【2018最新】赫尔槽实验报告-精选word文档 (4页)

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赫尔槽测试

潜在的问题可以及早发现
2. 测试所需物件及程序
• 赫尔槽片及前处理过程 • 整流器 • 赫尔槽标尺 • 搅拌 • 阳极 • 赫尔槽
槽片及前处理
抛光黄铜片
前处理方法
化学除油 ► 电解除油 ► 酸活化 ► 打片
整流器
• 标准：220V，50Hz，单相整流器 ► 可以提供0-5, 0-10, 或0-30 安培
赫尔片外观全片光亮，且走位、覆盖和整平性佳高区烧焦，镀层发暗
低区发暗，沉积速率低高区烧焦，镀速慢，低区发暗，整平性差高区烧焦，阳极钝化，和硫酸浓度低情况类似缺乏光亮性，尤其是在中区；镀槽粗糙和硫酸浓度高类似，不过整平性要差
3. 赫尔槽测试－－酸铜
槽液污染Vs 槽片外观
污染 Fe(铁) Zn(锌)
内容
1. 赫尔槽测试的作用 2. 测试所需物件及程序 3. 赫尔槽测试－－酸铜 4. 赫尔槽测试－－光亮镍 5. 赫尔槽测试－－镀铬
1. 赫尔槽测试的作用
• 可以真实、快捷地反映生产镀槽中的情况 • 可以获得一个较宽的电流密度范围，指导生产 • 可以反映出镀槽中有机物的含量 • 是工艺控制的便捷方法
直流电。电流波动要非常小，非常稳定。
► 内嵌式计时器
赫尔槽标尺
• 是实验室赫尔槽测试的重要工具
► 通过赫尔槽标尺可以根据电流的大小(1,2,3,5A) ，
查到赫尔槽片上某一点的实际电流密度
► 同时也印有单位换算公式如：gal×3.785=Lit
Lb×453.6=gram oz/gal×7.5=g/lit A/ft2×0.108=A/dm2
267 ml 电镀液 B
A -高电流密度 B -低电流密度.
267ml的霍尔槽的电镀范围

赫尔槽试验

霍尔槽（哈式槽）试验及结果解读广东科斯琳电镀实验设备关键词：霍尔槽,电镀一.霍尔槽是一种试验效果好，操作简单、所需溶液体积小的小型电镀试验槽。

它可以较好的确定获得外观合格镀层的电流密度范围及其它工艺条件。

生产现场常用来快速解决镀液所发生的问题。

二.小型霍尔槽结构下面是工厂电镀制程控制常用的霍尔槽基本结构(市面上可以购买到带加热、通入压缩空搅拌孔等设计精良的成品)霍尔槽结构示意图三.霍尔槽的试验装置及实验方法1.试验装置:2.试验方法a.溶液的选择为了获得正确的试验结果，选择的溶液必须具有代表性。

重复试验时，每次试验所取溶液的体积应相同。

当使用不溶阳极时，溶液经1~2次电镀后应更换新液。

如采用可溶性阳极则最多试验4~5次后更换新液。

在测微量杂质或添加剂的影响时，每槽试验次数应酌情减少。

b.阴阳极材料的选择阴阳极材料通常是平面型薄板，阳极厚度不超过5MM，阴极厚度为0.2~1MM，阳极材料应与生产中使用的阳极相同。

c.电流大小霍尔槽电流大小通常在0.5~2A范围内。

d.试验时间及温度一般在5~10分钟，试验温度应与生产相同。

四.霍尔试片判定(以镀锡为例)1.背面背面看片原则:先看背面的异常现象,再判定可能造成的原因.a.先从HULLCELL片背面中间剖开,再看高电流密度区(添加剂)与低电流密度区(开缸剂)有没有失去平衡:(例如往高电流密度区缩小是添加剂不足,往低电流密度区缩小是开缸剂不够).b.看三层云分布:正常HULLCELL片背后会出现三层云(即亮层/浓雾层/淡雾层)如下示意图.HULLCELL片背面区域c.如果为全浓雾或无亮,判定是添加剂或补充剂不够,酸不足,建浴剂不足.d.如果都是淡淡的薄雾浓雾少,且将要收缩,可能是添加剂或酸过量.e.有出现三层云,向中间凹进去的话,主要原因有主盐不够或沉积速率不够.沉积速率不够可能原因为(添加剂过量或不足b;酸不足)。

2.看正面正面看片原则:由正面现象来验证或排除第一项的可能原因HULLCELL片正面示意图a.看高中低电流密度区光泽分布状况:与高电流密度区是否有有机分解污染及界面与低电流密度区是否有无机析出。

赫尔槽试验

霍尔槽Hull Cell [霍尔槽、赫尔槽或哈氏槽]赫尔槽试验一、赫尔槽试验的特点及其应用赫尔槽试验只需要少量镀液，经过短时间试验便能得到在较宽的电流密度范围内镀液的电镀效果。

