材料分析报告测试技术复习题二

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测试技术复习题2 (1)

测试技术复习题2 (1)

复习题1 绪论选择题:1.依据机敏材料本身的物性随被测量的变化来实现信号转换的装置称为( A )A.物理型传感器B.结构型传感器C.电桥D.A/D转换器2. 一个被测量与一个预定标准之间进行定量比较,从而获得被测对象的数值结果过程称为( B )A.测试 B.测量 C. 试验 D.传感3. 电测法具有测试范围广、精度高、灵敏度高、响应速度快等优点,特别适合于( C )A.静态测试 B.线性测试 C. 动态测试 D.非线性测试填空题:1.测试泛指测量和试验两个方面的技术,是具有试验性质的测量,是测量和试验的综合。

2.测量是指一个被测量与一个预定标准之间进行定量比较,从而获得被测对象的数值结果,即以确定被测对象的量值为目的的全部操作,可分为直接比较法和间接比较法。

3.依据机敏材料本身的物性随被测量的变化来实现信号转换的装置称为物理型传感器。

4.随着新材料的开发,传感器正经历着从机构型为主向物性型为主的转变。

名词解释:1.电测法答:电测法是将非电量先转换为电量,然后用各种电测仪表和装置乃至计算机对电信号进行处理和分析的方法。

2. 间接比较法答:间接比较法利用仪器仪表把待测物理量的变化变换成与之保持已知函数关系的另一种物理量的变化。

3.直接比较法答:直接比较法无须经过函数关系的计算,直接通过测量仪器得到被测量值。

简答题:1.试述测量与测试的概念及其区别。

答:测量是指一个被测量与一个预定标准之间进行定量比较,从而获得被测对象的数值结果,即以确定被测对象的量值为目的的全部操作。

测试是对信号的获取、加工、处理、显示记录及分析的过程。

测量是被动的、静态的、较孤立的记录性操作,其重要性在于它提供了系统所要求的和实际所取得的结果之间的一种比较;测试是主动地、涉及过程动态的、系统的记录与分析的操作,通过试验得到的试验数据成为研究对象的重要依据。

2. 简述电测法概念及其优点。

答:电测法是将非电量先转换为电量,然后用各种电测仪表和装置乃至计算机对电信号进行处理和分析的方法。

材料分析测试技术复习题 附答案

材料分析测试技术复习题 附答案

材料分析测试技术复习题【第一至第六章】1.X射线的波粒二象性波动性表现为:-以波动的形式传播,具有一定的频率和波长-波动性特征反映在物质运动的连续性和在传播过程中发生的干涉、衍射现象粒子性突出表现为:-在与物质相互作用和交换能量的时候-X射线由大量的粒子流(能量E、动量P、质量m)构成,粒子流称为光子-当X射线与物质相互作用时,光子只能整个被原子或电子吸收或散射2.连续x射线谱的特点,连续谱的短波限定义:波长在一定范围连续分布的X射线,I和λ构成连续X射线谱λ∞,波•当管压很低(小于20KV 时),由某一短波限λ0开始直到波长无穷大长连续分布•随管压增高,X射线强度增高,连续谱峰值所对应的波长(1.5 λ0处)向短波端移动•λ0 正比于1/V, 与靶元素无关•强度I:由单位时间内通过与X射线传播方向垂直的单位面积上的光量子数的能量总和决定(粒子性观点描述)•单位时间通过垂直于传播方向的单位截面上的能量大小,与A2成正比(波动性观点描述)短波限:对X射线管施加不同电压时,在X射线的强度I 随波长λ变化的关系曲线中,在各种管压下的连续谱都存在一个最短的波长值λ0,称为短波限。

3.连续x射线谱产生机理【a】.经典电动力学概念解释:一个高速运动电子到达靶面时,因突然减速产生很大的负加速度,负加速度引起周围电磁场的急剧变化,产生电磁波,且具有不同波长,形成连续X射线谱。

【b】.量子理论解释:* 电子与靶经过多次碰撞,逐步把能量释放到零,同时产生一系列能量为hυi的光子序列,形成连续谱* 存在ev=hυmax,υmax=hc/ λ0, λ0为短波限,从而推出λ0=1.24/ V (nm) (V为电子通过两极时的电压降,与管压有关)。

* 一般ev≥h υ,在极限情况下,极少数电子在一次碰撞中将全部能量一次性转化为一个光量子4.特征x射线谱的特点对于一定元素的靶,当管压小于某一限度时,只激发连续谱,管压增高,射线谱曲线只向短波方向移动,总强度增高,本质上无变化。

材料分析测试技术习题及答案

材料分析测试技术习题及答案

第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是()A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;D.其它2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称()A.Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。

3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选()A.Cu;B. Fe;C. Ni;D. Mo。

4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生()(多选题)A.光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。

()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。

()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。

()4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。

()5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。

()三、填空题1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生X射线和X射线。

2. X射线与物质相互作用可以产生、、、、、、、。

3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。

4. X射线的本质既是也是,具有性。

5. 短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称,常用于。

习题1.X射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?2.分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。

3.什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”、“发射谱”、“吸收谱”?4.X射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量描述它?5.产生X射线需具备什么条件?6.Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7.计算当管电压为50 kv时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。

材料科学:材料分析测试技术考试卷及答案(最新版).doc

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材料科学:材料分析测试技术考试卷及答案(最新版) 考试时间:120分钟 考试总分:100分遵守考场纪律,维护知识尊严,杜绝违纪行为,确保考试结果公正。

