蔡司EVO18电镜技术说明

蔡司EVO18电镜技术说明钨灯丝扫描电镜技术文件
仪器型号:EVO 18
Attachment-1/24
蔡司SMT
目录
附件一、品牌介绍
附件二、设备用途
附件三、技术指标
附件四、供货范围
附件五、计划进度及培训
附件六、环境要求
附件七、质保及其它服务
蔡司SMT
附件一: 聚焦?CARL ZEISS
世界可见光及电子光学的领导企业----德国蔡司公司始创于1846年。

其电子光学前身为LEO(里奥),更早叫Cambridge(剑桥)和Zeiss。

积扫描电镜领域40多年及透射电镜领域60年的经验，ZEISS电子束技术在世界上创造了数个第一: , 第一台静电式透射电镜 (1949)
, 第一台商业化扫描电镜 (1965)
, 第一台数字化扫描电镜(1985)
, 第一台场发射扫描电镜(1990)
, 第一台带有成像滤波器的透射电镜 (1992)
, 第一台具有Koehler照明的 200kV 场发射透射电镜(2003)
, 第一台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的场发射透射电镜(2003)
CARL ZEISS其前瞻性至臻完美的设计融合欧洲至上制造工艺造就了该品牌在光电子领域无可撼动的王者地位。

自成立至今，一直延续不断创新的传统，公司拥有广泛的专有技术，，随着离子束技术和基于电子束的分析技术的加入、可为您提供钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等全系列解决方案。

其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。

作为全球电镜标准缔造者的CARL ZEISS将一路领跑高端电镜市场为您开创探求纳米科技的崭新纪元。

Carl Zeiss SMT下属的纳米技术系统部在北京，上海，广州，鞍山设有营销公司和维修服务站，致力于蔡司电镜的技术咨询，销售和售后服务工作。

蔡司SMT
附件二:
设备主要用途
扫描电镜是以电子束作为光源，电子束在加速电压的作用下经过三级
电磁透镜，在末级透镜上部扫描线圈的作用下，在试样表面做光栅状扫描，，产生各种同试样性质有关的物理信息(如二次电子，背反射电子)，然后加以收集和处理，从而获得表征试样形貌的扫描电子像。

扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。

在材料科学、金属材料、陶瓷材料半导体材料、化学材料等领域，进行材料的微观形貌、组织、成分分析。

各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体/晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。

选配第三方附件:
能谱仪:即X射线能量色散谱仪,简称EDS主要是用来分析材料表面微区的化学成分,分析方式有定点定性分析、定点定量分析、元素的线分布、元素的面分布。

波谱仪:(即X射线波长色散谱仪,简称WDS)，用作微区成分分析。

分析精度方面比能谱仪精度更高，可以做成分的定量分析。

EBSD(电子背散射衍射仪):EBSD主要可做单晶体的物相分析,同时提供花样质量、置信度指数、彩色晶粒图,可做单晶体的空间位向测定、两颗单晶体之间夹角的测定、可做特选取向图、共格晶界图、特殊晶界图,同时提供不同晶界类型的绝
对数量和相对比例,即多晶粒夹角的统计分析、晶粒取向的统计分析以及它们的彩色图和直方统计图,还可做晶粒尺寸分布图,将多颗单晶的空间取向投影到极图或反极图上可做二维织构分析,也可做三维织构即ODF分析。