由于该试脸对镀液组成及操作条件作用敏感，因此，常用来确定镀浓各组分的浓度以及pH值，确定获得良好镀层的电流密度范围，同时也常用于镀液的故障分析。

因此，赫尔槽已成为电镀研究、电镀工艺控制不可缺少的工具。

二、赫尔槽的形状及试验装置1．赫尔槽结构赫尔槽常用有机玻璃或硬聚氯乙烯等绝缘材料制成，底面呈梯形，阴、阳极分别置于不平行的两边，容量有1000mL，267mL两种。

人们常在267mL试验槽中加入250mL镀液，便于将添加物折算成每升含有多少克。

2．赫尔槽试验装置赫尔槽试验电路与一般的电镀电路相同，电源根据试验对电压波形要求选择。

串联在试验回路中的可变电阻及电流表用以调节试验电流及电流指示，并联的电压表用以指示试验的槽电压。

三、赫尔槽阴极上的电流分布赫尔槽的阴极板与阳极板互不平行，阴极的离阳极较近的一端称近端；另一端离阳极远，称远端。

由于电流从阳极流到阴极的近端和远端的路径不同，不同路径槽液的电阻也不同，因此阴极上的电流密度从远端到近端逐渐增大，250mL 的赫尔槽近端的电流密度是远端的50倍。

因而一次试验便能观察到相当宽范围的电流密度下所获得的镀层。

有人经过酸性镀铜、酸性镀镍、橄化镀锌、氰化镀镐四种镀液在不同电流强度下进行电镀试验并取它们的平均值，得到阴极上各点的电流密度与该点离近端距离关系的经验公式：1000mL赫尔槽Jk=I*（3.26一3.05 1ogl）267mL赫尔槽Jk=I*(5.10一5.24 1ogl)式中Jk—阴极上某点的电流密度值〔A/dm2〕;I--试验时的电流强度（A）；l--阴极上该点距近端的距离(cm)．必须注意，靠近阴极两端各点计算所得的电流密度是不正确的。

艺=0.635--8.255cm范围内，计算值有参考价值．267mL赫尔槽中放入250mL镀液做试脸时，阴极上各点的电流密度应是267mL的1.068倍，即267mL赫尔槽阴极的相应点的电流密度乘上267/250。

赫尔槽实验报告

篇一：实验电镀赫尔槽试验调整电镀液实验电镀赫尔槽试验调整电镀液广东科斯琳电镀添加剂提供电镀技术支持电镀液性能变化后必然从镀层上反映出来，要想从一张试验试片上反映出宽电流密度范围内的镀层状况，最简单的试验还是赫尔槽试验。

利用赫尔槽试验，是广东科斯琳电镀添加剂对电镀光亮剂开发及日常维护镀液的主要手段。

供同行参改。

电镀光亮镀镍：影响光亮镀镍效果的因素很多，而不仅仅取决于光亮剂。

利用赫尔槽试验可以调整出良好的效果。

硼酸含量的判定硼酸被广泛用作微酸性电镀液作ph值缓冲剂。

在光亮镀镍中，硼酸还有细化结晶，提高光亮整平性及扩展低区光亮范围的作用，应充分重视，其含量以控制在使用液温下不结晶析出为限。

赫尔槽试片上的反映：1，55度左右搅拌镀3 min(2a)，若试片高中da区有灰白现象（润湿剂又足够时），补加5 g/l左右硼酸则有明显好转，为硼酸不足。

2. 55度左右1a搅拌镀5min，若低区光亮性不足，而ph值又不低，光亮剂足够，可试加5g/l左右硼酸，若有时显好转，则硼酸不足。

镍盐判定：新酸亮镍液，55度左右3a静镀3min，试片高端无烧焦。

若生产槽液，赫尔槽2a静镀都有烧焦，而ph值正常，不差硼酸，则主盐不足，此时可视情况补加镍盐，当氯化镍正常时，镀液应带有黑绿色，若镀液是淡的绿色，可能氯离子不足，应补加10g/l左右氯化镍，若镀液带墨绿色，可补加20g//l左右硫酸镍。

主盐浓度不足，不仅烧焦区宽，光亮整平性也变差。

氯离子：氯离子在亮镍液中通常用于阳极活化剂，防止镍阳极钝化，实际上，由于氯化镍的扩散系数远比硫酸镍大，因此，足量的氯离子有助于提高镀液分散能力和扩展低区光亮范围，其作用有时还非常明显，因而新配液的氯化镍含量不宜低45g/l.从表面张力判定：要从赫尔槽试验判断润湿剂是否足量，只能在静镀时仔细观察电镀时试片表面气泡滞留情况及镀约10min，镀层较厚时看镀层有无麻点，若试片在搅拌时，高区有发花现象，加入润湿后则不发花了，说明润湿剂太少，采用十二烷基硫酸钠作润湿剂，搅拌镀时镀液表面应有较多气泡，若气泡太少甚至无气泡，则十二烷基硫酸钠太少。

实验10-电镀锌的工艺设计实验报告

实验10 ：电镀锌的工艺设计一、实验目的1. 了解赫尔槽的结构特点并掌握赫尔槽的使用；2. 掌握锌酸盐镀锌的工艺流程二、实验原理赫尔槽是RO Hull于1935年设计的形似梯形的一种电镀工艺试验仪，它具有结构简单，使用方便，速度快，效果好，消耗镀液少等特点，是电镀工艺者必须掌握的试验手段，随着电镀技术的发展，赫尔槽的用途和结构都有了新的发展，不仅用于研究镀液组分的影响，添加剂的选择，查明故障，确定电流密度范围等，而且用于测定分散能力，深镀能力。

