提高。
芯片国产化进程中的关键技术瓶颈有哪些
芯片国产化进程中的关键技术瓶颈有哪些在当今数字化、信息化的时代，芯片作为现代科技的核心基石，其重要性不言而喻。
然而，我国在芯片领域的国产化进程中，面临着诸多关键技术瓶颈，这些瓶颈制约着我国芯片产业的自主发展和竞争力提升。
首先，芯片制造工艺是一个重大的技术瓶颈。
目前，全球最先进的芯片制造工艺已经达到了 5 纳米甚至更小的制程。
而我国在先进制程工艺方面与国际领先水平仍存在较大差距。
制造工艺的提升需要高精度的光刻机等关键设备，而这些设备的研发和制造技术被少数几个国家所掌握，我国在获取这些高端设备方面面临着诸多限制。
此外，芯片制造过程中的光刻、蚀刻、薄膜沉积等环节都需要极高的精度和稳定性，对于工艺参数的控制和优化要求极其严格，这需要长期的技术积累和大量的实践经验。
其次，芯片设计工具也是一个关键的技术瓶颈。
主流的芯片设计工具如电子设计自动化（EDA）软件，基本上被国外的几家巨头公司所垄断。
这些 EDA 软件功能强大、复杂，涵盖了从逻辑设计、物理设计到验证等多个环节。
我国在自主研发 EDA 软件方面虽然取得了一定的成果，但在功能完整性、性能优化和生态建设等方面仍有待提高。
缺乏先进的芯片设计工具，会导致我国芯片设计企业在面对复杂的芯片设计需求时，面临效率低下、设计周期长等问题，从而影响产品的竞争力。
再者，半导体材料的研发和生产也是一个不容忽视的技术瓶颈。
芯片制造需要用到多种高纯度的半导体材料，如硅晶圆、光刻胶、特种气体等。
在这些材料的研发和生产方面，我国与国际先进水平存在差距。
例如，高纯度的硅晶圆生产技术仍掌握在少数国外企业手中，我国在高端光刻胶的研发和生产上也相对滞后。
半导体材料的质量和性能直接影响着芯片的成品率和可靠性，因此，突破半导体材料的技术瓶颈对于芯片国产化至关重要。
另外，芯片的封装测试技术也是我国芯片产业面临的一个挑战。
虽然封装测试环节在芯片产业链中的技术含量相对较低，但随着芯片性能的不断提升和封装形式的多样化，对于封装测试的技术要求也越来越高。
中国没有掌握的的技术 何止是芯片
中国没有掌握的的技术，何止是芯片海外周刊2020-06-09点击 海外周刊 关注我，带你看世界来源：时代观察团中国通信产业的核心痛点—“缺芯少魂”的问题，再次严峻地摆在人们面前。
“不能总是用别人的昨天来装扮自己的明天”，核心技术靠化缘是要不来的，也是花钱买不来的。
中国经济发展的下半场重点是实现高质量发展，实现核心技术的自主创新。
这条路很长，但必须、只能用心做！除了芯片，我们还有哪些受制于人的技术呢？这可能是最全的，中国尚未掌控的核心技术清单。
半导体加工设备基本被日本，美国霸占。
目前蚀刻设备精度最高的是日立。
比如东丽，帝人的炭纤维，超高精密仪器，数控机床，光栅刻画机（这个最牛的也是日立，刻画精度达到10000g/mm ），光刻机（ASML）等等，这些是美日严格限制出口的。
一个块CPU要制造出来，需要N多设备和材料。
全球前十大半导体设备生产商中，有美国企业4家，日本企业5家。
半导体材料生产半导体芯片需要19种必须的材料，缺一不可，且大多数材料具备极高的技术壁垒，因此半导体材料企业在半导体行业中占据着至关重要的地位。
而日本企业在硅晶圆、合成半导体晶圆、光罩、光刻胶、药业、靶材料、保护涂膜、引线架、陶瓷板、塑料板、TAB、COF、焊线、封装材料等14中重要材料方面均占有50%及以上的份额，日本半导体材料行业在全球范围内长期保持着绝对优势。