1、问答题 简述X 射线产生的基本条件。

本题答案: 2、问答题 测角仪在采集衍射图时,如果试样表面转到与入射线成300角,则计数管与入射线所成角度为多少?能产生衍射的晶面,与试样的自由表面是何种几何关系? 本题答案: 3、单项选择题 洛伦兹因子中,第二几何因子反映的是( )A 、晶粒大小对衍射强度的影响 B 、参加衍射晶粒数目对衍射强度的影响 C 、衍射线位置对衍射强度的影响 D 、试样形状对衍射强度的影响 本题答案: 4、问答题 你如何用学过的光谱来分析确定乙炔是否已经聚合成了聚乙炔? 本题答案: 5、问答题 说明多晶、单晶及厚单晶衍射花样的特征及形成原理。

姓名:________________ 班级:________________ 学号:________________ --------------------密----------------------------------封 ----------------------------------------------线----------------------本题答案:6、问答题什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”?本题答案:7、问答题你如何用学过的光谱来分析确定乙炔是否已经聚合成为聚乙炔?本题答案:8、问答题球差、像散和色差是怎样造成的?如何减小这些像差?哪些是可消除的像差?本题答案:9、问答题假定需要衍射分析的区域属于未知相,但根据样品的条件可以分析其为可能的几种结构之一,试根据你的理解给出衍射图标定的一般步骤。

本题答案:10、问答题试述X射线衍射单物相定性基本原理及其分析步骤?本题答案:11、单项选择题由于电磁透镜中心区域和边缘区域对电子折射能力不同而造成的像差称为()A、球差B、像散C、色差D、背散本题答案:12、问答题试总结德拜法衍射花样的背底来源,并提出一些防止和减少背底的措施。

材料分析测试技术试题及答案

材料分析测试技术试题及答案

材料分析测试技术试题及答案材料分析测试技术试题及答案(一)1、施工时所用的混凝土空心砌块的产品龄期不应小于( D)。

A、14dB、7dC、35dD、28d2、高强度大六角头螺栓连接副和扭剪型高强度螺栓连接副出厂时应分别随箱带有( C )和紧固轴力(预拉力)的检验报告。

A、抗拉强度B、抗剪强度C、扭矩系数D、承载力量3、勘察、设计、施工、监理等单位应将本单位形成的工程文件立卷后向( A )移交。

A、建立单位B、施工单位C、监理单位D、设计单位4、城建档案治理机构应对工程文件的立卷归档工作进展监视、检查、指导。

在工程竣工验收前,应对工程档案进展( C ),验收合格后,须出具工程档案认可文件。

A、检查B、验收C、预验收D、指导5、既有文字材料又有图纸的案卷( A )。

A、文字材料排前,图纸排后B、图纸排前,文字材料排后C、文字材料、图纸按时间挨次排列D、文字材料,图纸材料交叉排列6、建筑与构造工程包括那几个分部( B )。

A、地基与根底、主体、装饰装修、屋面、节能分部B、地基与根底、主体、装饰装修、屋面分部C、地基与根底、主体、装饰装修分部D、地基与根底、主体分部7、在原材料肯定的状况下,打算混凝土强度的最主要因素是( B )。

A、水泥用量B、水灰比C、水含量D、砂率8、数据加密技术从技术上的实现分为在( A )两方面。

A、软件和硬件B、软盘和硬盘C、数据和数字D、技术和治理9、混凝土同条件试件养护:构造部位由监理和施工各方共同选定,同一强度等级不宜少于10组,且不应少于( A )组。

A、3B、10C、14D、2010、不属于统计分析特点的是( D )。

A、数据性B、目的性C、时效性D、准时性11、施工资料治理应建立岗位责任制,进展( C )。

A、全面治理B、全方位掌握C、过程掌握D、全范围掌握12、目前工程文件、资料用得最多的载体形式有( A )。

A、纸质载体B、磁性载体C、光盘载体D、缩微品载体13、施工资料应当根据先后挨次分类,对同一类型的资料应根据其( A )进展排序。

现代材料分析测试方法:期末考试卷和答案

现代材料分析测试方法:期末考试卷和答案

现代材料分析测试方法:期末考试卷和答案第一部分:选择题1. 以下哪项不是常用的材料分析测试方法?- A. 扫描电子显微镜(SEM)- B. 红外光谱(IR)- C. 傅里叶变换红外光谱(FTIR)- D. 核磁共振(NMR)答案:D2. 扫描电子显微镜(SEM)主要用于:- A. 表面形貌观察- B. 元素成分分析- C. 分子结构分析- D. 力学性能测试答案:A3. X射线衍射(XRD)常用于:- A. 表面形貌观察- B. 元素成分分析- C. 分子结构分析- D. 晶体结构分析答案:D4. 热重分析(TGA)主要用于:- A. 表面形貌观察- B. 元素成分分析- C. 分子结构分析- D. 热稳定性分析答案:D5. 扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)的区别在于:- A. SEM可以观察表面形貌,TEM可以观察内部结构- B. SEM可以观察内部结构,TEM可以观察表面形貌- C. SEM只能观察金属材料,TEM只能观察非金属材料- D. SEM只能观察非金属材料,TEM只能观察金属材料答案:A第二部分:简答题1. 简述红外光谱(IR)的原理和应用领域。