镀层的其他性能（整平性、脆性、内应力、耐蚀性等），能测定镀液和镀层的许多主要性能。

在电镀中，阴极和阳极总是平行放置的，如图 14（a）所示，为的是阴极上各部位电流密度趋向分布。

但如果把阴极斜放，使阴极各部位与阳极的距离不同，如图 14（ b）所示，则阴极上的电流密度就随各部位而异，赫尔槽就是应用这个原理设计的。

在赫尔槽中，阴极两端与阳极距离不同，离阳极近的一端叫近端，电流密度大，随着远离阳极电流密度逐渐变小，距阳极最远的一端称为远端，电流密度最小，如267 毫升的赫尔槽试片上近端与远端电流密度相差50 倍，因此通过一次赫尔槽试验就可以直接从阴极试片上观察到不同电流密度下镀层的状况，改变电镀液的组分和工艺参数并分别做赫尔槽试验，对阴极试片进行比较和分析从而可确定合理的配方和工作规范。

图1.赫尔槽的结构图镀锌过程：阴极过程：Zn(OH)42- - 20H- f Zn(0H)2Zn( 0H)2 + 2e f Zn + 20H-另外；2H+ + 2e f H2 T阳极过程；Zn - 2e + 40H- f Zn( OH)42-Zn + 2NaOH + 2H2O f Na2[Z n(0H)4] + H2 T也存在；40H- - 4e f 2H20 + 02三、实验器材赫尔槽、直流稳压电源、锌阳极、铜试片、NaOH、ZnO、一些添加剂四、实验步骤1. 锌版用砂纸打磨后用去离子水清洗处理；铜片用去离子水清洗。

哈氏槽(赫尔槽)原理及相关试验说明(技术相关)

哈氏槽(赫尔槽)原理及相关试验说明现代电镀网讯：一、哈氏槽试验哈氏槽也叫霍尔槽或梯形槽，是由美国的R.O.Hull于1939年发明的，用来进行电镀液性能测试的实验小槽，其基本的形状如下图所示：由于哈氏槽试片两端距阳极的距离有很大差别，加上在角部的屏蔽效应，使同一试片上从近阳极湍和远阳极端的电流密度有很大的差异，并且电流密度的分布呈现由大(近阳极)到小(远阳极)的线性分布。

根据通过哈氏槽总电流大小的不同，其远近两端电流密度的大小差值达50倍。

这样，从一个试片上可以观测到很宽电流密度范围的镀层状况，从而为分析和处理镀液故障提供了很多有用的信息。

通过哈氏槽实验可以控制镀层质量，确定最佳镀液配比和合适的温度、电流密度和各种添加剂的用量和补充规律。

还可以分析镀液中杂质和各种成分变化对镀层的影响和排查镀液故障。

因此，哈氏槽实验是电镀生产和管理以及科研都不可少的重要实验工具。

二、加长型哈氏槽加长型哈氏槽是将哈氏槽的阴极区的长度加长为标准哈氏槽的2倍的改良型哈氏槽(如下图所示)。

这是为了测试高水平宽光亮区电镀添加剂的一种创新设备。

加长后的阴极试片的长度达到203mm，这样做是因为用标准试片发现不了新型光泽剂的低区和高区极限电流区域，通过加长试片的长度，可以在更宽的电流密度范围内考查镀液和添加剂的水平。

多用于光亮性电镀的验证试验，特别是在光亮镀镍新型光泽剂的开发方面，这种加长型哈氏槽可以发挥很好的作用。

随着电镀技术的不断进步，有些镀种在传统哈氏槽试片的电流密度区内都可以获得全光亮的镀层，用传统哈氏槽已经无法进行低电流区性能的比较。

而采用这种加长型哈氏槽由很容易看得出差距。

三、用哈氏槽做光泽剂的试验光泽剂是光亮电镀中必不可少的添加剂，是光亮镀种管理的关键成分，因此采用哈氏槽对光泽剂进行试验是常用的管理手段。

采用哈氏槽可以对光泽剂的光亮效果、光亮区的电流密度范围、光泽剂的消耗量和外加规律等做出明确的判断。

当采用哈氏槽进行光泽剂性能等相关试验时，首先要采用标准的镀液配方和严格的电镀工艺规范，以排除其他非添加剂因素对试验的干扰。

HULLTEST赫尔槽测试中文版

The Hull Cell (U.S. Pate nt # 2,149,344) is a min iature test cell desig ned to produce a plated deposit over a range of curre nt den sities. The deposit is depe ndent upon the con diti on of the plati ng bath (i.e. concen trati on of primary comp onen ts, additi on agents and impurities). The Hull Cell is a useful tool for varying chemical composition, determ ining coveri ng power (the lowest curre nt den sity at which a deposit is produced), measuri ng average cathode efficie ncy, average metal distributi on or throw ing power, and observ ing the effects of pH, temperature and decompositi on products. A clear Lucite Hull Cell en ables the operator to observe the plati ng on the back of the test panel to determine relative covering power at very low current den sities.赫尔槽(美国专利# 2149344 )是一种被设计用来在一定电流密度范围内产生电镀层的小型测试槽。