离子溅射仪:样品镀覆导电膜(金膜)，喷碳，使绝缘材料能够导电，是配合扫描电子显微镜制样必备的仪器。

蔡司SMT
附件三:技术指标
EVO18是一台高性能、功能强大的高分辨应用型扫描电子显微镜。

系统采用多接口的大
样品室和艺术级的物镜设计，提供高真空成像功能，可对各种材料表面作分析。

并且具有业
界领先的X射线分析条件，样品台为五轴全自动控制。

标准的高效率无油涡轮分子泵满足快
速的样品更换和无污染成像分析。

主要参数:
光学系统
1.1、光源:钨灯丝。

预对中式灯丝，灯丝具有自动加热、自动对中功能。

1.2、聚焦:具有手动及自动聚焦功能。

1.3、光阑:三级可调物镜光阑。

1.3、加速电压:200V,30kV，10V步进连续可调。

1.4、图像电平移:?50µm。

1.5、放大倍数:5×~1000,000×，连续可调。

1.6、分辨率:高真空二次电子像,3.0nm(30kV);
低真空背散射电子像,4.0nm(30kV)。

1.7、探针电流范围:0.5 pA~5 μA，连续可调。

1.8、聚焦工作距离:2mm~145mm。

1.9、电子束气体路径长度:,2mm。

2、真空系统
2.1、真空泵系统:涡轮分子泵+机械泵，不需要冷却水。

2.2、真空度:最高真空度:优于0.1mPa;
低真空压力范围:10Pa~400Pa。

2.3、在低真空条件下，保持8.5的工作距离，并且可以做能谱分析。

3、样品系统
3.1、样品室内部尺寸:φ365mm×275mm。

3.2 可放置的最大样品尺寸:直径250mm，高度145mm
3.3、最大允许样品重量:不小于5kg。

蔡司SMT
3.4、样品台移动方式:五轴马达驱动。

3.5、样品台移动范围:X 125mm, Y 125mm, Z 50mm,0?~+90?倾斜，360?旋转。

3.6、样品台移动精度:重复性<2 µm;最小步长90nm;漂移<40nm/6min。

3.7、样品台具有接触报警与自动停止功能。

3.8、具备样品位置感知功能。

注:如配热台样品台XY轴移动范围必须大于100MM 4、探测器系统
、具备高真空二次电子探测器。

4.1
4.2、具备低真空二次电子探测器。

(选配)
4.3、具备背散射电子探测器。

4.4、具备X射线能谱仪接口。

4.5、探测器成像模式:同时对二次电子和背散射电子成像，并可在一种图像中任意位置显示另外一种图像。

4.6、扫描方式:全屏、选区、定点、线扫描、线轮廓、扫描旋转、倾斜补偿。

4.7、整机系统控制要求独立控制单元，为检修提供方便。

图像解析度: 3072x 2304 扫描点阵
操作系统: WindowsXP 以及简单友好的SmartSEM扫描电镜操作控制软件显示器:19" TFT
5、牛津电制冷X射线能谱仪Inca X-Act
5.1、探测器制冷方式:电制冷型。

5.2、探测器:硅漂移探头。

25.3、有效探测面积: 10mm。

5.3、20,000cps时的能量辨率:Mn Ka:?129eV
F Ka:?66eV
C Ka:?56eV
6.4、元素探测范围:Be(4)~Pu(94)
6.5、最大输入计数:>750,000cps
蔡司SMT
蔡司电镜独有技术优势
世界顶级光学品牌，可见光学和电子光学的领导者。

其电子光学前身为LEO，更早叫Cambridge和ZEISS。

1965年推出世界第一台商业化扫描电镜;1985年推出世界上第一台数字化扫描电镜。

其电子光学产品包括钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、同步双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等。

所有ZEISS系列的电子显微镜全部采用高效率无污染的涡轮分子泵真空系统
1.束流稳定，可与电子探针媲美
蔡司的扫描电镜配有自动法拉第笼。

它安装在扫描电镜的镜筒内，由气动控制其进出，用以直接测量电子束流。

镜筒内还含有闭环反馈控制系统，以便对电子束流进行精确控制。

其电子束流的稳定度优于0.2%/h，已达到电子探针的水平。

此外，束流稳定，非常有利于能谱分析，特别是波谱仪的分析工作(如果将来购买的话)。

2.Optibeam透镜:-----五种观察模式的电子光学系统
蔡司是电子光学设计的领导者。

其扫描电镜采用最先进的电子光学系统，在电子束对中、消像散、调焦等方面均处于业内领先地位。

蔡司扫描电镜的每个镜筒均独立供电所以可提供五种观察模式:分辨率模式、大景深模式、广角模式、分析模式，鱼眼模式。

分辨率模式使得高分辨率图像的观察容易;大景深模式有利于非常粗糙样品和大斜面样品的观察;ZEISS束流很大可以到5uA,所以景深度可以达到业内最好。

广角模式使得观察的范围很大，最小放大倍数仅为五倍;而分析模式用于能谱波谱分析。

鱼眼模式可同时观察九桩样品座的全貌。

蔡司SMT
大景深模式
3(设计优化无需复杂附件
ZEISS EVO系列已经不需要冷却系统，冷却系统的需求与E-beam的使用率有关,如果利用率低耗散会较大需要冷却,Zeiss对电子束利用率很高耗散很少所以不需
要冷却.而且本身电子束耗散大的话对Column也是一种损耗,会影响仪器寿命.所以Zeiss可以减少这些对仪器的不必要的损耗.所以也不需要空压机等附件，使用方便。