红外光谱是一种基于物质吸收、散射和透射红外光的测试方法。

它利用物质分子的特定振动模式与入射红外光发生相互作用,从而获得物质的结构信息和化学成分。

红外光谱广泛应用于有机物的鉴定、无机物的分析、聚合物材料的检测以及药物和食品的质量控制等领域。

2. 简述傅里叶变换红外光谱(FTIR)的原理和优势。

傅里叶变换红外光谱是一种红外光谱的分析技术,它通过对红外光信号进行傅里叶变换,将时域信号转换为频域信号,从而获得高分辨率和高灵敏度的红外光谱图谱。

相比传统的红外光谱,FTIR 具有快速测量速度、高信噪比、宽波数范围和高分辨率等优势。

它广泛应用于材料分析、有机合成、生物医学和环境监测等领域。

3. 简述热重分析(TGA)的原理和应用领域。

热重分析是一种测量物质在升温过程中质量变化的测试方法。

材料分析测试技术试题及答案

材料分析测试技术试题及答案

材料分析测试技术试题及答案金材02级《材料分析测试技术》课程试卷答案一、选择题:(8分/每题1分)1.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生光电子和俄歇电子,答案为A+C。

2.有一体心立方晶体的晶格常数是0.286nm,用铁靶Kα(λKα=0.194nm)照射该晶体能产生四条衍射线,答案为B。

3.最常用的X射线衍射方法是粉末多晶法,答案为B。

4.测定钢中的奥氏体含量,若采用定量X射线物相分析,常用方法是直接比较法,答案为C。

5.可以提高TEM的衬度的光栏是物镜光栏,答案为B。

6.如果单晶体衍射花样是正六边形,那么晶体结构是六方结构或立方结构,答案为A或B。

7.将某一衍射斑点移到荧光屏中心并用物镜光栏套住该衍射斑点成像,这是中心暗场像,答案为C。

8.仅仅反映固体样品表面形貌信息的物理信号是二次电子,答案为B。

二、判断题:(8分/每题1分)1.产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。

√2.倒易矢量能唯一地代表对应的正空间晶面。

√3.大直径德拜相机可以提高衍射线接受分辨率,缩短暴光时间。

×4.X射线物相定性分析可以告诉我们被测材料中有哪些物相,而定量分析可以告诉我们这些物相的含量有什么成分。

×5.有效放大倍数与仪器可以达到的放大倍数不同,前者取决于仪器分辨率和人眼分辨率,后者仅仅是仪器的制造水平。

√6.电子衍射和X射线衍射一样必须严格符合布拉格方程。

×7.实际电镜样品的厚度很小时,能近似满足衍衬运动学理论的条件,这时运动学理论能很好地解释衬度像。

√8.扫描电子显微镜的衬度和透射电镜一样取决于质厚衬度和衍射衬度。

×三、填空题:(14分/每2空1分)1.电子衍射产生的复杂衍射花样是高阶劳厄斑、超结构斑点、二次衍射、孪晶斑点和菊池花样。

2.当X射线管电压低于临界电压时,只能产生连续谱X射线;当电压超过临界电压时,可以同时产生连续谱X射线和特征谱X射线。

《材料分析测试技术》试卷(答案)(2)

《材料分析测试技术》试卷(答案)(2)
根据立方晶体晶面间距公式
a = 2.86Å
3.分析电子衍射与X射线衍射有何异同?(8分)
答:电子衍射的原理和X射线衍射相似,是以满足(或基本满足)布拉格方程作为产生衍射的必要条件。
5.透射电子显微镜的分辨率主要受衍射效应和像差两因素影响。
6.今天复型技术主要应用于萃取复型来揭取第二相微小颗粒进行分析。
7.电子探针包括波谱仪和能谱仪成分分析仪器。
8.扫描电子显微镜常用的信号是二次电子和背散射电子。
二、选择题:(8分,每题一分)
1. X射线衍射方法中最常用的方法是(b)。
a.劳厄法;b.粉末多晶法;c.周转晶体法。
透射电子显微镜在材料科学研究中的应用非常广泛。可以进行材料组织形貌观察、研究材料的相变规律、探索晶体缺陷对材料性能的影响、分析材料失效原因、剖析材料成分、组成及经过的加工工艺等。
3.什么是缺陷的不可见性判据?如何用不可见性判据来确定位错的布氏矢量?
答:所谓缺陷的不可见性判据是指当晶体缺陷位移矢量所引起的附加相位角正好是π的整数倍时,有缺陷部分和没有缺陷部分的样品下表面衍射强度相同,因此没有衬度差别,故而看不缺陷。
2.作图并证明公式:Rd=Lλ。
作图:以1/λ为半径作厄瓦尔德球面,入射线经试样O与厄瓦尔德球面交于O*点,与荧光屏交于O,点;衍射线与厄瓦尔德球面交于G点,与荧光屏交于A点。O*G是倒易矢量g,O,A=R,O O,=L。
∵透射电子显微镜的孔径半角很小(2-3°)
∴可近似认为g//R
有⊿OO*G≌⊿O O,A
X = ln2/49.2*8.9 = 15.83um
2.有一金属材料的多晶粉末电子衍射花样为六道同心圆环,其半径分别是:8.42mm,11.88mm,14.52mm,16.84mm,18.88mm,20.49mm;相机常数Lλ=17.00mmÅ。请标定衍射花样并求晶格常数。(10分)