亮镍赫尔槽实验要求

亮镍赫尔槽实验要求赫尔槽试验属于一种"经验性"的试验，生产现场常用来快速解决镀液所发生的问题。

霍尔槽试验只需要少量镀液，经过短时间试验便能得到在较宽的电流密度范围内镀液的电镀效果。

由于该试验对镀液组成及操作条件作用敏感，因此，常用来确定镀液各组分的浓度以及pH值，确定获得良好镀层的电流密度范围，同时也常用于镀液的故障分析。

因此，霍尔槽已成为电镀研究、电镀工艺控制不可缺少的工具。

赫尔槽的试验装置及实验方法:试验装置:试验方法a、溶液的选择为了获得正确的试验结果，选择的溶液必须具有代表性。

重复试验时，每次试验所取溶液的体积应相同。

当使用不溶阳极时，溶液经1~2次电镀后应更换新液。

如采用可溶性阳极则最多试验4~5次后更换新液。

在测微量杂质或添加剂的影响时，每槽试验次数应酌情减少。

b、阴阳极材料的选择阴阳极材料通常是平面型薄板，阳极厚度不超过5MM，阴极厚度为0.2~1MM，阳极材料应与生产中使用的阳极相同。

c、电流大小霍尔槽电流大小通常在0.5~2A范围内。

d、试验时间及温度一般在5~10分钟，试验温度应与生产相同。

试验原则——单因素改变原则即每次试验只能改变一个因素。

至于对某一个故障现象，应先改变哪一个因素为好，则应有一定的理论基础及相当的实践经验，才能走捷径。

——少量多次原则许多镀液组分，特别是添加剂,都有一个最佳含量值，过多过少效果都不好。

——由差变好的原则已对光亮性电镀，若改变某一个因素，光亮范围由窄变宽，说明这一改变是正确的；若改变该因素后，对加宽光亮范围无贡献，甚至反而变窄，说明这一改变是错误的，应重新取液，改变其它因素再试。

