减反膜制备工艺及其应用
减反膜的制备工艺
减反膜的制备工艺减反膜是一种具有特殊光学功能的薄膜材料，可以减少光线的反射和增加透射，常用于光学器件、太阳能电池和显示器等领域。
制备高质量的减反膜需要经过多个工艺步骤，下面我将详细介绍减反膜的制备工艺。
减反膜的制备通常包括镀膜材料的选择、膜层设计、基片清洗、沉积工艺参数和后处理等步骤。
首先，在减反膜的制备过程中，选择合适的镀膜材料非常重要。
常用的减反膜材料包括二氧化硅（SiO2）、三氧化二铝（Al2O3）、二氧化钛（TiO2）等。
这些材料具有较高的折射率和透明度，适合用于制备减反膜。
其次，在减反膜的设计中，需要根据具体应用要求确定膜层结构和厚度。
一般来说，减反膜的膜层结构可以采用多层或者梯度折射率结构。
多层结构通过不同材料层的折射率和厚度的调节，实现对宽波段的减反射效果；梯度折射率结构则通过在膜层中逐渐改变折射率和厚度的方式来达到减反射效果。
根据具体应用需求，可以选择合适的膜层结构。
第三，在准备基片之前，需要对基片进行清洗处理。
基片表面的杂质和污染物会影响膜层的质量和附着力。
常用的清洗方法包括溶剂清洗、超声波清洗和离子束抛光等。
清洗过程中要避免刮伤基片表面，确保基片的表面光洁度。
第四，在基片清洗完成后，就可以进行沉积工艺了。
沉积工艺包括物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）两种方法。
PVD常用的方法有热蒸发（thermal evaporation）、电子束蒸发（electron beam evaporation）和磁控溅射（magnetron sputtering）等。
CVD常用的方法有低压化学气相沉积（LPCVD）和等离子体增强化学气相沉积（PECVD）等。
最后，对于制备好的减反膜，还需要进行后处理来提高膜层的光学性能和稳定性。
后处理方法包括热退火、离子交联和表面涂层等。
热退火可以改善膜层的致密性、折射率和附着力；离子交联可以提高膜层的硬度和耐磨性；表面涂层可以改善膜层的耐久性和抗污染性。
手机视屏减反射膜的镀制工艺
手机视屏减反射膜的镀制工艺手机的彩色液晶显示屏上采用减反射保护膜，可降低人眼受到外界炫光刺激的影响，提升观看舒适度，并保护眼睛。
常用手机的基材是PC或亚克力基材。
这两种基材作为彩色液晶显示屏的保护屏，都存在反射率高的缺点。
因为未经镀膜的保护屏界面至少有4.2%的反射率，在强光（如太阳光）的照射下，其反射光的强度会严重降低显示屏图像的对比度。
所以，如对保护屏表面镀反射率小于0.5%的减反射膜，将会提高显示屏的清晰度。
在保护屏表面用磁控溅射方法分别镀上高折射率的Ti0₂膜和低折射率的Si0₂膜，使保护屏具有低反射增透的效果。
由于PC或亚克力基材是有机材料，所以沉积温度应在30-35℃范围之内。
镀膜工艺(1)基片-PMMA，PC。
(2)膜系一二层减反射膜十防水膜。
膜系结构，如图1所示。
(3)镀膜。
采用连续式磁控溅射镀膜机进行反应沉积。
①电源：Si靶用中频电源，Ti靶用直流十脉冲电源。
②真空度：通入Ar、02，真空度为5 X 10-1Pa。
③温度：25～35℃④最后沉积防水膜IAF3。
浅谈手机镜头光学镀膜大家都知道光线通过不同介质时会产生反射和折射，而现代手机镜头结构更复杂镜片数更多，所以光线进入镜头后发生的反射和折射的次数就会越多。
这样就会导致两个问题，一是通过镜头的光线会有较大的损失，二是光线在镜头内发生多次反射与折射就会产生我们所说的杂光和鬼影。
而镀膜技术能非常有效地改善这些问题。
光学镀膜原理光学镀膜是以光的波动性和干涉现象为基础，在镜头表面镀上一层厚度极薄的物质，如氟化镁、二氧化硅、氟化铝等，来达到提高镜片的透过率，减少镜片的反射率的效果。
简而言之，光学膜层首先是厚度薄，其厚度可以和入射光波长相比拟，其次是会产生一定光学效应引起光线干涉。
光学镀膜在手机领域中的作用在手机领域中除了成像品质外，镜头的透过率对提升图像品质起着非常重要的作用。
目前手机行业通常采用树脂作为镜片基材，为了减少镜片反射，提升透过率，我们会在镜片表面镀AR增透膜（减反膜），它是一种硬质耐热氧化膜，可在特定波长范围内将元器件表面的反射率最小化。
减反射膜的工作原理
减反射膜的工作原理
减反射膜的工作原理是通过改变光的传播路径，减少光的反射。
减反射膜的工作原理主要涉及以下几个方面：
1. 折射率匹配：减反射膜由一层或多层薄膜构成，其中每层的折射率逐渐变化。
通过优化各层膜的折射率，使得入射光与膜层之间的折射率匹配，从而减少了光的反射。
2. 反射干涉：减反射膜是由多层薄膜构成的，每层薄膜的厚度精确控制，使得光在不同层之间发生干涉。
通过优化膜层之间的厚度，使得反射光波与透射光波之间的相位差相互抵消，从而减少了光的反射。
3. 多层膜的设计：减反射膜的设计要考虑入射光的波长范围和入射角度等因素，通过合理设计多层膜的折射率和膜层的厚度，以实现最佳的减反射效果。
4. 材料特性：减反射膜通常使用具有较低折射率的材料，如金属氧化物或二氧化硅等。
这些材料具有较低的折射率和较高的透过率，可以减少入射光的反射。
综上所述，减反射膜通过折射率匹配、反射干涉、多层膜的设计和特殊材料的选择等方式，减少了光的反射，提高了透过率和视觉清晰度。
减反膜制备工艺及其应用_罗海燕