全球70%的半导体硅材料，都是由日本信越化学提供。
超高精度机床超高精度机床和材料学并为工业之母：日本，德国，瑞士的天下，其中日本更是领先世界一大截。
世界最高精度机床主轴来自日本精工。
美国F22猛禽战机就用日本机床：SNK(新日本工机)的5轴龙镗铣。
yamazaki mazak(日本山崎马扎克)被瑞典皇家科学院评出的世界最佳公司、英国本地最佳工厂兼出口成就奖、美国制造工程师学会惠特尼生产力奖获得者、美军US.ARMY岩岛兵工厂联合制造技术中心的机床供应商及机械师培训方、波音集团的最佳机床设备供应商等等。
2020年深圳市福田区莲花中学南校区高三语文下学期期末试卷及答案
2020年深圳市福田区莲花中学南校区高三语文下学期期末试卷及答案一、现代文阅读（36分）(一)现代文阅读I(9分)阅读下面的小说，完成下面小题。
《药》（节选）鲁迅秋天的后半夜，月亮下去了，太阳还没有出，只剩下一片乌蓝的天；除了夜游的东西，什么都睡着。
华老栓忽然坐起身，擦着火柴，点上遍身油腻的灯盏，茶馆的两间屋子里，便弥满了青白的光。
“小栓的爹，你就去么？”是一个老女人的声音里边的小屋里，也发出一阵咳嗽。
“唔。
”老栓一面听，一面应，一面扣上衣服；伸手过去说，“你给我罢。
”华大妈在枕头底下掏了半天，掏出一包洋钱，给老栓，老栓接了，抖抖的装入衣袋，又在外面按了两下；便点上灯笼，吹熄灯盏，走向里屋子去了。
那屋子里面，正在窸窸窣窣的响，接着便是一通咳嗽。
老栓听得儿子不再说话，便出了门，走到街上没有多久，又见几个兵，在那边走动；一阵脚步声响，一眨眼，已经拥过了一大簇人。
那三三两两的人，也忽然合作一堆，潮一般向前进；将到丁字街口，便突然立住，簇成一个半圆。
老栓也向那边看，却只见一堆人的后背；颈项都伸得很长，仿佛许多鸭，被无形的手捏住了的，向上提着。
静了一会，似乎有点声音，便又动摇起来，轰的一声，都向后退；一直散到老栓立着的地方，几乎将他挤倒了。
“喂！一手交钱，一手交货！”一个浑身黑色的人，站在老栓面前，眼光正像两把刀，刺得老栓缩小了一半。
那人一只大手，向他摊着；一只手却撮着一个鲜红的馒头，那红的还是一点一点的往下滴。
老栓慌忙摸出洋钱，抖抖的想交给他，却又不敢去接他的东西。
那人便焦急起来，嚷道，“怕什么？怎的不拿！”老栓还踌躇着；黑的人便抢过灯笼，一把扯下纸罩，裹了馒头，塞与老栓；一手抓过洋钱，捏一捏，转身去了。
嘴里哼着说，“这老东西……”白天店里坐着许多人，老栓也忙了，提着大铜壶，一趟一趟的给客人冲茶；两个眼眶，都围着一圈黑线。
突然闯进了一个满脸横肉的人，披一件玄色布衫，散着纽扣，用很宽的玄色腰带，胡乱捆在腰间。
2020年平度市西关中学高三语文月考试卷及答案解析
2020年平度市西关中学高三语文月考试卷及答案解析一、现代文阅读（36分）(一)现代文阅读I(9分)阅读下面文章,完成各题。
警服李伶伶李剑从上班那天起,就没好好穿过警服,因为他不认为自己是个警察。
李剑以优异的成绩毕业于省公安大学,拥有过硬的身体素质和破案能力,以为毕业后会到公安局的刑侦大队工作,没想到被分配到一个街道的派出所当片警,整天处理一些鸡毛蒜皮的琐事,他很郁闷。
所长老陈知道他有情绪,找他谈了几次都没有效果,就睁一只眼闭一只眼随他去了。
这天接到一个报警电话,小区一位年近七旬的老太太家里遭盗窃,上锁抽屉里的银行卡、金项链和2000元现金被偷走。
接到报警后,老陈叫上李剑一起赶到案发现场。
老人住在二楼,门窗都完好无损,抽屉上的锁也没坏,屋里一切井然有序,也没留下指纹。