其他厂家都需要空压机与冷却系统。

4(卓越的低真空技术
蔡司专利的低真空二次电子探头解决了不导电样品在不做导电处理的情况下在低真空环境下的二次电子像问题。

目前在低真空环境下普遍使用背散射电子探头来获取图像，但是背散射电子信号并不能很真实的反映样品最表面的形貌信息，所以
能够直接用二次电子信号成像是低真空二次电子探头在反映样品表面形貌信息时最大的优势。

蔡司SMT
ZEISS是低真空技术的研发者。

ZEISS的低真空技术可以做到400Pa,超低真空(环扫)可达3000 Pa，对一般的非导体比如陶瓷,塑料,头发等可以直接观察,而且可以对含有水分的生物样品比如猪脑, 细胞, 植物, 微生物也可以直接观察, 但FEI,日本电子和日立的低真空只是到270Pa,对含有水分等动植物样品都不可以直接做。

5.BeamSleeve技术
Zeiss独有Beamsleeve(电子束套管)的专利设计(如下图)缩小了电子束与样品的气体路径长度(可低到1mm)，最大限度的将电子束与样品室内的荷电补偿气体隔离开来，使得在低加速电压时，电子枪的虚拟电子源在光轴上的移动距离最小，避免低电压下电子束斑在样品表面上的大范围离焦，保证在低电压和低真空条件下提供高分辨率的锐利图像，同时电子束能量没有缺失和扩散确保能谱分析的准确。

Beamsleeve(电子束套管)还起到了隔断样品室的低真空与Column的高真空保护了Column不受污染,所以ZEISS的EVO系列几乎不需要去清洗Column，同时因为其仪器的设计aperture(光阑)很难堵也是十几年都不需要更换(至今ZEISS大陆的钨灯丝的用户还没有更换过aperture(光阑)的历史)。

而其他家的钨灯丝则需要1-2
年更换aperture(光阑), 3年左右就需要清洗Column。

而ZEISS EVO系列是不需要的。

蔡司SMT
6. 最短的X射线分析工作距离:
ZEISS的电镜能谱仪的分析工作距离可以低到8.5mm,为业内最低. 一般能谱仪的分辨率都是用专门的样品吸附在能谱仪的探头上(如下图左侧探头)测的,实际使用样品与能谱仪的探头有很长的距离,所以实际使用是达不到标准的分辨率, 而ZEISS的做工可以使能谱仪低到8.5mm为业内最低,所以能谱仪可以达到更好的分辨率. 另一方面因为一般SE的成像如果上千倍工作距离是5-9mm,而8.5也在5-9mm之间所以客户可以一边做SE的成像一边做EDS元素分析,使用非常方便.而其他家的能谱分析距离都是10mm,12mm, 所以在做完SE成像一定要调整样品台等, 而且需要重新聚焦等工作, 而ZEISS不需要调来调去,直接SE拍完直接用能谱电脑进行分析,使用非常方便.
6. EBSD的几何共面:
在所有的EVO仪器中，镜筒的电子光学光轴，EBSD摄像机，EDS探测器和试样的倾斜方向均处于同一平面。

