华虹NEC 0.18微米BCD工艺平台在进入量产

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华虹NEC 0.18微米BCD工艺平台在进入量产
佚名
【期刊名称】《《中国集成电路》》
【年(卷),期】2011(000)001
【摘要】上海华虹NEC电子有限公司(以下简称“华虹NEC”)日前宣布其最
新研发成功、处于业界领先地位的0.18微米BCD(Bipolar CMOS DMOS)-BCD180工艺技术进入量产。

该新型BCD180工艺平台是华虹NEC针对数字电源、电机驱动、音频功放、LED驱动、电池保护和高端电源管理等新兴应用而开发的,具有高集成度、低功耗、低开启电阻、多样工艺选项和可编程等优点,极大地方便客户选择,为客户提供更多的价值。

【总页数】1页(P2-2)
【正文语种】中文
【中图分类】TN624
【相关文献】
1.华虹NEC1200VTrenchNPTIGBT工艺平台成功进入量产 [J],
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3.GlobalCAD为华虹NEC0.18微米CMOS新工艺提供标准设计平台 [J],
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5.华虹半导体第二代0.18μm 5V/40V BCD工艺平台成功量产 [J], 华虹半导体有限公司
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