·综述·减反膜制备工艺及其应用罗海燕1,黄光周1,马国欣1,朱建明2,戴晋福2(1.华南理工大学电信学院,广东广州 510640;2.广东肇庆市科润真空设备有限公司,广东肇庆市 526060)Anti-Reflective Film Preparation Technology and Its ApplicationLUO H ai-yan1,H UANG Guang-zhou1,M A Guo-x in1,ZH U Jian-ming2,DAI Jin-fu2(1.College o f Electronic and In f ormation Engineering,South China University of Technology,Guangzhou510640,China;2.Z haoqing K erun Vacuum Equip ment Co.Ltd.o f Guang dong,Zhaoqing526060,China)A bstract:Anti-reflective film possesses a ve ry important position in mo dern optical film production in-dustry.Its re search is mostly depending on its techno logy.In this paper,the research prog ress in anti-re-flective film preparatio n technolo gy is summ arized.The m erits and draw backs of these preparation meth-o ds,such as vacuum evapo ration,sputtering and sol-gel,have been analyzed and com pared.The applica-tion pro spects for anti-reflectiv e film preparatio n technolo gy are also analyzed,providing a go od reference fo r anti-reflective film prepara tion.Key words:Anti-reflective film;Preparation technolog y;Reflectance;T ransmissio n摘要:减反膜在现代光学薄膜生产中占有十分重要的地位,其研究依赖于制备工艺。
减反膜简要计算公式
减反膜简要计算公式减反膜是一种广泛应用于光电领域的薄膜材料，其主要作用是减少光的反射，提高光的透射率。
减反膜的计算公式是减反膜的设计和制备过程中必不可少的工具。
本文将简要介绍减反膜的计算公式及其应用。
减反膜的计算公式主要有两种，分别是菲涅尔公式和多层膜折射率计算公式。
菲涅尔公式是描述光在介质表面反射和透射的现象的数学公式，其通过计算入射角、介质折射率等参数，得到反射和透射的光强。
多层膜折射率计算公式则是用于计算多层膜系统中不同层的折射率，从而确定膜层的厚度和折射率的选择。
菲涅尔公式可以表示为：\[R = \left(\frac{n_1-n_2}{n_1+n_2}\right)^2\]其中，R是反射率，n1和n2分别是两个介质的折射率。
多层膜折射率计算公式可以表示为：\[n_{eff} = \frac{2\pi}{\lambda}\cdot d\cdot (n_1^2-n_2^2)\]其中，n_eff是膜层的有效折射率，λ是光的波长，d是膜层的厚度，n1和n2分别是膜层两侧的介质折射率。
减反膜的设计和制备可以通过以上两种公式进行计算。
首先，根据所需的光学性能，选择合适的介质材料和厚度。
然后，利用多层膜折射率计算公式，计算出每一层膜的折射率。
接下来，根据菲涅尔公式，计算出不同层之间的反射率。
通过不断优化膜层的厚度和折射率，可以实现期望的光学性能。
减反膜的应用十分广泛。
在光学器件中，减反膜可以应用于太阳能电池、激光器、光学镜片等，以提高能量转换效率和光学传输效率。
在光学涂层中，减反膜可以用于抗反射涂层、光学滤波器等，以改善光学设备的成像质量和色彩还原能力。
在光学显示中，减反膜可以用于消除镜面反射，提高显示屏的视觉效果。
减反膜的计算公式是设计和制备减反膜的基础工具。
菲涅尔公式和多层膜折射率计算公式可以帮助我们理解光在介质中的传播规律，并根据需要设计出具有特定光学性能的减反膜。
减反膜的应用涵盖了光电领域的各个方面，为提高光学器件和光学设备的性能发挥了重要作用。
减反射膜的基本原理
减反射膜的基本原理减反射膜是一种能够降低光的反射率的薄膜材料，它在光学器件、光电设备、太阳能电池板等领域有着广泛的应用。
减反射膜的基本原理是通过调节膜层的厚度和折射率，使得光在膜层表面和基底之间发生干涉，从而降低反射光的强度。
在光线从空气射入减反射膜时，由于空气和减反射膜之间存在折射率的差异，光线会发生反射。
而减反射膜的设计则是要减少这种反射，使更多的光能够穿过薄膜进入器件内部。
减反射膜的设计是基于干涉原理的。
干涉是指两束或多束光线相互叠加而产生的现象。
当光线从空气射入减反射膜表面时，一部分光线会直接穿过膜层，一部分光线则会发生反射。
这两部分光线在膜层表面和基底之间发生干涉，形成干涉波。
通过调节减反射膜的厚度和折射率，可以使得反射光的波长与穿透光的波长之间存在相位差。
当相位差满足一定条件时，反射光的波峰和穿透光的波峰重合，两者相互干涉，导致反射光的强度减弱。
这种干涉现象可以通过减反射膜的多层结构来实现。
减反射膜的多层结构是由多个薄膜层叠加而成的。
每一层膜层的厚度和折射率都是根据所需的减反射效果进行设计的。
通过在薄膜层之间形成一系列的干涉波，可以实现对特定波长光线的减反射效果。
这样，当光线从空气射入减反射膜时，会经过多个薄膜层的干涉，最终达到降低反射率的效果。
除了多层结构，减反射膜还可以通过改变膜层的折射率来实现减反射的效果。
通过选择合适的材料，并控制膜层的厚度，可以使得反射光与穿透光之间的相位差达到最小，从而实现最低的反射率。
减反射膜的优点是可以提高光的利用率，减少光的损失。
在光电设备和光学器件中，减反射膜可以提高透过率，提高器件的灵敏度和性能。
在太阳能电池板中，减反射膜可以提高光的吸收率，提高电池的转换效率。
减反射膜通过调节膜层的厚度和折射率，利用干涉原理来降低光的反射率。
它的设计基于多层膜结构和折射率的变化，通过干涉现象来实现对特定波长光线的减反射效果。
减反射膜在光学器件、光电设备、太阳能电池板等领域有着广泛的应用前景，可以提高光的利用率，提高器件的性能。
减反射膜制备过程、原理
钝化技术