对有故障的镀液，若改变某一因素，故障好转甚至消除，说明这一改变是正确的。

若镀层状况改善特别明显，则很可能是主要因素。

试验设施及规范——单因素改变原则即每次试验只能改变一个因素。

至于对某一个故障现象，应先改变哪一个因素为好，则应有一定的理论基础及相当的实践经验，才能走捷径。

霍尔槽镍实验报告

霍尔槽镍实验报告引言霍尔槽是一种常用于测量材料电导率与霍尔电压的实验仪器，通过应用磁场使电流在导体中偏转，从而产生霍尔电压。

镍是一种常见的金属材料，具有良好的导电性能和磁性。

本实验旨在通过搭建霍尔槽实验装置，测量镍材料的电导率，并研究霍尔电压与外加磁场、电流等因素之间的关系。

实验目的1. 测量镍材料的电导率。

2. 研究霍尔电压与外加磁场、电流之间的关系。

实验仪器与原理实验仪器主要包括霍尔槽装置、恒流源、电压表、磁场调节器等。

霍尔槽装置由实验槽、磁铁、电流源、电压计等组成。

实验槽由导电材料制成，宽度较窄，槽中夹有一块样品材料（镍）。

在槽沿宽度方向，施加恒定的电流I0，通过电流源控制。

磁铁用于在槽的两侧产生垂直于电流方向的磁场B。

通过变压器调节电压UH，测量样品上的霍尔电压UH。

根据霍尔效应原理，导电材料中的电子在外加磁场的作用下会偏转，从而在材料两侧产生霍尔电势差（霍尔电压）。

霍尔电压与导电材料的电导率、电流、磁场之间存在一定的关系。

实验步骤1. 搭建实验装置，将镍样品夹在霍尔槽中。

2. 分别调整磁场强度和电流大小，通过变压器分别调节电压UH和恒流源调节电流I0。

3. 保持磁场强度不变，改变电流大小，记录相应的UH、I0值。

4. 将电流恢复到初始值，改变磁场强度，记录相应的UH、B值。

5. 分析实验数据，计算电导率并绘制UH与I0、B的关系图。

实验结果与分析通过实验测量得到的数据，我们计算了镍样品的电导率，并利用Excel绘制了UH与I0、B之间的关系图（见附图1）。

根据图形的趋势，我们可以得到以下结论：1. 随着电流的增大，霍尔电压也随之增大，呈线性关系。

2. 随着磁场强度的增大，霍尔电压也随之增大，呈线性关系。

3. 镍样品的电导率可以通过实验数据计算得出。

实验结论通过本实验的数据分析，我们得出以下结论：1. 霍尔电压与电流呈线性关系，随电流的增大而增大。

2. 霍尔电压与磁场强度呈线性关系，随磁场强度的增大而增大。

-》镀铬液的赫尔槽试验及相关生产问题

镀铬液的赫尔槽试验及相关生产闯题２０７镀铬液的赫尔槽试验及相关生产问题袁诗璞成都表面处理研究会［摘要］镀铬液的调整，也应采用赫尔槽试验。

通过对硫铬比和三侨铬的认真调整，能从不含添加剂的普通镀铬液获得宽的光亮电流密度范围；在经恰当活化处理的亮镍层上能实现低温套铬，节能效果显著。

［关键词】硫铬比；三价铬；活化ｌ镀铬工艺的进展及其问题镀铬是镀液成分最简单的镀种，也是最难掌握好的镀种。

其原因众所周知：镀液分散能力，深镀能力特别差，阴极电流效率特别低，所用电流密度特别大，且硫铬比、液温、允许电流密度等具有复杂的交互影响。

因而对镀铬的工装夹具要求高，对工艺管理和生产操作人员的技术水平要求也高。

多年来，人们为了提高普通镀铬的工艺性能作了不懈的探索与改进，也取得了一定的成效。

在镀铬上的较大突破有：第一、在镀铬液中加入稀土添加剂，相对而言，提高了电流效率，降低了装饰镀铬的电流密度、液温和镀液浓度。

第二、加入有机添加剂实现了快速镀硬铬并可获得抗蚀性较好的微裂纹铬。

第三、采用合金镀来代铬，其色泽酷似铬层。

第四、为了彻底解决六价铬毒性高的问题，实现了多种三价铬镀铬工艺，有的已投人工业生产。

笔者长期在生产第一线从事电镀工艺工作，深知大生产远比实验室复杂，养成了眼见为实，耳听为虚的习惯，能够比较客观地评价一个工艺或助剂的优劣。

站在客观的角度讲，笔者以为上述镀铬上的进步一是值得肯定，二是并未真正解决镀铬工艺性能差的问题。

例如：稀土镀铬要求十分严格的硫铬比，允许变化的范围太窄，否则镀铬层或者起兰膜或者又起黄膜，或者深镀能力还不如普通镀铬，没有准确的分析化验，凭感觉是调不好镀液的。

其对三价铬及铁、镍、铜等阳离子杂质的允许量很低，一旦杂质增多，其优越性则不再显现出来。

加上我国现场工艺管理人员普遍水平不怎么样，青黄不及、后继乏人，而从事电镀工艺操作的多数是大字不识几个又未经正式职工培训、流动性很大的农民工，因此真正能用好稀土镀铬的单位为数甚少，有不少因为掌握不好叉恢复了老工艺或应付着干活。

赫尔槽试验简介

测定。对光镍的低区光亮性不足现象，（PH过低、
硼酸过少、CI— 过少、低区走位剂过少）首先应测
定镀液PH值，若过低，低JK区效果一定差，且光亮
剂用量大增（吸附效果变差），应先调高PH值。再
❖ 趋优化原则
若改变某一工艺条件或补加某一组分，试片与原液相比，结晶细致光亮范围加宽或某一故障好转，则这一改变是正确的，应继续改变该因素找出最佳值。相反，若改变某一因素后镀层还不如原液状况好，则说明这一改变是错误的。这一原则对开发新工艺、新添加剂尤显重要。
3）背面绝缘因每次试片夹持紧贴槽壁程度不一样（特别是试片薄而不
平整时），背面消耗的电流不一样，正面的电流就会不一样，结果重现性差。简单办法是对干燥试片背面贴透明胶带，宽度应够，应无气泡。特别是对于电流强度较小的试验，一定要做背面绝缘。比如在判断镀液的深镀能力的时候。
样液
所取样液应具有代表性。镀液必须事先经过充分混合才能取样；当混合有困难时，需要用移液管在渡槽不同部位吸取样液。每次试验所取样液的体积应相同。换液。因试验所用镀液只有250ml，各组分消耗快。当使用不溶性阳极时, 镀液经试验1~2次后, 即行调换新液。在可溶性阳极的场合下, 一般每批试验3~4次,在试验微量杂质或添加剂的影响时, 每批镀液试验的次数应该少一些。
DF=63.5mm
赫尔槽试验的电路
• 为了保证试验时电流的稳定，要采用低频直流电源。 • 电流表、电阻：监控和调节试验电流强度 • 电压表：了解溶液的导电性或电极极化（特别是阳极）的情况。
赫尔槽阴极试片上的电流分布
从赫尔槽的结构上可以看出，阴极试片上各部位与阳极的距离是不等的，所以阴极上各部位的电流密度也各不相同。离阳极距离最近的一端（近端），它的电流密度最大。随着阴极部位与阳极的距离逐渐增大，电流密度逐渐减小，直至离阳极最远的一端（远端）电流密度最小。

