磁控溅射实验有关步骤和操作流程

磁控溅射实验有关步骤和操作流程

准备步骤：（本实验室为无尘实验室，要注意保持实验室的清洁）

1打扫实验室（为防止灰尘溅起，用湿拖把或吸尘器清扫实验室）。2清洗基片。3放气。4插拔归位。5关放气门。

开始试验：

1，开循环水系统。2，开总开关。3，开2号机柜总开关。4，开照明，升起真空室。5，戴上手套和口罩。6，取相应的靶材装入相应靶位放基片（拆开装置，并清洗靶材罩，靶材盖）。7，清洁真空室，后退齿轮盘孔位，降下真空室。8，开真空计，开机械泵，开V1，粗抽至3Pa以下。9，关V1,开电磁阀，开分子泵（先开分子泵总电源，闪“600“打启动，到达‘500’，开闸板阀）细抽至 1.5*10e-3Pa。10，开氩气瓶，开V3，开V5，调流量计到指定的示数，开1号机柜总开关，（如果是射频溅射，打射频预热3~5min，如果是直流不需要加热。）11，调压强3~4Pa，调节起辉，调好功率，调压到指定压强，拨齿轮盘进行溅射。12，记录溅射时间。

关闭：1，关板压，关灯丝开关，关1号柜总电源。2，关氩气，关V5，关V3，关闸板阀。3，关分子泵（先‘停止’当转速达‘50’一下时关分子泵电源）。4，关电磁阀，关机械泵，关2号机柜其他电源开关，关2号机柜总电源，关总开关，关循环水系统。备注：如果需要对基片加热，启动机械泵后即可打开控温开关，根据实验要求设定控温程序程序。