• 氢钝化：钝化硅体内的悬挂键等缺陷。在晶体生 长中受应力等影响造成缺陷越多的硅材料，氢钝 化的效果越好。氢钝化可采用离子注入或等离子 体处理。在多晶硅太阳电池外表采用PECVD法 镀上一层氮化硅减反射膜，由于硅烷分解时产生 氢离子，对多晶硅可产生氢钝化的效果。
工艺沿革
• 1、SiO(一氧化硅)和真空镀膜技术
• 2、TiO2(氧化钛)和热喷涂技术 • 利用钛酸四丁脂在400℃以上分解。
• 3、SiNx:H减反射膜和PECVD〔等离子 增强的化学气相沉积〕技术
目录
• SiNx:H简介 • SiNx:H在太阳电池中的应用 • PECVD原理 • 光学特性和钝化技术 • 系统构造及平安事项
• 折射率 (nominal 约2.1) o 同一硅片 +/- 0.5% o 同一片盒内的硅片 +/- 0.5% o 不同片盒内的硅片 +/- 0.5%
钝化技术
• 由于硅晶体外表存在大量的空键，他们会吸引周围 的金属杂质成为复合中心，从而缩缺少子寿命最终 影响太阳电池的性能。因此对材料外表和体内缺陷 进展钝化非常重要。钝化工艺一般分外表氧钝化和 氢钝化。
优良的外表钝化效果 高效的光学减反射性能〔厚度和折射率匹配〕 低温工艺〔有效降低本钱〕 含氢SiNx:H可以对mc-Si提供体钝化
SiNx在太阳电池中的应用
PECVD
• PECVD • =Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition • 即“等离子增强型化学气相沉积〞，是一种化学
减反膜的制备及其应用
减反膜的制备及其应用1、减反膜简介：减反射膜又称增透膜，它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光。
最简单的增透膜是单层膜，它是镀在光学零件光学表面上的一层折射率较低的薄膜。
如果膜层的光学厚度是某一波长的四分之一，相邻两束光的光程差恰好为π,即振动方向相反，叠加的结果使光学表面对该波长的反射光减少。
适当选择膜层折射率，这时光学表面的反射光可以完全消除。
一般情况下，采用单层增透膜很难达到理想的增透效果，为了在单波长实现零反射,或在较宽的光谱区达到好的增透效果，往往采用双层、三层甚至更多层数的减反射膜。
减反射膜是应用最广、产量最大的一种光学薄膜，因此，它至今仍是光学薄膜技术中重要的研究课题，研究的重点是寻找新材料，设计新膜系,改进淀积工艺,使之用最少的层数，最简单、最稳定的工艺，获得尽可能高的成品率，达到最理想的效果。
对激光薄膜来说，减反射膜是激光损伤的薄弱环节，如何提高它的破坏强度，也是人们最关心的问题之一。
2、减反膜的原理：减反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。
二个振幅相同，波长相同的光波叠加，那么光波的振幅增强；如果二个光波原由相同，波程相差，如果这二个光波叠加，那么互相抵消了。
减反射膜就是利用了这个原理，在镜片的表面镀上减反射膜，使得膜层前后表面产生的反射光互相干扰，从而抵消了反射光，达到减反射的效果。
3、制备方法和工艺：每种方法都有其特点和特定的应用范围,寻找可以100%透过的减反膜制备方法尚有困难,只能根据不同的特点和要求,分别采用不同的方法和工艺。
下面将分别介绍这些方法,并较详细的介绍真空蒸镀法、电阻加热法和电子束蒸镀法。
1）真空蒸镀真空蒸镀与其他成膜法相比,工艺比较简单,容易操作,成膜速度快,效率高等优点,因此广泛的应用于减反膜的镀制[2-3]。
R1Kaigawa等[4]采用一系列的真空蒸镀方法镀制了Cu(In,Ga)S2薄膜,在250℃下镀制In2Ga2S(In∶Ga=017∶013)薄膜,蒸镀时间为30min,膜层厚度为015μm;在510℃下,再镀制Cu和S,时间为36～72min,厚度均为015μm。
太阳能电池减反射膜的作用
太阳能电池减反射膜的作用太阳能电池是一种将太阳能转化为电能的设备，它可以将太阳能直接转化为电能，减轻对传统能源的依赖，减少对环境的污染。
然而，太阳能电池在转化过程中会遭受反射损失，导致能量的浪费和效率的降低。
为了解决这个问题，人们开发了太阳能电池减反射膜，用以减少反射损失，提高太阳能电池的利用效率。
1.提高光吸收：减反射膜能够降低太阳光在太阳能电池表面的反射率，使更多的光线被吸收，转化为电能。
通常，普通玻璃表面的反射率约为4%，而具有减反射膜的太阳能电池表面的反射率可以降低到1%左右。
通过减少反射，太阳能电池的光吸收能力得到提高，从而提高了其转化效率。
2.增强光透射：太阳能电池减反射膜能够增强光的透射能力，使光线更容易通过太阳能电池的表面，达到光栅、PN结等光电器件之间，提高能量的传递效率。
光透射的增强可以有效降低太阳能电池光吸收层的光路径长度，减小光的损失，提高太阳能电池的光电转换效率。
3.抑制光能损失：减反射膜可以通过多层膜材料的叠加，实现光的全波段抑制，使光线更多地被吸收，而不是被反射出去。
这样可以有效减少光能的损失，提高电池的能量转化效率。
4.增加太阳能电池的耐候性和耐腐蚀性：太阳能电池减反射膜采用特殊的材料和处理工艺制成，具有良好的耐候性和耐腐蚀性，能够长时间稳定地保护太阳能电池表面光电转换层的性能和稳定性。
总的来说，太阳能电池减反射膜的作用是降低太阳能电池表面的反射损失，增加光的吸收和透射，提高太阳能电池的转化效率。
通过有效利用太阳能，并降低能源消耗，太阳能电池减反射膜可以减少对传统能源的依赖，保护环境，具有重要的经济和环境意义。
光伏减反射膜
光伏减反射膜光伏减反射膜是一种应用于太阳能电池板上的薄膜材料，其主要作用是减少太阳光的反射，提高太阳能电池板的光吸收率，从而提高太阳能电池板的发电效率。
在太阳能电池板的应用中，光伏减反射膜是非常重要的一种材料，下面我们来详细了解一下光伏减反射膜的相关知识。
光伏减反射膜是一种能够减少太阳光的反射的薄膜材料，其主要作用是提高太阳能电池板的光吸收率，从而提高太阳能电池板的发电效率。
在太阳能电池板的应用中，光伏减反射膜能够有效地减少太阳光的反射，提高太阳能电池板的光吸收率，从而提高太阳能电池板的发电效率。
此外，光伏减反射膜还能够提高太阳能电池板的耐候性和耐腐蚀性，延长太阳能电池板的使用寿命。