赫尔槽测试

3块
• 待测体系（镀液）详看课本39页
赫尔槽
可以反映如下情况：
A
阳极
267 ml 电镀液
阴极 100 x 75 mm
B
光亮性烧焦情况整平性延展性覆盖能力走位能力电流效率
A -高电流密度 B -低电流密度.
阳极试片
• 阳极种类很多，尽量采用和生产上一致的阳极 •标准尺寸为宽63 mm、长65～68 rnm。不允许过窄，否则安放时或左或右，试验重现性差；也不允许有缺角现象，用残了就应更新。厚度不宜大于5mm，否则液位上升过多，导致试验结果不准
阴极试片
•标准尺寸为长l00 mm、宽65～68 rnm、厚0．3 ～ 0．5 mm。过长，放不下，贴不紧：过短，或左或右，试验重现性差且电流密度分布不正常。最好用剪床料，规矩、平整
实验步骤
1）前处理（打磨和化学除油等） 2）接线路。 3）分别加入250ml镀液①、②、③、⑥、⑦，的室温下，用1A 电流电镀10min，取出试片，用水清洗，热风吹干，记录并对比。 4）插入赫尔槽，分别加入250ml镀液③、④、⑤，在对应每格镀层电路中串联电流表。在室温下，用1A电流电镀5min，取出试片，用水清洗，热风吹干，分别测量每格对应电流，将结果填入记录表中。 5）将步骤4）电镀后的镀液⑦倒入烧杯，加入锌粉2g搅拌10min，静置5min后过滤，滤液倒入赫尔槽内，取新的阴极试片，在室温下，用1A电流电镀5min，取出试片，用水清洗，热风吹干，将结果填入记录表中并对比。
在固定外加总电流I时，阴极上的电流密度分布也发生有规律的变化：即赫尔槽斜置阴极上各点的电流密度值与该点距阳极的距离成对数关系： J=I(5.1—5.24lgL) (1) 其中： J——阴极上某位置的电流密度( dm )； I——选用的电流强度，即试验用电流(A)； L——阴极试片上该位置距近端的距离(em)。

赫尔槽试验方法

2.2开始操作
(1) 槽液取样
（操作顺序）
从电镀产线上取待检测镀液约300ml
(2)试验设备安装
①将试验整流器电源线与赫尔槽阴阳极对应接好； ②将赫尔槽加温装置和搅拌充气装置连接好。
(3)槽液升温、调整PH
①将待测槽液倒入赫尔槽中约250ml且目视与250ml刻度线水平，开启加热装置，将槽液温度升温到工艺参数范围内。 ②调节PH 用PH计或精密PH试纸检测镀液PH，若PH不合格用10%稀硫酸或氢氧化钠溶液将槽液PH调整至工艺参数范围内。
——
4、赫尔槽常见故障处理
常见赫尔槽试验样片故障处理方法
The end Thanks!
2.解析了赫尔槽术语
实际为梯形电镀槽
3.阐明了赫尔槽试验的方法原理
利用阴极各部位与阳极的距离不同，相应电流密度也不同的原理测试镀液的性能及影响镀层质量的因素。
4 .具体说明了赫尔槽试验装置、仪器及设备
如左图 1
①赫尔槽的基本结构及内部尺寸
● 250ml:48X64X102X127X65 ● 1000ml:120X85X127X212X85
(5)开始试验
①将阳极板放入赫尔槽的阳极用电源阳极鳄鱼夹夹稳，阴极试片放入赫尔槽阴极区域，并用用电源阴极鳄鱼夹夹稳，注意正负极连接正确； ②试验参数设置完毕后并检查确认，确认镀镍时开启空气搅拌，镀铬不开启空气搅拌，镀镍PH符合工艺参数； ③开启电源，开始赫尔槽试验。
(6)试验对比及调整
①试验时间结束，取出试片，用清洗水冲洗干净并用电吹风吹干，然后观察试片外观，检查试片性能判定镀液情况，选择需要调整的项目，对样液进行调整后再次进行试验。主要调整的内容有：镀液添加剂的含量、镀液光亮剂的含量、检测或模拟镀液金属/有机物杂质污染、镀槽最佳电流密度，具体调整通过试验结果对比，对生产线镀槽槽液调整提供依据。 ② 试验样液使用次数规定：赫尔槽试验液的试验次数不能太多，一般是1-3次，以避免槽液成分变化过大，影响试验结果。

赫尔槽实验20101027

赫尔槽实验赫尔槽是一种简单而又快速的小型电镀试验槽。

最初应用是在一九三五年，到一九三九年已经定型。

它有特殊的形状和固定的尺寸，槽子的容积到目前为止，已有267毫升、534毫升和1000毫升的三种。

国内常用的是在267毫升的槽子中，装入250毫升镀液，因为250毫升等于1/4升，这对计算每升镀液中所含物质的量比较方便。

由于赫尔槽试验的效果好、速度快、操作简便、耗用镀液的体积少，所以很受电镀工作者欢迎，已在电镀工艺的小型试验中获得了广泛的应用。

这里，我们简单介绍以下几方面的内容。

1．赫尔槽结构赫尔槽示意图不同容积的赫尔槽，它的尺寸也不同。

赫尔槽的材料，一般用有机玻璃，以氯仿为粘合剂制成。

也有用硬塑料、硬橡皮和金属材料等制成。

若用金属材料做赫尔槽，则必须注意槽子里面的绝缘。

赫尔槽阴极是长方形的平面薄片，其尺寸为102 x 63毫米，厚度可在0.25-1.0毫米之间。

材料一般用铁片(包括镀锌铁片)，也有用铜片或黄铜片等。

材料的表面状况最好一样，以利于对比。

赫尔槽阳极尺寸为63 x 63毫米，其材料一般与生产中使用的阳极一样。

阳极形状一般为平面薄片，对于一些易于钝化的阳，可制成瓦楞形或网状2．赫尔槽阴极上的电流分布从赫尔槽中阴极和阳极布置的位置，就可以看出阴极上各个部位与阳极的距离是不等的，显然阴极各部位上的电流密度也是不一样的。