这种几何上的共面设计最适合于先进的EBSD研究，还可同时进行能谱分析。

而其他厂家的背散射衍射和能谱只能分开做。

7. 制造工艺
ZEISS的电镜做工方面非常精密，比如其样品室是近似于椭圆形的是因为其是由整个物体掏空做成的，所以其抗磁，防震，抗躁声的效果比较好。

所以其仪器性
能可以做的比较好. 整台设备的电器部分只有四块电路板组成，故障率低，方便维护。

8. 超大样品室和样品台
样品台的尺寸是决定其档次和价格的重要因素。

蔡司扫描电镜的样品室超大，采用气囊式减震系统，接口升级空间大，数量达11个，为以后安装各种附件提供了最大的方便。

样品台移动范围大，X，Y，Z分别为125mm,125mm,50mm。

便于多样品观察，同时可升级为用于原位观察的高温热台电镜。

9、高定位精度的数码控制装置
蔡司的马达样品台由于配备高定位精度的数码控制装置，在X、Y和Z，R,T五轴方向是高移动精度的马达台，移动精度为90纳米。

而其定位精度即可达到2微米。

当结合能谱仪在大范围内进行特征物的搜索并最后判定特征时，需要绝对精确的远程回位，此功能非常有用。

10.创新的控制理念:
蔡司SMT
蔡司独创的多功能控制键盘将电镜复杂的操作全部集成到一个多功能键盘上，可实现电镜功能的全部调节，大大提高工作效率。

EVO18扫描电子显微镜软件功能: 1(简捷易用的图形用户界面，实现整个电镜系统的操作、控制、调整、参数及状态显示。

2(OptiBeam功能:ZEISS 专利，最佳电子光学性能与方便使用相结合。

据有下列工作模式:
a.分辨率模式:对于任何选择的探针电流，自动选择最小的探针直径。

b.景深模式:自动选择最大的景深，以至于在低倍时确保清晰成像。

c.分析模式:对于探针电流的改变，自动保持聚焦。

d.视场模式:大视场与大景深结合的引导模式。

3(样品引导:通过精确图形显现的样品台、样品室和探测器的位置引导。

以便用户更快的找到所要观察的样品和部位。

4(放大倍数预置与自动补偿
预置:用户可自定义放大倍数表，可方便的表中选择放大倍数，很容易加入一个对于工作条件自动选择的可用的最低放大倍数。

自动补偿:对于工作距离或加速电压的改变，准确地校正放大倍数。

5(真空系统自动控制，各阀门的自动切换，真空状态及真空度的测量及显示，安全保护功能。

样品室压力自动调节(VP模式)。

6(样品台初始化、样品台坐标显示、极限报警与自停。

7(样品台移动控制:用键盘、鼠标在屏幕图形上或用可选的操纵杆控制。

灵敏度与放大倍数相协调。

?8(样品台引导、坐标记忆:使用具有精确、可变倍的 3D 样品台视图和完整的EVO MA10 样品座清单的SmartSEM? 图形。

在样品上感兴趣位置的简图或坐标值可以被保存，以帮助以后的引导。

9(样品台间隙补偿，提高样品台的移动精度。

蔡司SMT
10(与其它附属设备(如EDS)的通讯。

11(图像采集、处理、存储、输出。

包括图像的复制、剪切与粘贴、信号反转等。

12(自动选择电子枪偏压:从超过 1000 个数值的设置中自动选择，以保持对所有电子束能量的最佳电子枪状态。

13(电子枪自动对中。

14(自动电子枪启动:将电子枪状态自动设置到最佳状态或预置值。

15(辅助光栏对中(聚焦摆动(Wobble))。

16(自动聚焦、自动消像散。

17(自动亮度、对比度控制。

18(EHT(高压)补偿:在整个电子束能量范围，自动补偿使聚焦变化最小。

19(旋转补偿:对工作距离改变时造成的图像旋转的自动校正。

20(动态聚焦:样品表面在 -80? 到 +80? 之间倾斜时，对聚焦进行校正。

21(信号混合:任何两个探测器信号输入能够被混合，以增强和改善图像信息。

22(扫描方式及速度控制。

正常:全屏扫描。

选区(小光栅):可调的减小面积扫描以精细调整像散、聚焦等。

定点方式:允许电子束斑定位于由X和Y任意确定的位置。

电子束在样品上的位置由附加在样品冻结图像上的十字线来指示。

线扫描:允许在样品的一条线上进行反复扫描。

这条线的位置可随意调整。

线轮廓:沿着选择的线扫描显示信号电平的变化，以便进行对比度和亮度的精确调整。

扫描速度:十五种非隔行电子束扫描速度。

最快扫描速度是每秒 10 帧，最慢的速度是 21 分钟一帧。

23(扫描速度的快捷方式:允许用户设定扫描参数、图像模式和降噪的特殊组合法，以便使用更加方便。

24(扫描旋转:在所有的扫描速率，进行360度连续扫描旋转。