二、光伏减反射膜的种类光伏减反射膜的种类主要有以下几种：1、硅氧化物减反射膜硅氧化物减反射膜是一种常用的光伏减反射膜，其主要成分是SiO2。
硅氧化物减反射膜具有良好的光学性能和化学稳定性，能够有效地减少太阳光的反射，提高太阳能电池板的光吸收率，从而提高太阳能电池板的发电效率。
2、氮化硅减反射膜氮化硅减反射膜是一种新型的光伏减反射膜，其主要成分是Si3N4。
氮化硅减反射膜具有良好的光学性能和化学稳定性，能够有效地减少太阳光的反射，提高太阳能电池板的光吸收率，从而提高太阳能电池板的发电效率。
此外，氮化硅减反射膜还具有良好的耐热性和耐腐蚀性，能够延长太阳能电池板的使用寿命。
3、氧化锌减反射膜氧化锌减反射膜是一种常用的光伏减反射膜，其主要成分是ZnO。
氧化锌减反射膜具有良好的光学性能和化学稳定性，能够有效地减少太阳光的反射，提高太阳能电池板的光吸收率，从而提高太阳能电池板的发电效率。
此外，氧化锌减反射膜还具有良好的耐热性和耐腐蚀性，能够延长太阳能电池板的使用寿命。
三、光伏减反射膜的制备方法光伏减反射膜的制备方法主要有以下几种：1、物理气相沉积法物理气相沉积法是一种常用的光伏减反射膜制备方法，其主要原理是利用高温下的物理气相反应，在太阳能电池板表面形成一层光伏减反射膜。
晶硅太阳电池减反射膜原理与制备方法
晶硅太阳电池减反射膜原理与制备方法摘要：提高太阳能的利用率，尤其是太阳电池的光电转化率是科研工作者研究的一个重要方向。
对于提高太阳电池的光电转换效率的方法很多，但比较可行又能降低太阳电池成本的方法是在太阳电池表面形成一层减反射薄膜，以减少太阳电池表面对阳光的反射损失。
目前应用较广泛的方法是喷涂和刷涂法等。
关键词：太阳电池，减反射薄膜，薄膜制备方法1 减反射薄膜的原理[1]在了解减反射薄膜原理之前，要先了解几个简单的概念：第一，光在两种媒质之界面上的振幅反射系数为(1-ρ)/(1+ρ)，式中ρ为界面处两折射率之比。
第二，若反射光存在于折射率比相邻媒质更低的媒质内，则相移为180°；若该媒质的折射率高于相邻媒质的折射率，则相移为零。
第三，光因受薄膜上下两个表面的反射而分成两个分量，这两个分量将按如下方式重新合并：当它们的相对相移为180°时，合振幅便是两个分量振幅之差；当相对相移为零或为360°的倍数时，合振幅便是两个分量振幅之和。
前一种情况称为两光束发生相消干涉；后一种情况称为相长干涉。
1.1 单层减反射薄膜的原理结构最简单的减反射膜是单层膜。
图1所示为单层减反射薄膜的矢量图。
图1 减反射膜引起的光学干涉膜有两个界面就有两个矢量，每个矢量表示一个界面上的振幅反射系数。
如果膜层的折射率低于基片的折射率，则在每个界面上的反射系数都为负值，这表明相位变化为180°。
当膜层的相位厚度为90°时，即膜层的光学厚度为某一波长的四分之一时，则两个矢量的方向完全相反，合矢量便有最小值。
如果矢量的模相等，则对该波长而言，两个矢量将完全抵消，于是出现了零反射率。
以上仅仅是垂直入射的情况。
在倾斜入射时，情况与上述类似，只是膜层的有效相位厚度减少了，因而最佳透射波长更短些，此时应用更普遍的光纳来代替折射率。
对于任何入射角、偏振面以及任何波长，可用矩阵法求出反射率的普遍公式。
光伏减反射膜
光伏减反射膜
一、引言
光伏减反射膜是一种应用于太阳能电池板的薄膜，它可以有效地减少太阳能电池板表面的反射，从而提高太阳能电池板的转换效率。
本文将详细介绍光伏减反射膜的原理、制备方法、性能以及应用等方面。
二、原理
太阳能电池板表面的反射会导致部分光线无法被吸收，从而影响太阳能电池板的转换效率。
光伏减反射膜通过在太阳能电池板表面形成一层具有逐渐变化折射率的薄膜来实现减少反射。
这种薄膜可以通过控制材料沉积速度和温度等条件来实现。
三、制备方法
1. 真空沉积法：将材料放置在真空室中，通过加热使其升华并沉积在太阳能电池板表面。
2. 溅射法：将材料放置在溅射器中，在高压气体或真空环境下进行溅射，使其沉积在太阳能电池板表面。
3. 溶液法：将材料溶解在溶剂中，然后通过旋涂、喷涂等方法将其沉积在太阳能电池板表面。
四、性能
光伏减反射膜的主要性能包括折射率、透过率、耐候性、耐化学腐蚀性等。
其中，折射率和透过率是影响太阳能电池板转换效率的两个关键因素。
一般来说，折射率越低，透过率越高，则太阳能电池板的转换效率越高。
五、应用
光伏减反射膜广泛应用于太阳能电池板领域。
目前市场上常见的太阳能电池板都会采用光伏减反射膜来提高转换效率。
此外，光伏减反射膜还可以应用于其他领域，如显示器、LED照明等。
六、结论
随着对可再生能源需求的不断增长，太阳能电池板作为一种重要的可再生能源发电方式受到了广泛关注。
而光伏减反射膜作为提高太阳能电池板转换效率的关键技术之一，也将在未来得到更广泛的应用。
氮化硅减反射膜
氮化硅减反射膜一、什么是氮化硅减反射膜氮化硅减反射膜是一种涂层材料，主要用于光学设备中，能够有效地减少光的反射率，提高光的透过率。
它由氮化硅（Si3N4）和二氧化硅（SiO2）等材料组成，通过特殊的制备工艺将其涂覆在光学元件表面上。
二、氮化硅减反射膜的优点1. 提高光透过率：由于其具有良好的折射率和吸收系数，能够有效地降低表面反射率，提高透过率。
2. 增强视觉效果：减少了表面反射，可以使物体更加清晰、明亮。
3. 提高设备性能：对于一些需要高精度、高灵敏度的光学设备来说，使用氮化硅减反射膜可以提高设备性能。
三、氮化硅减反射膜的制备工艺1. 离子束沉积法：通过离子束轰击目标材料，使得目标材料从表面剥离，并沉积在基底上形成涂层。
2. 磁控溅射法：通过在真空环境下，将目标材料置于磁场中，利用高能粒子轰击目标材料，使其从表面剥离，并沉积在基底上形成涂层。
3. 激光沉积法：通过激光束照射目标材料表面，使其蒸发并沉积在基底上形成涂层。
四、氮化硅减反射膜的应用领域1. 光学镜片：在光学镜片表面涂覆氮化硅减反射膜，可以有效地减少表面反射，提高透过率。
2. 光电子器件：在光电子器件的表面涂覆氮化硅减反射膜，可以提高器件的性能和灵敏度。