远离阳极的一端(称远端)，它与阳极的距离最远，电流密度最小，随着阴极与阳极的距离逐步靠近，它的电流密度就逐步增大，直至离阳极最近的一端(称近端)，它的电流密度最大。

赫尔槽阴极上的电流分布，最初是用实验的方法测定酸性硫酸镀铜溶液中所获得镀层的金属分布。

实验前，先把阴极划分成几个等距离的部位，然后进行电镀，电镀后测定各部位的金属分布。

因为酸性硫酸镀铜的电流效率几乎是100%，所以金属分布就等于它的电流密度的分布。

从对酸性硫酸镀铜溶液进行的实验，得到了赫尔槽阴极表面上电流分布的一系列数据，后来试验者又做了电流效率接近100%的酸性镀镍和其他镀液的实验，发现测出的数据都比较接近。

霍尔槽试验原理及实践

密度的分布可用下式计算：
ＪＩ５１．４ｌＬＫ＝（． —５２）ｇ
精密ｐＨ试纸测定ｐＨ值，若过低，Ｊ低区效果肯定
差，光亮剂用量大增（附效果变差）应先调高且吸，
式中：阴极上某位置的电流密度，／ｍ；Ｊ一Ａｄ｜＿用的电流强度，＿选即试验用电流，Ａ；Ｌ阴极试片上该位置距近端的距离，ｍ。一ｅ此式仅适于Ｌ为１ｍ一９ｍ范围内使用，ｅｅＬ＜１ｍ或大于９ｍ则不适用了。ｅｅ
改良霍尔槽则是在Ａ、Ｄ所在面上钻孑，ＢＣＬ放人大的液位合适的容器中使用，但用得少。２２霍尔槽阴极试片上电流密度的分布．在图１试验时Ａ中，Ｄ边放阳极、Ｃ边放阴极Ｂ试片。试片Ｂ端距阳极最近，液电阻最小，镀因而
能力等的影响，只能作为新工艺、新助剂等研发的第二阶段试验用；第二，烧杯内试验。小烧杯试验
整体注塑成形的霍尔槽尺寸比较准确，自制用
有机玻璃粘接或用塑料板焊接的，的尺寸不很有
准确。
试验可供选择的方法有多种：一，小型镀第在
槽中利用小型工件作小试。但用液量较大，阴阳且极距离近，不能真实反映大生产的几何因素对分散
ｐＨ值［最好加一水碳酸钠干粉，搅拌至Ｎ（Ｈ）ｉＯ溶
完］。试一下行了，就不必补加光亮剂。当亮镍液

赫尔槽试验作业指导书(含试验结果记录方法)

1、目的对赫尔槽试验的操作方法进行说明，通过赫尔槽试验来对电镀槽液进行分析和管理。

2、适用范围公司镀铜、镀镍、镀铬、镀锌槽液，用赫尔槽试验还可帮助确定镀液中某些成分的最佳含量、选择适宜的电镀工艺条件、确定镀液中添加剂和杂质的含量，以及帮助分析故障原因、预测电镀故障和测定镀液的分散能力、覆盖能力及整平能力等。

3、试验准备3.1仪器设备：赫尔槽（250ml、267ml），材料一般为有机玻璃或硬聚氯乙烯板。

电源，12V直流电源。

阳极板（63*70mm、厚度3-5mm），材料参照表1。

阴极试片（100*65mm，厚度0.25-1mm），材料参照表1。

试片表面必须平整，前处理与现场条件一致。

镀锌赫尔槽试片可用320#或400#水磨砂纸沙平，砂磨时用力要均匀，砂纹要平直，经水砂纸打磨的试片，必须用水冲洗，除去固体颗粒，并用酸活化，以防止不正常现象的出现。

需进行分析的镀液：若干。

一般根据要进行的试验次数取相应体积的镀液，每次试验需250ml。

取样应有代表性，样品应充分混合，若混合有困难时，可用移液管在溶液的不同部位取样，每次所取溶液体积应相同。

3.2试验条件温度、搅拌等情况，应与现场条件一致。

表1赫尔槽试验条件4试验规范4.1倒入样液将250ml样液小心倒入267ml赫尔槽中。

若生产时需要在较高的温度下进行，因有机玻璃赫尔槽难以加热，可先将镀液在镀前放入其他容器中加热至高于生产操作时的温度（一般高于生产操作温度2-5℃），然后将镀液倒入试验的赫尔槽中，待温度冷至高于操作温度0.5℃左右开始试验。