材料分析测试技术习题及答案

材料分析测试技术习题及答案
5.衍射仪法和德拜法一样,对试样粉末的要求是粒度均匀、大小适中,没有应力。( )
7、填空题
1.在粉末多晶衍射的照相法中包括、和。
2.德拜相机有两种,直径分别是和Φmm。测量θ角时,底片上每毫米对应º和º。
3.衍射仪的核心是测角仪圆,它由、和共同组成。
4.可以用作X射线探测器的有、和等。
5.影响衍射仪实验结果的参数有、和等。
5.结构因子F与形状因子G都是晶体结构对衍射强度的影响因素。( )
3、填空题
1.倒易矢量的方向是对应正空间晶面的;倒易矢量的长度等于对应。
2.只要倒易阵点落在厄瓦尔德球面上,就表示该满足条件,能产生。
3.影响衍射强度的因素除结构因素、晶体形状外还有,,,。
4.考虑所有因素后的衍射强度公式为,对于粉末多晶的相对强度为。
2、下面是某立方晶系物质的几个晶面间距,试将它们从大到小按次序重新排列。(12 )(100)(200)( 11)(121)(111)( 10)(220)(030)(2 1)(110)
3、当波长为 的X射到晶体并出现衍射线时,相邻两个(hkl)反射线的程差是多少相邻两个(HKL)反射线的程差又是多少
4、画出Fe2B在平行于(010)上的部分倒易点。Fe2B属正方晶系,点阵参数a=b=,c=。
5、判别下列哪些晶面属于[ 11]晶带:( 0),(1 3),(1 2),( 2),(0 1),(212)。
6、试计算( 11)及( 2)的共同晶带轴。
7、铝为面心立方点阵,a=。今用CrKa( =)摄照周转晶体相,X射线垂直于[001]。试用厄瓦尔德图解法原理判断下列晶面有无可能参与衍射:(111),(200),(220),(311),(331),(420)。
A. <325目;B. >250目;C. 在250-325目之间;D. 任意大小。

材料分析测试技术习题及答案

材料分析测试技术习题及答案

第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是()射线透射学;射线衍射学;射线光谱学;D.其它2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称()A.Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。

3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选()A.Cu;B. Fe;C. Ni;D. Mo。

4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L 层电子打出核外,这整个过程将产生()(多选题)A.光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。

()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。

()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。

()4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。

()5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。

()三、填空题1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生 X射线和 X射线。

2. X射线与物质相互作用可以产生、、、、、、、。

3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。

4. X射线的本质既是也是,具有性。

5. 短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称,常用于。

习题1.X射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?2.分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。

3.什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”、“发射谱”、“吸收谱”?4.X射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量描述它?5.产生X射线需具备什么条件?6.Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7.计算当管电压为50 kv时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。

材料分析资料报告测试技术习题及问题详解

材料分析资料报告测试技术习题及问题详解

材料分析资料报告测试技术习题及问题详解第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是()A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;D.其它2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称()A.Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。

3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选()A.Cu;B. Fe;C. Ni;D. Mo。

4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K 层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生()(多选题)A.光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。

()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。

()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。

()4. 产生特征X射线的前提是原子层电子被打出核外,原子处于激发状态。

()5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。

()三、填空题1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生X射线和X射线。

2. X射线与物质相互作用可以产生、、、、、、、。

3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。

4. X射线的本质既是也是,具有性。

5. 短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称,常用于。

习题1.X射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?2.分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。

3.什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”、“发射谱”、“吸收谱”?4.X射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量描述它?5.产生X射线需具备什么条件?6.Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7.计算当管电压为50 kv时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。

材料科学:材料分析测试技术考考试题模拟考试_2.doc

材料科学:材料分析测试技术考考试题模拟考试_2.doc

材料科学:材料分析测试技术考考试题模拟考试 考试时间:120分钟 考试总分:100分遵守考场纪律,维护知识尊严,杜绝违纪行为,确保考试结果公正。

1、问答题 为什么特征X 射线的产生存在一个临界激发电压?X 射线管的工作电压与其靶材的临界激发电压有什么关系?为什么? 本题答案: 2、单项选择题 将所需物相的纯物质另外单独标定,然后与多项混合物中待测相的相应衍射线强度相比较而进行的定量分析方法称为( )A 、外标法 B 、内标法 C 、直接比较法 D 、K 值法 本题答案: 3、问答题 紫外光谱常用来鉴别哪几类有机物? 本题答案: 4、问答题 X 射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么? 本题答案: 5、名词解释 有效放大倍数 本题答案: 6、单项选择题姓名:________________ 班级:________________ 学号:________________--------------------密----------------------------------封 ----------------------------------------------线----------------------当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限0;B.激发限k;C.吸收限;D.特征X射线本题答案:7、问答题原子荧光光谱是怎么产生的?有几种类型?本题答案:8、名词解释暗场像本题答案:9、问答题物相定性分析的原理是什么?对食盐进行化学分析与物相定性分析,所得信息有何不同?本题答案:10、问答题举例说明如何用选区衍射的方法来确定新相的惯习面及母相与新相的位相关系。

本题答案:11、问答题测角仪在采集衍射图时,如果试样表面转到与入射线成300角,则计数管与入射线所成角度为多少?能产生衍射的晶面,与试样的自由表面是何种几何关系?本题答案:12、问答题为什么会出现吸收限?K吸收限为什么只有一个而L吸收限有三个?当激发K 系荧光Ⅹ射线时,能否伴生L系?当L系激发时能否伴生K系?本题答案:13、问答题X射线的本质是什么?是谁首先发现了X射线,谁揭示了X射线的本质?本题答案:14、单项选择题透射电镜中电中间镜的作用是()A、电子源B、会聚电子束C、形成第一副高分辨率电子显微图像D、进一步放大物镜像本题答案:15、问答题何谓“指纹区”?它有什么特点和用途?本题答案:16、单项选择题若H-800电镜的最高分辨率是0.5nm,那么这台电镜的有效放大倍数是()。

