pH对席夫碱在玻碳电极上电化学氧化还原的影响

pH对席夫碱在玻碳电极上电化学氧化还原的影响
朱延松;王晓敏
【期刊名称】《鞍山师范学院学报》
【年(卷),期】2009(11)6
【摘要】合成了一种席夫碱(N-苯基苯甲亚胺),利用循环伏安法对这种席夫碱溶液在玻碳电极上的电化学氧化还原进行了研究,并考察了pH对这种席夫碱的电化学氧化还原反应的影响.结果表明:该席夫碱的循环伏安图上,在-1.590 V电位下出现了一个-CH=N-基团不可逆的还原峰,这说明在玻碳电极上此席夫碱可以被还原;在不同pH的缓冲溶液中,此席夫碱的-CH=N-基团还原峰的峰电位随着H+浓度的增大向负方向移动,并对H+对席夫碱-CH=N-基团的电化学氧化还原影响的机理进行了推断.
【总页数】3页(P35-37)
【作者】朱延松;王晓敏
【作者单位】鞍山师范学院,化学系,辽宁,鞍山,114007;鞍山师范学院,化学系,辽宁,鞍山,114007
【正文语种】中文
【中图分类】O646.54
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