3. 太阳能电池板：在太阳能电池板上涂覆氮化硅减反射膜，可以提高太阳能电池板的转换效率。
4. 显示器：在显示器表面涂覆氮化硅减反射膜，可以提高显示效果和观看体验。
五、氮化硅减反射膜的未来发展随着科技的不断发展，氮化硅减反射膜将会在更多领域得到应用。
同时，制备工艺也将不断改进，涂层的效果和性能将会得到进一步提高。
未来，氮化硅减反射膜有望成为光学设备中必不可少的重要组成部分。
减反膜设计原理
减反膜设计原理减反膜（Antireflection coating）是一种能够减少光学器件表面反射的薄膜涂层。
它可以提高光学器件的透射率和光学性能，广泛应用于太阳能电池、眼镜、镜片、摄像头等领域。
减反膜设计原理是通过特定的光学层堆积结构，使得入射光在不同介质之间的界面上发生干涉，从而实现对特定波长范围内的光的消除或减弱。
入射光与介质界面当入射光从一个介质进入另一个介质时，由于两个介质的折射率不同，会发生反射和折射。
根据菲涅尔公式，入射角和折射角之间存在一个临界角，当入射角大于临界角时，所有入射光都会被全反射。
反射与干涉在两个介质之间形成表面时，在边界上会发生一部分反射和透射。
这些反射和透射产生了干涉效应。
干涉效应是由于光的波动性导致的，当入射光与反射光相遇时，它们会叠加形成干涉图样。
干涉的结果是某些波长范围内的光被增强，而另一些波长范围内的光被抑制。
薄膜堆积结构减反膜的设计原理是通过选择不同材料和厚度来控制入射光在薄膜堆积结构中的传播和干涉。
减反膜通常由多层薄膜组成，每一层都有不同的折射率和厚度。
多层介质设计多层介质设计是减反膜设计中常用的方法之一。
在多层介质结构中，每一层材料都具有不同的折射率，并且按照特定的顺序排列。
通过精确选择每一层的厚度和折射率，可以实现对特定波长范围内光线的消除或减弱。
全息法全息法是另一种常用于减反膜设计的方法。
全息法利用了全息干涉图样产生器件表面微结构来实现减反效果。
通过将微结构的周期性和形状调整到与入射光波长相匹配，可以实现对特定波长范围内光线的消除或减弱。
薄膜材料选择薄膜材料的选择是减反膜设计中的关键因素之一。
常用的薄膜材料包括二氧化硅（SiO2）、三氧化二铝（Al2O3）、氮化硅（Si3N4）等。
这些材料具有不同的折射率和透过率，可以根据实际需求选择合适的材料。
设计优化减反膜设计是一个复杂的过程，需要综合考虑多个因素。
在设计过程中，需要优化每一层薄膜的厚度和折射率，以最大限度地减少反射并提高透射率。
减反射膜制备
减反射膜制备：减反射膜的制备方法有多种，其中一种常用的方法是溶胶-凝胶法。
该方法以含高化学活性组分的化合物为前驱体，在液相下将这些原料均匀混合并进行水解、缩合化学反应，在溶液中形成稳定的透明溶胶体系。
通过提拉、涂覆等工艺过程在基体上得到减反射膜。
溶胶-凝胶法制备薄膜具有合成温度低、操作简单、反应易于控制、制备材料非常均匀等特点。
在溶胶的制备、成型、老化、干燥、脱水、致密化过程中，通过控制和调整溶剂用量、陈化时间、保温时间及温度等因素可合成均匀致密的薄膜。
此外，化学气相沉积法也是一种制备减反射膜的方法。
该方法将含有构成薄膜元素的气体供给衬底，利用加热、紫外光及等离子体等能源，在衬底上发生化学反应沉积薄膜，可以制备出减反射膜。
另外，溅射法也是制备减反射膜的一种方法。
减反膜的制备工艺
减反膜的制备工艺减反膜是一种具有光学性能的薄膜材料，能够减少或反射光线的干扰，使得观察者可以更清晰地看到物体。
减反膜广泛应用于光学器件、光学仪器、显示器和太阳能电池等领域。
减反膜的制备工艺涉及到材料选择、涂布技术以及后处理等多个方面。
首先，材料选择是减反膜制备的关键。
通常采用的材料有氟化镁镁（MgF2）、二氧化硅（SiO2）、二氧化钛（TiO2）等。
这些材料具有较高的折射率和透明性，同时也具备良好的耐热性和化学稳定性。
其次，涂布技术是制备减反膜的重要步骤。
目前常用的涂布技术包括溅射法、离子束法和化学气相沉积法。
这些技术可以在基板表面均匀地涂布上薄膜材料，并通过调节工艺参数，如沉积速率和温度等，控制薄膜的厚度和成分。
在溅射法中，通过将薄膜材料置于真空室中，引入稀薄气体并施加较高的电压，使得薄膜材料从靶材中剥离并沉积在基板上。
这种方法可以制备出较为均匀的减反膜，但需要较高的设备成本。
离子束法是将薄膜材料加热至高温，利用高能离子束轰击薄膜材料表面，使其溅射至基板上形成薄膜。
这种方法具有较高的沉积速率和较大的灵活性，适用于制备复杂的薄膜结构。
化学气相沉积法是在高温下，将薄膜材料的挥发物暴露在气相中，通过化学反应沉积在基板上。
这种方法制备的减反膜具有较高的成分均匀性和厚度均匀性。
制备完减反膜之后，还需要进行后处理步骤。
常见的后处理方法包括退火和离子束辅助退火。
退火是将制备好的薄膜材料加热至一定温度，以提高薄膜的致密性和结晶度。
离子束辅助退火是在退火过程中，利用高能离子束轰击薄膜表面，以进一步改善薄膜的性能。
总的来说，减反膜的制备工艺涉及到材料选择、涂布技术和后处理等多个步骤。
通过合理选择材料，采用适当的涂布技术和后处理方法，可以制备出具有优异光学性能的减反膜。
随着技术的不断进步，制备工艺也将不断创新和改进，以满足不同领域对减反膜的需求。
增透减反膜
增透减反膜增透减反膜是一种广泛应用于光学领域的薄膜技术，它能够在光学元件表面形成一层特殊的薄膜，以实现增透和减反的效果。
本文将介绍增透减反膜的原理、应用和未来发展。
我们来了解一下增透减反膜的原理。
增透膜是一种在光学元件表面形成的薄膜，它通过对光的干涉和反射来实现增透和减反的效果。
增透膜的制备过程是通过多层膜的堆积，每一层膜的厚度和折射率都有所不同。
当光线通过增透膜时，不同层膜之间的光程差会导致光的干涉现象，从而实现增透效果。
同时，增透膜的设计也可以使得光在膜层之间反射的能量减小，从而实现减反效果。
随着科技的发展，增透减反膜在各个领域得到了广泛的应用。
在光学器件中，增透减反膜可以提高光学元件的透过率，减少光的反射损耗，从而提高器件的性能。
例如，在太阳能电池中使用增透减反膜，可以提高太阳能电池的发电效率。
在光学镜片中使用增透减反膜，可以提高镜片的透明度和清晰度。