要不是家里的猫碰掉了放在桌上的烟灰缸,烟灰上留下一个陌生的脚印,老太太还不知道家里进了贼。
屋里没有监控录像,楼门口也没有,小区门口也没有,只有一个不完整的脚印和丢失的东西证明小偷来过。
老陈勘查完现场,看了李剑一眼说:“你觉得小偷是个怎样的人?”李剑说:“从现场情况和脚印看,是个男性惯偷,盗窃技术娴熟,还会开锁。
”老陈说:“惯偷作案前会先踩好点,老太太只是个普通的退休工人,他为什么会对她下手呢?”李剑说:“我刚才跟老太太聊天,了解到老太太的侄女最近在她家住,侄女是做生意的,有钱,开的车是宝马。
可能小偷踩点时误以为她是老太太的女儿,所以趁老太太遛弯时作案。
”老陈说:“你的分析很有逻辑,不过我的结论跟你正好相反,我觉得是熟人作案。
”李剑说:“怎么会是熟人呢?”老陈说:“现场纹丝不乱,像没被翻过,说明案犯知道东西在哪儿;门窗没有破损,说明案犯有这家的钥匙。
而他能在老人外出遛弯这半小时的工夫把东西偷走,说明他对老人的生活作息很熟悉。
这个人的身高不足一米七,体重不超过一百三十斤,年纪三十八岁左右。
”李剑说:“你怎么知道?”老陈说:“脚印告诉我的。
振奋人心！我国自主研发的刻蚀机已经处于国际先进水平
振奋人心！我国自主研发的刻蚀机已经处于国际先进水平经过科研人员的不懈努力，中国正在不断突破“卡脖子”的关键技术，中国自主研发的刻蚀机已经处于国际先进水平！虽然我国是全世界工业门类最齐全的国家，但是我们完成工业化的时间还是太短了。
在高端制造业领域，我国距离美、日、德等发达国家还有不断的一段距离。
其中的典型代表就是芯片，我国目前只能生产中低端芯片，高端芯片只能依赖进口。
为了避免受制于人，许多科学家都投身了芯片制造领域，国内近几年也涌现出一大批半导体企业。
经过科研人员的不懈努力，我们距离发达国家的差距越来越小，许多“卡脖子”的关键技术也被攻克。
芯片生产其实是一个复杂的流程，其中会用到许多特殊的设备。
其中就有一种设备叫做刻蚀机，它的重要性并不比光刻机弱多少。
现在已经有中国企业已经自主研发出精度达到5nm的刻蚀机。
这款刻蚀机得到了三星和台积电的一致认可，台积电5nm芯片的生产就使用了国产的刻蚀机。
现在中国企业已经开始了3nm精度刻蚀机的研发，估计要不了多久就会有好消息传来。
其实刻蚀机的突破只是一个开始，未来还会有其他芯片生产的高端设备实现国产化。
我们更应该给国内的半导体企业一些耐心，想要自主研发出高端芯片绝对是一个漫长的过程。
我们能够取得现在的成绩，已经可以看做是奇迹了。
毕竟我们只是一个国家，但是高端芯片的生产却需要西方世界的通力合作的产品。
我们想要用几年时间追上西方世界上百年的积累，只能是痴人说梦。
不管我们内心多么急迫，我们也要遵循事物发展的客观规律。
我们确实具备后发优势，但是我们付出的努力要比发达国家更多。
这是因为发达国家掌握许多专利，我们只能绕过这些专利，另辟蹊径来实现同样的效果。
本身我们之前对半导体领域的投入可能相对欠缺，我们还要补的课有很多。
说这么多，也是不是给大家泼凉水。
正视差距，我们才能追赶得更快。
其实像芯片这样还没有被我们攻克的高端工业品已经越来越少了，随着我们能够生产出的高端工业品越来越多，发达国家躺着赚钱的日子就结束了！。
刻蚀机重要性评估报告
刻蚀机重要性评估报告刻蚀机重要性评估报告一、引言刻蚀机是一种用于微电子制造过程中的关键设备，用于在硅芯片上制作微细的结构和电路。
本评估报告旨在对刻蚀机的重要性进行评估，并提出相关建议。