材料分析测试技术习题及答案

材料分析测试技术习题及答案
A. (210);B. (220);C. (221);D. (110);。
2.有一体心立方晶体的晶格常数是,用铁靶Kα(λKα=)照射该晶体能产生( )衍射线。
A. 三条; B .四条; C. 五条;D. 六条。
3.一束X射线照射到晶体上能否产生衍射取决于( )。
A.是否满足布拉格条件;B.是否衍射强度I≠0;C.A+B;D.晶体形状。
6、正误题
1.大直径德拜相机可以提高衍射线接受分辨率,缩短暴光时间。( )
2.在衍射仪法中,衍射几何包括二个圆。一个是测角仪圆,另一个是辐射源、探测器与试样三者还必须位于同一聚焦圆。( )
3.选择小的接受光栏狭缝宽度,可以提高接受分辨率,但会降低接受强度。( )
4.德拜法比衍射仪法测量衍射强度更精确。( )
HKL 532 620 443 541
611 540
621
θ.角
7.根据上题所给数据用柯亨法计算点阵参数至四位有效数字。
8.用背射平板相机测定某种钨粉的点阵参数。从底片上量得钨的400衍射环直径2Lw=毫米,用氮化钠为标准样,其640衍射环直径2LNaCl=毫米。若此二衍射环均系由CuKαl辐射引起,试求精确到四位数字的钨粉的点阵参数值。
9.试用厄瓦尔德图解来说明德拜衍射花样的形成。
10.同一粉末相上背射区线条与透射区线条比较起来其θ较高还是较低相应的d较大还是较小既然多晶粉末的晶体取向是混乱的,为何有此必然的规律
11.衍射仪测量在人射光束、试样形状、试样吸收以及衍射线记录等方面与德拜法有何不同
12.测角仪在采集衍射图时,如果试样表面转到与入射线成30°角,则计数管与人射线所成角度为多少能产生衍射的晶面,与试样的自由表面呈何种几何关系
5.结构因子F与形状因子G都是晶体结构对衍射强度的影响因素。( )

材料分析测试技术习题及答案

材料分析测试技术习题及答案

第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是(? ? )A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;D.其它2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称()A.Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。

3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选()A.Cu;B. Fe;C. Ni;D. Mo。

4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生()(多选题)A.光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。

()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。

()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。

()4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。

()5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。

()三、填空题1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生X射线和X射线。

2. X射线与物质相互作用可以产生、、、、、、、。

3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。

4. X射线的本质既是也是,具有性。

5. 短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称,常用于。

习题1.X射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?2.分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。

3.什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”、“发射谱”、“吸收谱”?4.X射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量描述它?5.产生X射线需具备什么条件?6.Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7.计算当管电压为50 kv时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。

现代材料分析方法试题及答案2

现代材料分析方法试题及答案2

1. X射线衍射的几何条件是d、θ、λ必须满足什么公式?写出数学表达式,并说明d、θ、λ的意义。

(5分)答:. X射线衍射的几何条件是d、θ、λ必须满足布拉格公式。

(1分)其数学表达式:2dsinθ=λ(1分)其中d是晶体的晶面间距。

(1分)θ是布拉格角,即入射线与晶面间的交角。

(1分)λ是入射X 射线的波长。

(1分)4. 二次电子是怎样产生的?其主要特点有哪些?二次电子像主要反映试样的什么特征?用什么衬度解释?该衬度的形成主要取决于什么因素?(6分)答:二次电子是单电子激发过程中被入射电子轰击出的试样原子核外电子。

(1分)二次电子的主要特征如下:(1)二次电子的能量小于50eV,主要反映试样表面10nm层内的状态,成像分辨率高。

(1分)(2)二次电子发射系数δ与入射束的能量有关,在入射束能量大于一定值后,随着入射束能量的增加,二次电子的发射系数减小。

(1分)(3)二次电子发射系数δ和试样表面倾角θ有关:δ(θ)=δ0/cosθ(1分)(4)二次电子在试样上方的角分布,在电子束垂直试样表面入射时,服从余弦定律。