在不转动样品的情况下实现图像的旋转。

25(倾斜校正:在倾斜样品时对图像的压缩进行校正。

26(降噪功能:帧平均:帧叠加、行平均、行叠加。

27(分屏显示:在一台监视器的两侧实时显示同一视场的图像，两侧的图像可以来自两个探测器。

图像的一半可以选择处理和冻结。

28(直方图:显示实时和存储图像的灰度电平直方图。

用光标控制可以显示任一个灰度电平
蔡司SMT
的幅度。

29(轮廓方式:沿着选择的线显示灰度电平强度。

对于存储图像，线的方向可随意调整。

30(伪彩色:使用来自多达1600万种颜色调色板的颜色查看表编辑功能，可对图像进行伪彩色处理。

31(数据区
标准数据区:显示下列信息:加速电压、工作距离和比例尺。

定制数据区:可以使用任何可用的系统参数组合成定制数据区，例如光栏、探测器等。

数据区信息可以显现或不显现在硬拷贝输出上。

文本与背景颜色，包括透明的，随意可选。

32(系统状态菜单:工作参数可以使用系统状态显示进行监视。

任何可用的系统参数，如亮度、对比度，可以从显示中选择。

状态显示选择表可以随意存贮和调用。

33(注释:用户文本可以从键盘输入到存储或实时图像上的任何位置。

可以使用 Windows 操作系统的字体和尺寸，可以加上固定的和可调的微米标尺。

文本的颜色、风格和背景可随意选择。

根据需要，覆盖层文本可以单独存储或与图像一起存储。

34(测量功能:
线宽度:确定在实时或存储图像上的一对垂直或水平线之间的距离。

可以同时显示一个水平和一个垂直测量。

点间距:确定在实时或存储图像上的一对光标中心之间的距离和方位角。

可以同时显示两组点间距测量。

角度:确定在实时或存储图像上由三个光标所决定的包含角。

可以同时显示两组角度测量。

直径:确定在实时或存储图像上由两个光标中心所决定的圆的直径。

可以同时显示两组直径测量。

35(鱼眼方式:用于使用超大视场进行快速引导，能够观测在九桩样品座上的全部样品桩。

牛津仪器Inca X-Act能谱仪详细配置及功能
1. 专利的X-Act 分析型SDD硅漂移探测器
2, SuperATW窗口，10mm大面积活区;
, 在Mn Kα处的分辨率: 优于129eV (计数率>20,000cps);
, 分析元素下限:Be4
, 独立封装FET，圆形SDD晶体
, 两级电子制冷
, 不用时无需通电，即热循环设计
, 通电2分钟后即可达到稳定的工作温度
, 无漏磁准直器设计
蔡司SMT
, 高性能，低噪声，专利的X-sight电荷复位技术;
2. INCA 系统
显微分析处理器 (分立式设计)
Inca X-stream显微分析处理器
, 探测器高压偏压电源。

, 6个程序可选时间常数和4个能量范围(10, 20, 40, 80KeV)的数字信号处理器 , 计算机控制的数字脉冲处理器，输出最大计数率300,000CPS, 可处理最大计数率
700,000CPS, 在所有处理时间常数上全自动校正
, 活时间校正。

三个鉴别器覆盖全范围的反脉冲堆积，直至下限铍。

, 数字零点稳定器。

, 探测器控制系统。

Inca Mics显微分析处理器
, 带有存储器和辅助电路的高速微控制器，用以收集和处理X射线信号。

, IEEE1394 数据接口，用以高速传输数据到/自系统计算机。

, 二个RS232串口或一个RS232串口和一个LASERBUS口。

, 在线(板上)的诊断包括测试脉冲发生器，连续监视:
- 电源
- 探测器指示波形
- 机箱温度
, 线性电源
, 符合美国和欧洲电磁规定，并执行CE标记。

, SUPERSCAN –先进的超级数字扫描系统。

, 使用数字信号处理器(DSP)控制扫描和图像收集，以达到最佳的性能和速度。

, 电子图像最大清晰度2048*2048
, 全谱面分布图最大清晰度1024*1024
, 2MB的VRAM用于图像数据。

, 4MB的DRAM用于SmartMap的数据缓冲存储器(传输到PC之前的数据) , 包括Kalman噪声限制程序，在快速扫描和限制图像噪声之间兼顾和控制。

, 同步图像收集和数据传输到PC(零等待)。

, 12位DAC用于数字化电子束定位。

, 电镜图像接口电缆。

INCA Energy 软件导航器
, 真正的32位软件
, 独一无二的导航器界面, 非常友好，中英文自由切换, 引导用户从启动分析项目到打
印实验报告的全部显微分析过程。