在摄影镜头中使用增透减反膜，可以减少镜头的反射，提高照片的质量。
除了光学领域，增透减反膜还在其他领域有着重要的应用。
在显示技术中，增透减反膜可以提高显示屏的亮度和对比度，提高用户的视觉体验。
在光纤通信中，增透减反膜可以减少光纤之间的反射和损耗，提高信号的传输效率。
在激光加工中，增透减反膜可以降低激光器的反射损耗，提高激光加工的效率和质量。
随着科技的不断进步，增透减反膜技术也在不断发展。
一方面，科研人员正在研究新的材料和制备方法，以实现更高的增透和减反效果。
另一方面，科研人员也在研究如何将增透减反膜技术应用于更多的领域，以满足不同领域的需求。
总结一下，增透减反膜是一种在光学元件表面形成的薄膜技术，它可以实现增透和减反的效果。
它在光学领域以及其他领域都有着广泛的应用，可以提高光学元件的性能和用户的体验。
随着科技的发展，增透减反膜技术也在不断进步，为各个领域带来了更多的应用潜力。
相信在未来，增透减反膜技术将会在更多的领域发挥重要作用，为人类创造更加美好的未来。
减反膜的制备及其应用
减反膜的制备及其应用1、减反膜简介：减反射膜又称增透膜，它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光。
最简单的增透膜是单层膜，它是镀在光学零件光学表面上的一层折射率较低的薄膜。
如果膜层的光学厚度是某一波长的四分之一，相邻两束光的光程差恰好为π,即振动方向相反，叠加的结果使光学表面对该波长的反射光减少。
适当选择膜层折射率，这时光学表面的反射光可以完全消除。
一般情况下，采用单层增透膜很难达到理想的增透效果，为了在单波长实现零反射,或在较宽的光谱区达到好的增透效果，往往采用双层、三层甚至更多层数的减反射膜。
减反射膜是应用最广、产量最大的一种光学薄膜，因此，它至今仍是光学薄膜技术中重要的研究课题，研究的重点是寻找新材料，设计新膜系,改进淀积工艺,使之用最少的层数，最简单、最稳定的工艺，获得尽可能高的成品率，达到最理想的效果。
对激光薄膜来说，减反射膜是激光损伤的薄弱环节，如何提高它的破坏强度，也是人们最关心的问题之一。
2、减反膜的原理：减反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。
二个振幅相同，波长相同的光波叠加，那么光波的振幅增强；如果二个光波原由相同，波程相差，如果这二个光波叠加，那么互相抵消了。
减反射膜就是利用了这个原理，在镜片的表面镀上减反射膜，使得膜层前后表面产生的反射光互相干扰，从而抵消了反射光，达到减反射的效果。
3、制备方法和工艺：每种方法都有其特点和特定的应用范围,寻找可以100%透过的减反膜制备方法尚有困难,只能根据不同的特点和要求,分别采用不同的方法和工艺。
下面将分别介绍这些方法,并较详细的介绍真空蒸镀法、电阻加热法和电子束蒸镀法。
1）真空蒸镀真空蒸镀与其他成膜法相比,工艺比较简单,容易操作,成膜速度快,效率高等优点,因此广泛的应用于减反膜的镀制[2-3]。
R1Kaigawa等[4]采用一系列的真空蒸镀方法镀制了Cu(In,Ga)S2薄膜,在250℃下镀制In2Ga2S(In∶Ga=017∶013)薄膜,蒸镀时间为30min,膜层厚度为015μm;在510℃下,再镀制Cu和S,时间为36～72min,厚度均为015μm。
AR(减反射)膜综述
结论
AR 膜生产的三种工艺，真空蒸镀、化学起相沉积、溶胶—凝胶镀膜。HC 膜生产的两种工艺，化学加硬法和物理加硬法。 不管是AR 膜或者HC 膜就目前涂胶线的设备无法生产，但是我们可以涂布PSA、覆合离型膜、覆合保护层等工序。
AR 膜的加工方法
常用四分之一波长的薄膜,并没有使透射光的光强达到最大，也就是说没有使反射光达到最弱。主要是要增透的光往往不是单色的，而是有一定的频宽，而对于一个增透膜只对某一波长的单色光有完全增透的作用。因此可以通过多层镀膜技术来改善增透效果，同时也增加了透射光的线宽△波长，也就是频宽。随着人们对增透膜的应用和发展，有人设想为细小的光纤进行镀膜，由此可见这需要多么精密的镀膜技术。
HC 膜的加工方法
加硬膜
由于塑料镜片表面较软必须镀加硬膜，增透膜镀的好坏取决于加硬膜的牢固度与抗磨擦的能力。加硬分两种形式，即化学加硬法和物理加硬法。
物理加硬是在真空离子镀膜机内进行，采用冷镀不加温，先镀加硬膜然后镀增透膜。加硬膜材料一般为一些晶体材料、金属氧化物、 等。最近新型类金刚石（DLC）抗磨加硬膜其优良的特性，使其成为人们竞相研究的热点。
AR 膜分类
二 多层减反膜 在薄膜上镀两层以上反射材料的称为多层AR 膜，多层比单层有更好的性能，如下图，左边是单层AR 膜，右边是多层AR 膜。
AR 膜用途
主要应用望远镜,眼镜,数字相机镜头,LCD投影系统,光学窗口,保护镜，笔记本，电脑，手机，电视，眼镜，触摸屏等
AR 膜使用原料
光学增透膜的研制，不仅要考虑它的透射率，而且还要考虑它的硬度，耐热、耐寒性，与玻璃等光体的接合力度，耐光照射性，吸热强度等因素，能满足这么多条件的材料可想而知是很困难的。根据适合不同的需求，目前人们发现、常用的材料有、氟化镁、二氧化钛、二氧化硅、三氧化二铝、二氧化锆 、ZnSe、ZnS陶瓷红外光红外增透膜、乙烯基倍半硅氧烷杂化膜等。由于一般光学介质都是玻璃，并在空气中使用，那增透膜的折射率应接近1.23。现实中折射率小于氟化镁（折射率为1.38）的镀膜材料很少见，而且像氟化镁那样很好的满足各种条件的材料更是稀少。因此，现在一般都用氟化镁镀制增透膜。虽然金刚石是迄今为止自然界中性能最优良的材料，但是存在工艺条件过于苛刻和成本高的问题。目前，大规模的使用金刚石薄膜的条件还不具备。通过人们对增透膜的不断发展和研究，相信会有比金刚石更为合适的材料被我们所发现利用，或者金刚石被大规模的使用。
减反射膜材料
减反射膜材料减反射膜材料是一种应用广泛的薄膜材料，具有良好的光学性能和防反射功能。
它主要是通过减少光的反射，提高光的透射率，以增强光的利用效率。
减反射膜材料在太阳能电池、光学仪器、显示器、光纤通信等领域中有着重要的应用。