(1分)二此电子像主要反映试样表面的形貌特征,用形貌衬度来解释,形貌衬度的形成主要取决于试样表面相对于入射电子束的倾角。

(1分)2. 布拉格角和衍射角:布拉格角:入射线与晶面间的交角,(1.5 分)衍射角:入射线与衍射线的交角。

(1.5 分)3. 静电透镜和磁透镜:静电透镜:产生旋转对称等电位面的电极装置即为静电透镜,(1.5 分)磁透镜:产生旋转对称磁场的线圈装置称为磁透镜。

(1.5 分)4. 原子核对电子的弹性散射和非弹性散射:弹性散射:电子散射后只改变方向而不损失能量,(1.5 分)非弹性散射:电子散射后既改变方向也损失能量。

(1.5 分)二、填空(每空1 分,共20 分)1. X 射线衍射方法有劳厄法、转晶法、粉晶法和衍射仪法。

2.扫描仪的工作方式有连续扫描和步进扫描两种。

3. 在X 射线衍射物相分析中,粉末衍射卡组是由粉末衍射标准联合委员会编制,称为JCPDS 卡片,又称为PDF 卡片。

材料分析测试技术试卷

材料分析测试技术试卷

材料分析测试技术试卷一、选择题(每题2分,共20分)1、下列哪种技术可用于材料组成的定性分析?A. X射线衍射B. 原子吸收光谱C. 原子荧光光谱D. 电子显微镜2、下列哪种技术可用于材料中微量元素的分析?A. X射线衍射B. 原子吸收光谱C. 原子荧光光谱D. 电子显微镜3、下列哪种材料分析技术可用于表面形貌的观察和分析?A. X射线衍射B. 原子吸收光谱C. 原子荧光光谱D. 扫描电子显微镜4、下列哪种技术可用于材料中元素的定量分析?A. X射线衍射B. 原子吸收光谱C. 原子荧光光谱D. 扫描电子显微镜5、下列哪种技术可用于材料的物理性能分析?A. X射线衍射B. 热重分析C. 能谱分析D. 原子力显微镜6、下列哪种技术可用于材料的化学性质分析?A. X射线衍射B. 能谱分析C. 电化学分析D. 扫描电镜7、下列哪种技术可用于材料的热分析?A. X射线衍射B. 热重分析C. 能谱分析D. 原子力显微镜8、下列哪种技术可用于材料的机械性能分析?A. X射线衍射B. 拉压试验C. 能谱分析D. 原子力显微镜9、下列哪种材料分析技术可用于表面化学成分的定性和定量分析?A. X射线衍射B. 红外光谱C. 能谱分析D. 原子力显微镜10、下列哪种材料分析技术常用于材料中杂质元素的检测?A. X射线衍射B. 光谱分析C. 能谱分析D. 热重分析二、填空题(每空2分,共20分)1、常用的形态结构分析技术有___________、___________和___________。

2、常用的材料成分分析技术有___________、___________和___________。

3、常用的表面形貌分析技术有___________和___________。

4、常用的元素定量分析技术有___________、___________和___________。

5、常用的热分析技术有___________和___________。

材料分析测试技术习题及答案分析

材料分析测试技术习题及答案分析

材料分析测试技术习题及答案分析第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是( )A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;D.其它 2. M层电子回迁到K 层后,多余的能量放出的特征X射线称( ) A. Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。

3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选( )A( Cu;B. Fe;C. Ni;D. Mo。

4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称( ) A. 短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生( ) (多选题) A. 光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ和λ都随之减小。

( ) 0k2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。

( )3. 经滤波后的X 射线是相对的单色光。

( )4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。

( )5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。

( )三、填空题1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生 X射线和 X射线。

2. X射线与物质相互作用可以产生、、、、、、、。

3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。

4. X射线的本质既是也是,具有性。

5. 短波长的X射线称,常用于 ;长波长的X射线称,常用于。

习题1. X射线学有几个分支,每个分支的研究对象是什么,2. 分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么,(1)用CuKX射线激发CuK荧光辐射; αα)用CuKX射线激发CuK荧光辐射; (2βα(3)用CuKX射线激发CuL荧光辐射。

αα3. 什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”、“发射谱”、“吸收谱”,4. X射线的本质是什么,它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在,用哪些物理量描述它,5. 产生X射线需具备什么条件,6. ?射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中,7. 计算当管电压为50 kv时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短hc波限和光子的最大动能。

材料分析测试技术复习题_附答案

材料分析测试技术复习题_附答案

材料分析测试技术复习题【第一至第六章】1.X射线的波粒二象性波动性表现为:-以波动的形式传播,具有一定的频率和波长-波动性特征反映在物质运动的连续性和在传播过程中发生的干涉、衍射现象粒子性突出表现为:-在与物质相互作用和交换能量的时候-X射线由大量的粒子流(能量E、动量P、质量m)构成,粒子流称为光子-当X射线与物质相互作用时,光子只能整个被原子或电子吸收或散射2.连续x射线谱的特点,连续谱的短波限定义:波长在一定范围连续分布的X射线,I和λ构成连续X射线谱λ∞,•当管压很低(小于20KV 时),由某一短波限λ0开始直到波长无穷大波长连续分布•随管压增高,X射线强度增高,连续谱峰值所对应的波长(1.5 λ0处)向短波端移动•λ0 正比于1/V, 与靶元素无关•强度I:由单位时间内通过与X射线传播方向垂直的单位面积上的光量子数的能量总和决定(粒子性观点描述)•单位时间通过垂直于传播方向的单位截面上的能量大小,与A2成正比(波动性观点描述)短波限:对X射线管施加不同电压时,在X射线的强度I 随波长λ变化的关系曲线中,在各种管压下的连续谱都存在一个最短的波长值λ0,称为短波限。

3.连续x射线谱产生机理【a】.经典电动力学概念解释:一个高速运动电子到达靶面时,因突然减速产生很大的负加速度,负加速度引起周围电磁场的急剧变化,产生电磁波,且具有不同波长,形成连续X射线谱。

【b】.量子理论解释:* 电子与靶经过多次碰撞,逐步把能量释放到零,同时产生一系列能量为hυi的光子序列,形成连续谱* 存在ev=hυmax,υmax=hc/ λ0, λ0为短波限,从而推出λ0=1.24/ V (nm) (V为电子通过两极时的电压降,与管压有关)。

* 一般ev≥h υ,在极限情况下,极少数电子在一次碰撞中将全部能量一次性转化为一个光量子4.特征x射线谱的特点对于一定元素的靶,当管压小于某一限度时,只激发连续谱,管压增高,射线谱曲线只向短波方向移动,总强度增高,本质上无变化。