二、背景在现代微电子制造过程中，刻蚀技术是不可或缺的一环。
刻蚀机通过使用化学反应或物理碰撞来去除硅片表面部分材料，从而实现微细结构的制造。
刻蚀机的精度和稳定性对于芯片制造的质量和性能具有重要影响。
三、刻蚀机的重要性评估1. 技术先进性：刻蚀机的技术先进性直接影响到刻蚀的精度和速度。
先进的刻蚀机可以更加精确地控制刻蚀深度和形状，提高芯片的制造质量。
2. 制造效率：刻蚀机的速度和稳定性对于生产效率至关重要。
高效稳定的刻蚀机可以大幅缩短芯片制造周期，提高生产效率。
3. 成本控制：刻蚀机的成本对于整个微电子制造过程的成本控制具有重要影响。
高性价比的刻蚀机可以降低制造成本。
4. 资源利用效率：刻蚀机的能耗和材料利用率对于资源利用效率的提高至关重要。
低能耗和高材料利用率的刻蚀机可以减少对能源和材料的浪费。
四、刻蚀机重要性评估结果综合考虑上述因素，刻蚀机在微电子制造过程中的重要性较高。
其高精度、高效率和成本控制的特点，对于提高芯片制造质量、生产效率和资源利用效率具有重要作用。
五、建议鉴于刻蚀机的重要性，我们提出以下建议：1. 加大刻蚀机的研发投入，提升其技术水平，不断提高刻蚀的精度、速度和稳定性。
2. 鼓励对刻蚀机进行创新改进，降低其制造成本，并提高性价比。
3. 强调刻蚀机的节能环保特点，鼓励开发低能耗和高材料利用率的刻蚀机。
4. 加强与相关企业和研究机构的合作，共同推动刻蚀机技术的发展和应用。
六、结论刻蚀机在微电子制造过程中具有重要作用，其技术先进性、制造效率、成本控制和资源利用效率等方面的重要性不容忽视。
通过加大研发投入、促进创新改进和加强合作，可以进一步提升刻蚀机的性能，推动微电子制造工艺的发展。
绕过光刻机？芯片制造“新技术”被曝出,国产芯终于迎来了曙光
绕过光刻机？芯片制造“新技术”被曝出，国产芯终于迎来了曙光随着中国5G的不断发展，我国俨然已经成为了世界5G的领头羊，这让任何前沿技术都坐在世界第一位置上的美国不高兴了，然后它便想着法的来对付中国的5G技术，我们都知道对于通讯技术行业而言，芯片是至关重要的存在，而我国在芯片设计上还可以，但芯片制造上就是我们的短板所在了。
于是美国就抓住了我国的这个痛点，对我国实施了技术封锁，现阶段你要想制造出芯片，必不可少的设备就是光刻机，可美国就表示了不准其他国家将带有美国专利的光刻机卖给中国，那无疑是将中国的后路都给断了，没有高端的光刻机我们就无法制造出我们需要的芯片，于是我们就想着该如何绕过光刻机？近期就有了一个好消息传来，中国的芯片制造“新技术”被曝出，国产芯片终于迎来了曙光。
光刻机的难度中国的这个新技术就是冰刻技术，而传统的光刻技术中所使用的则是光刻胶，光刻胶使用的好坏甚至直接决定着这芯片制作出来的好坏，所以说这个光刻胶的涂抹过程是非常难的，做一个比较形象的比喻，我们把晶片比作木板，这个木板必须不能太大也不能太小，因为我们需要把胶水涂抹在这块木板上。
涂抹的时候一定要将胶水给涂平整，不能涂的不均匀，而木板太小的话，就会很容易造成涂抹不匀的状况。
然后涂抹好了之后，再利用光源对这个木板进行光刻，因为这个光刻胶对光源很敏感，所以它就能在这木板上将电路照射到晶片上，最后就会形成芯片，可以说这光刻技术是非常难得一件事情，而我国在这一方面研究成果一直都不是很大，所以我国一般都会采取直接购买光刻机的方式来制作芯片，可美国这一封锁，无疑是一下子就掐住了我们的喉咙。
中国新技术“冰刻”技术可中国的科学家没有就此放弃，他们想着既然光刻机这么难搞，那我们就干脆换一种方式来制作芯片。