, 用户可容易地在导航器之间切换，直接面对工作流程和IMS，以便直接看到自动分析
过程的进展。

Advisor专家顾问
, Advisor是一个专家多媒体显微分析教育系统，并全集成到应用软件的各个层面。

其
具有如下特点:
- 在线式中文帮助系统，在显微分析的每个步骤上给您建议和指导
-多媒体显微分析百科全书，提供显微分析原理，和实验的综合说明指导。

-附送显微分析多媒体光盘, 寓教于乐
信息管理系统(IMS)
蔡司SMT
, 独特的数据树结构设计。

, 每个项目都将数据有逻辑的组织成与感兴趣区对应的‘样品’。

, 数据包可有保护的从一个感兴趣区拷贝或移动到另一个感兴趣区。

, 样品可在下面之间拷贝或移动。

, 数据可在用户定义的时间间隔保存。

, 应用软件之间可共享数据。

, 灵活的数据保护或共享。

实验报告
, 打印预览。

, 文字框, 可输入注解。

, 单键生成Word, 或HTML等格式的报告输出。

生成文字文件。

,
, 在电子图像和X射线分布图上注解。

, 可拷贝谱，图像，X射线分布图，线扫描等数据到其它软件，如WORD , 以各种文件格式输出谱，图像，X射线分布图，线扫描。

, 报告模板生成器可制定您自己的报告格式。

Inca X-Act包括个导航器:
1. Analyzer 定性定量分析导航器
2. Point & ID 选点及电子束控制采集导航器
3. Mapping 元素面分布分析导航器
Inca X-Act包括下列软件和功能:
, Beam & Stage Automation电子束, 样品台自动化控制系统―― 可在牛津能谱仪的计算机上实现对扫描电镜电子束的控制 , Point & ID 电子束控制采集模块，含有特征王组件
――控制电子束对选定的点、区域、复杂形状或相同成份的区域进行分析 , Element Maps 多元素的面扫描
――可得到任意多种元素的分布状况, 并可用不同颜色表示 , Smartmap Spectrum Reconstruction; Smartmap谱重构
――全部数据一次Mapping收集, 可以任意添加删除元素, 进行谱图重构. 并且Mapping
数据可以被其它导航器(Analyzer 和 Point&ID)调用, 以便脱机处理及定量分析 , Element Examiner 元素侦察功能
――可对特定元素, 如重叠严重及含量较低的元素进行鉴别, 并判断其分布 , Element Linescan 多元素的线扫描
―― 可以得到任意多种元素在所选任意方向的直线上的分布状况 , Profile Optimization 峰形优化
――对元素峰形进行优化, 可以对复杂峰重叠准确去卷积 , Background Removal 本底扣除
――可以采集本底信号的面分布图及进行线扫描, 所以在面扫描和线扫描时也可以进行
手动本底扣除运算
, Spectrum Reconstruction 谱图重构
――可以手动对谱图进行重构, 直观地检查复杂峰形是否标定正确 , Check Total 检查总量功能
――根据谱峰和本底的强度来检查重构的谱和采集到的谱图的一致性
蔡司SMT
, Spectrum Comparison 多谱比较
―― 将多个采集到的谱图或储存的谱图进行相互比较 , Spectrum Subtraction 谱的相减
――对两谱图进行相减, 可以去除基体的影响, 更准确的判断微区的成分 , Light Element Quantitative Analysis轻元素定量分析程序，采用XPP模型，比ZAF精
度高数倍―― 最新显微定量分析修正程序，大大提高分析精度 , Quant Optimization 定量最优化
―― 将仪器校正到最佳状态, 以保证极高要求的定量分析结果 , Normalized & Unnormalized Quantitative Analysis 归一化及非归一化分析―― 可以很方便地得到归一化及非归一化定量分析结果 , Standardized & Unstandardized Analysis 无标样分析及有标样分析――可以采用完全无标样法, 也可以建立自己的标样库
Process Option: All Elements, Element By Difference, Element By Stoichiometry 多种定,
量结果处理方法
――除对所有元素定量外, 还可以选择用差额法及化学式法进行处理, 以适合各种不同
类型的样品的定量分析，化学式法同样可以得到非归一化结果。

, Fast Acquire Spectra 快速收谱
―― 快速采集能谱图
, Auto Element Identification and Labeling, including sum peak元素自动识别及标定。