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材料分析测试技术一、名词解释(共有20分,每小题2分。

)1. 辐射的发射:指物质吸收能量后产生电磁辐射的现象。

2. 俄歇电子:X射线或电子束激发固体中原子内层电子使原子电离,此时原子(实际是离子)处于激发态,将发生较外层电子向空位跃迁以降低原子能量的过程,此过程发射的电子。

3. 背散射电子:入射电子与固体作用后又离开固体的电子。

4. 溅射:入射离子轰击固体时,当表面原子获得足够的动量和能量背离表面运动时,就引起表面粒子(原子、离子、原子团等)的发射,这种现象称为溅射。

5. 物相鉴定:指确定材料(样品)由哪些相组成。

6. 电子透镜:能使电子束聚焦的装置。

7. 质厚衬度:样品上的不同微区无论是质量还是厚度的差别,均可引起相应区域透射电子强度的改变,从而在图像上形成亮暗不同的区域,这一现象称为质厚衬度。

8. 蓝移:当有机化合物的结构发生变化时,其吸收带的最大吸收峰波长或位置(?最大)向短波方向移动,这种现象称为蓝移(或紫移,或“向蓝”)。

9. 伸缩振动:键长变化而键角不变的振动,可分为对称伸缩振动和反对称伸缩振动。

10. 差热分析:指在程序控制温度条件下,测量样品与参比物的温度差随温度或时间变化的函数关系的技术。

二、填空题(共20分,每小题2分。

)1. 电磁波谱可分为三个部分,即长波部分、中间部分和短波部分,其中中间部分包括(红外线)、(可见光)和(紫外线),统称为光学光谱。

2. 光谱分析方法是基于电磁辐射与材料相互作用产生的特征光谱波长与强度进行材料分析的方法。

光谱按强度对波长的分布(曲线)特点(或按胶片记录的光谱表观形态)可分为(连续)光谱、(带状)光谱和(线状)光谱3类。

3. 分子散射是入射线与线度即尺寸大小远小于其波长的分子或分子聚集体相互作用而产生的散射。

分子散射包括(瑞利散射)与(拉曼散射)两种。

4. X射线照射固体物质(样品),可能发生的相互作用主要有二次电子、背散射电子、特征X射线、俄歇电子、吸收电子、透射电子5. 多晶体(粉晶)X射线衍射分析的基本方法为(照相法)和(X射线衍射仪法)。

6. 依据入射电子的能量大小,电子衍射可分为(高能)电子衍射和(低能)电子衍射。

依据电子束是否穿透样品,电子衍射可分为(投射式)电子衍射与(反射式)电子衍射。

7. 衍射产生的充分必要条件是((衍射矢量方程或其它等效形式)加?F?2≠0)。

8. 透射电镜的样品可分为(直接)样品和(间接)样品。

9. 单晶电子衍射花样标定的主要方法有(尝试核算法)和(标准花样对照法)。

10. 扫描隧道显微镜、透射电镜、X射线光电子能谱、差热分析的英文字母缩写分别是( stm )、( tem )、( xps )、( DTA )。

11. X 射线衍射方法有、、和。

12. 扫描仪的工作方式有和两种。

13. 在 X 射线衍射物相分析中,粉末衍射卡组是由委员会编制,称为 JC PDS 卡片,又称为 PDF 卡片。

14. 电磁透镜的像差有、、和。

15. 透射电子显微镜的结构分为。

16. 影响差热曲线的因素有、、和。

三、判断题,表述对的在括号里打“√”,错的打“×”(共10分,每小题1分)1. 干涉指数是对晶面空间方位与晶面间距的标识。

晶面间距为d110/2的晶面其干涉指数为(220)。

(√)2. 倒易矢量r*HKL的基本性质为:r*HKL垂直于正点阵中相应的(HKL)晶面,其长度r*HKL等于(HKL)之晶面间距dHKL的2倍。

(×)倒数3. 分子的转动光谱是带状光谱。

(×)线状光谱4. 二次电子像的分辨率比背散射电子像的分辨率低。

(×)高5. 一束X射线照射一个原子列(一维晶体),只有镜面反射方向上才有可能产生衍射。

(×)6. 俄歇电子能谱不能分析固体表面的H和He。

(√)7. 低能电子衍射(LEED)不适合分析绝缘固体样品的表面结构。

(√)8. d-d跃迁受配位体场强度大小的影响很大,而f-f跃迁受配位体场强度大小的影响很小。

(√)9. 红外辐射与物质相互作用产生红外吸收光谱必须有分子极化率的变化。

(×)10. 样品粒度和气氛对差热曲线没有影响。

(×)四、单项选择题(共10分,每小题1分。

)1. 原子吸收光谱是(A)。

A、线状光谱B、带状光谱C、连续光谱2. 下列方法中,( A )可用于测定方解石的点阵常数。

A、 X射线衍射线分析B、红外光谱C、原子吸收光谱 D 紫外光谱子能谱3. 合金钢薄膜中极小弥散颗粒(直径远小于1?m)的物相鉴定,可以选择(D )。

A、X射线衍射线分析B、紫外可见吸收光谱C、差热分析D、多功能透射电镜4. 几种高聚物组成之混合物的定性分析与定量分析,可以选择(A )。

A、红外光谱B、俄歇电子能谱C、扫描电镜D、扫描隧道显微镜5. 下列( B)晶面不属于[100]晶带。

A、(001)B、(100)C、(010)D、(001)6. 某半导体的表面能带结构测定,可以选择(D )。

A、红外光谱B、透射电镜C、X射线光电子能谱 D 紫外光电子能谱7. 要分析钢中碳化物成分和基体中碳含量,一般应选用(A )电子探针仪,A、波谱仪型B、能谱仪型8. 要测定聚合物的熔点,可以选择( C )。