所以西湖大学的副校长仇旻教授就想着如果把光刻胶换成其他的物质不知道可不可行，于是他就朝着这个思路做了很多的研究，最后他发现“水”这种物质就可以，只要把水凝结成冰，那它的作用可比光刻胶还要厉害。
刻蚀机重要性分析报告
刻蚀机重要性分析报告刻蚀机是一种在半导体制造领域广泛使用的设备，用于制作微电子器件的微细特征。
刻蚀工艺是半导体制造中的核心技术之一，而刻蚀机作为刻蚀工艺的关键设备，在半导体工业中具有重要的地位和作用。
下面将从几个方面分析刻蚀机的重要性。
首先，刻蚀机具有高精度和高可控性。
在微电子器件制造过程中，需要制作非常微小的器件特征，如柱状结构、纳米孔隙等，这些需要高精度的刻蚀工艺。
刻蚀机通过精确控制刻蚀条件和参数，能够实现对器件特征进行精细调控，保证器件的质量和性能。
其次，刻蚀机的高效性能能够提高生产效率。
刻蚀是半导体制造流程中的关键工序之一，对生产周期和产能有重要影响。
刻蚀机可以实现快速、连续和自动化的刻蚀过程，大大缩短了制造周期，增加了生产效率。
同时，刻蚀机也具有多通道和多层刻蚀功能，可以同时处理多个器件，进一步提高了生产效率。
再次，刻蚀机具有良好的刻蚀均匀性和性能稳定性。
在微电子器件制造过程中，刻蚀均匀性对于保证器件特征的一致性和可重复性非常重要。
刻蚀机通过设计合理的刻蚀室结构和优化刻蚀参数，能够实现良好的刻蚀均匀性，并且能够减小工艺变化对刻蚀结果的影响，保证刻蚀性能的稳定性。
最后，刻蚀机的技术发展和创新对于推动半导体工业的发展具有重要意义。
随着科技的不断进步和需求的不断增加，半导体器件的特征尺寸越来越小，制造工艺也越来越复杂。
刻蚀机作为刻蚀工艺的关键设备之一，需要不断进行技术创新，以适应新的制造需求。
刻蚀机的技术发展和创新将推动整个半导体工业的进步，促使微电子器件的制造工艺得到改进和优化。
综上所述，刻蚀机在半导体制造领域的重要性不言而喻。
它具有高精度和高可控性，能够提高生产效率，保证刻蚀均匀性和性能稳定性，并且对推动半导体工业的发展具有重要意义。
因此，刻蚀机被广泛应用于半导体制造工艺中，成为半导体工业中不可或缺的设备之一。
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国产刻蚀机很棒，但造芯片只是“配角”
近来有网络媒体称，“中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机，性能优良，将用于全球首条5纳米芯片制程生产线”，并评论说“中国芯片生产技术终于突破欧美封锁，第一次占领世界制高点”“中国弯道超车”等等。
中微公司的刻蚀机的确水平一流，但夸大阐述其战略意义，则被相关专家反对。
刻蚀只是芯片制造多个环节之一。
刻蚀机也不是对华禁售的设备，在这个意义上不算“卡脖子”。
首先，外行容易混淆“光刻机”和“刻蚀机”。
光刻机相当于画匠，刻蚀机是雕工。
前者投影在硅片上一张精细的电路图（就像照相机让胶卷感光），后者按这张图去刻线（就像刻印章一样，腐蚀和去除不需要的部分）。
光刻机是芯片制造中用到的最金贵的机器，要达到5纳米曝光精度难比登天，ASML公司一家通吃高端光刻机；而刻蚀机没那幺难，中微的竞争对手还有应用材料、泛林、东京电子等等，国外巨头体量优势明显。
“中微的等离子刻蚀机这几年进步确实不小，”科技日报记者采访的一位从事离子刻蚀的专家说，“但现在的刻蚀机精度已远超光刻机的曝光精度；芯片。