减反射膜材料的主要特点是具有高透过率和低反射率。
传统的材料如玻璃、塑料等在光的传输过程中会有一定的反射损耗，而减反射膜材料则可以大幅减少这种反射损耗，提高光的透过率。
同时，减反射膜材料还能够减少镜面反射和散射，使得光线更加集中，提高光的亮度和清晰度。
减反射膜材料的制备主要有物理蒸镀法、溅射法和化学气相沉积法等。
其中，物理蒸镀法是最常用的一种制备方法。
通过将减反射膜材料放置在真空腔中，通过蒸发或溅射的方式使材料蒸发或溅射到基材表面上，形成一层薄膜。
化学气相沉积法则是将粉末材料通过气相转化为薄膜，相较于物理蒸镀法具有更高的制备效率和质量。
减反射膜材料的研究和应用领域非常广泛。
在太阳能电池领域，通过在电池表面涂覆减反射膜材料可以提高电池的光电转换效率，提高光的利用率。
在光学仪器领域，通过在镜头和透镜表面涂覆减反射膜材料可以减少光的反射损失，提高成像质量。
在显示器领域，减反射膜材料可以减少背景光的反射，提高屏幕的亮度和清晰度。
在光纤通信领域，减反射膜材料可以减少信号的损耗，提高通信质量。
然而，减反射膜材料也存在一些挑战和问题。
首先，制备减反射膜材料的工艺较为复杂，需要高精度的设备和控制技术。
其次，减反射膜材料的抗腐蚀性能和耐久性较差，容易受到环境因素的影响。
此外，减反射膜材料的成本较高，限制了其在某些领域的广泛应用。
总之，减反射膜材料是一种重要的光学材料，具有高透过率和低反射率的特点。
它在太阳能电池、光学仪器、显示器、光纤通信等领域中有着重要的应用价值。
随着科技的不断发展，减反射膜材料将会进一步改进和创新，以满足不同领域的需求。
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2009-03 ・综述・减反膜制备工艺及其应用罗海燕1,黄光周1,马国欣1,朱建明2,戴晋福2(1.华南理工大学电信学院,广东广州 510640;2.广东肇庆市科润真空设备有限公司,广东肇庆市 526060)Anti 2R eflective Film Preparation T echnology and Its ApplicationL UO Hai 2yan 1,HUAN G Guang 2zhou 1,MA Guo 2xin 1,ZHU Jian 2ming 2,DA I Jin 2f u 2(1.College of Electronic and Inf ormation Engineering ,South China University of T echnology ,Guangz hou 510640,China;2.Zhaoqing Kerun V acuum Equi pment Co.L t d.of Guang dong ,Zhaoqing 526060,China )Abstract :Anti 2reflective film po ssesses a very important po sition in modern optical film production in 2dust ry.It s research is mo stly depending on it s technology.In t his paper ,t he research p rogress in anti 2re 2flective film p reparation technology is summarized.The merit s and drawbacks of t hese preparation met h 2ods ,such as vacuum evaporation ,sp uttering and sol 2gel ,have been analyzed and compared.The applica 2tion pro spect s for anti 2reflective film preparation technology are also analyzed ,p roviding a good reference for anti 2reflective film preparation.K ey w ords :Anti 2reflective film ;Preparatio n technology ;Reflectance ;Transmission摘要:减反膜在现代光学薄膜生产中占有十分重要的地位,其研究依赖于制备工艺。
本文结合近几年来国内外研究现状,叙述了几种不同的减反膜制备方法,分析了各种制备方法的工艺特点以及各自的优缺点,如真空蒸镀法、溅射镀法、溶胶-凝胶法等。
并提出了相应的改进方法,分析了这些工艺在减反膜制备中的应用前景,为减反膜的制备提供了参考。
关键词:减反膜;制备工艺;反射率;透射率中图分类号:O484 文献标识码:A 文章编号:1002-8935(2009)03-0023-07 减反膜在各种光学器件、平板显示器、热反射镜、太阳能电池等领域应用非常广泛,在现代光学薄膜生产中占有十分重要的地位,其生产总量超过所有其他光学薄膜[1]。
减反膜的研究依赖于其制备工艺,高质量的减反膜有利于其物理的研究和应用的发展。
随着激光技术、微波技术和离子束技术的应用,人们发展了多种减反膜的制备工艺。
由于不同的时代背景和科学仪器及技术的发展,有着多种多样的减反膜制备方法和工艺,要进行严格分类是困难的,但如果根据其工作原理,粗略进行分类,可以分成真空蒸镀、溅射镀、溶胶-凝胶法、化学气相沉积等。
1 制备方法和工艺每种方法都有其特点和特定的应用范围,寻找可以100%透过的减反膜制备方法尚有困难,只能根据不同的特点和要求,分别采用不同的方法和工艺。
下面将分别介绍这些方法,并较详细的介绍真空蒸镀法、溅射镀法和溶胶-凝胶法。
111 真空蒸镀真空蒸镀与其他成膜法相比,工艺比较简单,容易操作,成膜速度快,效率高等优点,因此广泛的应用于减反膜的镀制[2-3]。