A、红外光谱B、紫外可见光谱C、差热分析D、X射线衍射9. 下列分析方法中,(A )不能分析水泥原料的化学组成。

A、红外光谱B、X射线荧光光谱C、等离子体发射光谱D、原子吸收光谱10. 要分析陶瓷原料的矿物组成,优先选择( C )。

A、原子吸收光谱B、原子荧光光谱C、X射线衍射D、透射电镜11.成分和价键分析手段包括【 b 】(a)WDS、能谱仪(EDS)和 XRD (b)WDS、EDS 和 XPS(c)TEM、WDS 和 XPS (d)XRD、FTIR 和 Raman12.分子结构分析手段包括【 a 】(a)拉曼光谱(Raman)、核磁共振(NMR)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)(b)NMR、FTIR 和 WDS(c)SEM、TEM 和 STEM(扫描透射电镜)(d) XRD、FTIR 和 Raman13.表面形貌分析的手段包括【 d 】(a)X 射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM) (b) SEM 和透射电镜(TEM)(c) 波谱仪(WDS)和 X 射线光电子谱仪(XPS) (d) 扫描隧道显微镜(S TM)和SEM14.透射电镜的两种主要功能:【 b 】(a)表面形貌和晶体结构(b)内部组织和晶体结构(c)表面形貌和成分价键(d)内部组织和成分价键五、简答题(共40分,每小题8分)答题要点:1. 简述分子能级跃迁的类型,比较紫外可见光谱与红外光谱的特点。

答:分子能级跃迁的类型主要有分子电子能级的跃迁、振动能级的跃迁和转动能级的跃迁。

紫外可见光谱是基于分子外层电子能级的跃迁而产生的吸收光谱,由于电子能级间隔比较大,在产生电子能级跃迁的同时,伴随着振动和转动能级的跃迁,因此它是带状光谱,吸收谱带(峰)宽缓。

而红外光谱是基于分子振动和转动能级跃迁产生的吸收光谱。

一般的中红外光谱是振-转光谱,是带状光谱,而纯的转动光谱处于远红外区,是线状光谱。

2. 简述布拉格方程及其意义。

答:晶面指数表示的布拉格方程为2dhklsin?=n?,式中d为(hkl)晶面间距,n为任意整数,称反射级数,?为掠射角或布拉格角,?为X射线的波长。

干涉指数表示的布拉格方程为2dHKLsin?=?。

其意义在于布拉格方程表达了反射线空间方位(?)与反射晶面面间距(d)及入射线方位(?)和波长(?)的相互关系,是X射线衍射产生的必要条件,是晶体结构分析的基本方程。

3. 为什么说扫描电镜的分辨率和信号的种类有关?试将各种信号的分辨率高低作一比较。

答:扫描电镜的分辨率和信号的种类有关,这是因为不同信号的性质和来源不同,作用的深度和范围不同。

主要信号图像分辨率的高低顺为:扫描透射电子像(与扫描电子束斑直径相当)?二次电子像(几nm,与扫描电子束斑直径相当)>背散射电子像(50-200nm)>吸收电流像? 特征X射图像(100nm-1000nm)。

4. 要在观察断口形貌的同时,分析断口上粒状夹杂物的化学成分,选择什么仪器?简述具体的分析方法。

答:要在观察断口形貌的同时,分析断口上粒状夹杂物的化学成分,应选用配置有波谱仪或能谱仪的扫描电镜。

具体的操作分析方法是:先扫描不同放大倍数的二次电子像,观察断口的微观形貌特征,选择并圈定断口上的粒状夹杂物,然后用波谱仪或能谱仪定点分析其化学成分(确定元素的种类和含量)。

5. 简述影响红外吸收谱带的主要因素。

答:红外吸收光谱峰位影响因素是多方面的。

一个特定的基团或化学键只有在和周围环境完全没有力学或电学偶合的情况下,它的键力常数k值才固定不变。

一切能引起k值改变的因素都会影响峰位变化。

归纳起来有:诱导效应、共轭效应、键应力的影响、氢键的影响、偶合效应、物态变化的影响等。

6.透射电镜主要由几大系统构成? 各系统之间关系如何?答:四大系统:电子光学系统,真空系统,供电控制系统,附加仪器系统。

其中电子光学系统是其核心。

其他系统为辅助系统。

7.透射电镜中有哪些主要光阑? 分别安装在什么位置? 其作用如何?答:主要有三种光阑:①聚光镜光阑。

在双聚光镜系统中,该光阑装在第二聚光镜下方。

作用:限制照明孔径角。

②物镜光阑。

安装在物镜后焦面。

作用: 提高像衬度;减小孔径角,从而减小像差;进行暗场成像。

③选区光阑:放在物镜的像平面位置。

作用: 对样品进行微区衍射分析。

8.什么是消光距离? 影响晶体消光距离的主要物性参数和外界条件是什么?答:消光距离:由于透射波和衍射波强烈的动力学相互作用结果,使I0和I g在晶体深度方向上发生周期性的振荡,此振荡的深度周期叫消光距离。

影响因素:晶胞体积,结构因子,Bragg角,电子波长。

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