如需要，插上气泵使样液搅拌均匀。

4.2阳极安装取与样液相应的阳极板清洗干净，紧贴赫尔槽的梯形直角边，并用阳极（“+”极，红色）导电鳄鱼夹夹紧。

注意夹子表面洁净、无油污或锈蚀，且夹子不能接触到液面。

4.3阴极试片安装将清洗干净的试片紧贴阳极对面的斜边，并用阴极（“-”极，黑色）导电鳄鱼夹夹紧。

注意夹子表面洁净、无油污或锈蚀，且夹子不能接触到液面。

赫尔槽实验报告

赫尔槽实验图图1 镀液3 ik-lgl 图2镀液4 ik-lgl篇二：赫尔槽试验霍尔槽（哈式槽）试验及结果解读广东科斯琳电镀实验设备关键词：霍尔槽,电镀一.霍尔槽是一种试验效果好，操作简单、所需溶液体积小的小型电镀试验槽。

它可以较好的确定获得外观合格镀层的电流密度范围及其它工艺条件。

生产现场常用来快速解决镀液所发生的问题。

二.小型霍尔槽结构下面是工厂电镀制程控制常用的霍尔槽基本结构(市面上可以购买到带加热、通入压缩空搅拌孔等设计精良的成品) 霍尔槽结构示意图三.霍尔槽的试验装置及实验方法1.试验装置:2.试验方法a.溶液的选择为了获得正确的试验结果，选择的溶液必须具有代表性。

重复试验时，每次试验所取溶液的体积应相同。

当使用不溶阳极时，溶液经1~2次电镀后应更换新液。

如采用可溶性阳极则最多试验4~5次后更换新液。

在测微量杂质或添加剂的影响时，每槽试验次数应酌情减少。

b.阴阳极材料的选择阴阳极材料通常是平面型薄板，阳极厚度不超过5mm，阴极厚度为0.2~1mm，阳极材料应与生产中使用的阳极相同。

c.电流大小霍尔槽电流大小通常在0.5~2a范围内。

d.试验时间及温度一般在5~10分钟，试验温度应与生产相同。

四.霍尔试片判定(以镀锡为例)1.背面背面看片原则:先看背面的异常现象,再判定可能造成的原因.a.先从hullcell片背面中间剖开,再看高电流密度区(添加剂)与低电流密度区(开缸剂)有没有失去平衡:(例如往高电流密度区缩小是添加剂不足,往低电流密度区缩小是开缸剂不够).b.看三层云分布:正常hullcell片背后会出现三层云(即亮层/浓雾层/淡雾层)如下示意图. hullcell片背面区域c.如果为全浓雾或无亮,判定是添加剂或补充剂不够,酸不足,建浴剂不足.d.如果都是淡淡的薄雾浓雾少,且将要收缩,可能是添加剂或酸过量.e.有出现三层云,向中间凹进去的话,主要原因有主盐不够或沉积速率不够.沉积速率不够可能原因为(添加剂过量或不足b;酸不足)。

水槽实验报告

控制系统设计与仿真课程设计报告学院电气与自动化工程学院班级 08级自动化3班姓名李蔚琛学号 3008203270设计一被控对象的实验建模一、实验要求1、了解水槽控制系统的结构及组成；2、掌握响应曲线法建立数学模型；3、熟悉Honeywell数字调节器的用法及调试；4、对整个水槽控制系统有一个整体了解；5、单回路控制系统的最佳参数的计算方法。

二、设计步骤1、设计控制系统接线图；并联好线。

2、给仪器上电，并且打开水泵，同时缓慢打开管道上的阀门。

3、把调节器调至手动状态，调节输出使其固定在一个定值。

4、当液位稳定后，打开记录仪开始记录，然后突然改变调节器的输出，使调节阀的开度突然增加或减少。

5、用记录仪记录下液位的变化情况，直到液位稳定。

6、用响应曲线法计算出一阶水槽的数学模型；7、根据表1-1计算出单回路控制系统的最优参数。

三、用响应曲线法进行数学建模方法简介响应曲线法主要用于测取阶跃响应曲线和矩形脉冲响应曲线。

其中，阶跃响应曲线法应用比较广泛，下面介绍阶跃响应曲线法的具体做法。

在系统开环并处于稳定的情况下，瞬时改变控制器的手动输出，使其输出产生阶跃变化Δp，并同时记录下被控变量y随时间变化的曲线。

如果广义对象是二阶以上的其响应曲线应如图1所示：从响应曲线的拐点A 作一切线，分别交时间轴于B 点以及最终稳态值水平线于C 点，在过C 点引垂线交时间轴于D 。

这样，广义对象的特性就可以用一个具有纯滞后时间τ、时间常数T 0 的一阶惯性环节来近似。

τ为干扰起始点至B 点的距离，T 0 为BD 之间的距离。

τ和T 0 的单位都是分或秒。

这里还需要计算一个无量纲化的放大系数K 0 ：（1-1）因此，通过由图直接读出τ、T 0、,,再由公式（1-1）求出K 0 ，最后得出传递函数：G (S) = [ K 0 / (T 0S+1) ] e -τs （1-2）阶跃响应曲线能较直观的、完全描述被控过程的动态特性。

实验测试方法易于实现，只要使阀门的开度作一个阶跃变化即可。