R 1Kaigawa 等[4]采用一系列的真空蒸镀方法镀制了Cu (In ,Ga )S 2薄膜,在250℃下镀制In 2Ga 2S (In ∶Ga =017∶013)薄膜,蒸镀时间为30min ,膜层厚度为015μm ;在510℃下,再镀制Cu 和S ,时间为36～72min ,厚度均为015μm 。
在薄膜当中加入S 元素,增强了混合物的光吸收的分布,此减反膜用于太阳能电池中,可以使得其效率提高913%,这对于当前的太阳能电池的转换效率来说,是一个很大的提高。
薄膜当中S 元素的量直接影响到薄膜当中In ,Ga 分布的均匀性,从而322009-03 也将影响薄膜的光学特性。
因此,在镀膜过程中应控制好S 元素的量。
真空蒸镀的发展主要体现在加热蒸发材料的方式上,按加热方式的不同,可以分为电阻加热法、电子束蒸镀法等。
11111 电阻加热法电阻加热法迄今已经有近百年的历史。
这种方法由于温度有限不能蒸发高熔点材料,且高温下材料和蒸发器发生化学反应,因此只能进行部分材料的镀膜。
潘永强等[5]采用此方法镀制了减反膜。
膜系为G|BaF 2ZnSe BaF 2YF 3|A ,基底需用800eV 左右的Ar +离子束轰击5min ,硒化锌采用钼舟电阻热蒸发。
基底的温度应控制在200℃±5℃,ZnSe 的沉积速率控制在012nm/s ,BaF 2和YF 3的沉积速率分别为410和110nm/s 。
得到的减反膜峰值透射率达到99%以上,在整个设计波段的平均透射率大于98%,膜层的附着性能好,光机性能稳定。
但由于电阻加热法对于薄膜的沉积速率较难控制,所以实际上可以通过控制镀膜时间来控制镀膜速率。
11112 电子束蒸镀法电子束蒸镀的特点是可以获得极高的能量密度,可以蒸发难熔金属或化合物,热效率高,使用方便,因此国内外常采用这种方法来镀制减反膜。
V 1Barrioz 等[6]镀制了单层的YF 3减反膜。
沉积速率为116～1167nm/s ,膜层厚度为800nm ,整个膜系的平均反射率小于5%,可以很大程度上提高太阳能光生伏打电池的性能。
M 1Fadel 等[7]镀制了可用于可见光、近红外和红外区域的4层减反膜,薄膜材料采用HfO 2和MgF 2,膜系结构为G|60HfO 287MgF 2550HfO 2260MgF 2|A (中间的参数是膜层厚度,单位是nm ),沉积速率为015nm/s ,此减反膜的平均透射率达到98%以上,最低的反射率小于0175%。
H 1Ganesha Shanbhougue 等[8]镀制了近红外波段的五层减反膜。
本底真空为1×10-5Pa ,基片温度控制在120±10℃,高折射率材料采用一定比例组合的Zr TiO 4和ZrO 2混合物,折射率为1192,低折射率材料采用MgF 2,膜系为G|11351192113511921135|A ,各膜层厚度为230/360/35/50/525nm 。
此减反膜在1200～2000nm 波段的透射率大于9910%,并且波动较少,在1180～1880nm 波段,反射率小于015%。
沈自才等[9]采用折射率为1152的K9玻璃作为基底,薄膜材料为折射率为1146的SiO 2和折射率为1193的ZrO 2,膜层共三层,高折射率层的厚度为52125nm ,低折射率层的厚度为226188nm ,折射率非均匀层从1152到1193呈余弦变化,厚度为20nm ,通过加镀非均匀层,增透膜在1063nm 处透射率达到991942%。
谢强等[10]采用ZrO 2和SiO 2作为镀膜材料,本底真空为413×10-3Pa 左右,SiO 2蒸发速率在015～112nm/s ,ZrO 2的蒸发速率在013～014nm/s ,蒸镀出的低损耗增透膜可用于11064μm 的声光Q 开关,透射率在1064nm 处均大于9918%,峰值处达到991974%。
采用电子束蒸镀镀制减反膜,在薄膜的层数上受到限制,如果膜层较多,电子束蒸镀并不是最理想的镀制方法。
11113 离子辅助技术它与一般的蒸镀法的不同之处在于,在蒸镀的同时利用离子源发射的离子束轰击基片,它可以提高膜层的附着力,缺点是它比普通的蒸发镀膜机结构要复杂,需要配备离子源。
随着技术的发展和对薄膜质量的要求的提高,它的应用越来越广泛。
J ung Hwan Lee 等[11]在聚碳酸酯基片上镀制了SiO 2和TiO 2多层减反膜。
其基本工艺参数为:用氩离子束轰击基片,工作气压为1133×10-2Pa ,氩离子和氧气的速率分别为3和12ml/min (标准状态),离子束流的密度固定在1414μA/cm 2,氩离子的个数为1×1015～5×1016/cm 2,温度为室温。
此膜系在可见光范围内总的反射率小于1%,在550nm 处的反射率最小,为0176%;George Atanassov等[12]淀积了可用于CO 2激光发射装置的三层减反膜。
低折射率材料采用ZnSe ,高折射率材料采用PbF 2,膜系为KCl/759ZnSe/538PbF 2/388ZnSe/空气(厚度单位为nm ),离子枪氩离子的气压为2166×10-2Pa ,基片的温度为120℃,得到的减反膜整体的吸收率为01016%。
付秀华等[13]在MgF 2晶体上制备了315μm ～419μm 波段的增透膜和保护膜。
选取氧化钛和二氧化硅作为薄膜材料,膜系为基底/600SiO 2/200TiO 2/400SiO 2/2000TiO 2/970SiO 2/空气,温度控制在150℃,氧气的流量为30ml/min (标准状态),TiO 2的蒸发速率为014nm/s ,镀制的减反膜吸收较少,在315～419μm 波段反射率小于112%。
林炳等[14]以硒化锌为基底,Ge 为高折射率材料,ZnS 为中间折射率材料,YbF 3为低折射率材料,膜系为基底/ZnS/Ge/ZnS/Ge/ZnS /YbF 3/ZnS/空气。
在镀制之前调高离子束能量对基片进行离子清洗10min ,镀膜时仍然以离子轰击,使得凝聚粒子的能量和稳定性增加,从而提高沉积422009-03 薄膜的致密度,改善其光学性能,烘烤温度为150℃,镀制的双面增透膜在718～1016μm 的工作波段获得的平均透射率大于98%。
离子辅助技术镀制过程中加入了离子轰击,提高了膜层的附着力,对减反膜的光学性能起到一定的改善作用。