集成电路制造技术原理与技术试题库样本
集成电路技术集成电路工艺原理试卷(练习题库)(2023版)
集成电路技术集成电路工艺原理试卷（练习题库）1、用来做芯片的高纯硅被称为（），英文简称（），有时也被称为（）。
2、单晶硅生长常用（）和（）两种生长方式，生长后的单晶硅被称为（）。
3、晶圆的英文是（），其常用的材料是（）和（）。
4、晶圆制备的九个工艺步骤分别是（）、整型、（）、磨片倒角、刻蚀、（）、清洗、检查和包装。
5、从半导体制造来讲，晶圆中用的最广的晶体平面的密勒符号是（）、O 和（）。
6、CZ直拉法生长单晶硅是把（）变为（）并且（）的固体硅锭。
7、CZ直拉法的目的是（）。
8、影响CZ直拉法的两个主要参数是O和（）。
9、晶圆制备中的整型处理包括（）、（）和（）。
10、制备半导体级硅的过程：1、（）；2、（）；3、O011、热氧化工艺的基本传输到芯片的不同部分。
77、多层金属化指用来连接硅片上高密度堆积器件的那些金属层。
78、阻挡层金属是淀积金属或金属塞，其作用是增加上下层材料的附着。
79、关键层是指那些线条宽度被刻蚀为器件特征尺寸的金属层。
80、传统互连金属线的材料是铝，即将取代它的金属材料是铜。
81、溅射是个化学过程，而非物理过程。
82、表面起伏的硅片进行平坦化处理，主要采用将低处填平的方法。
83、化学机械平坦化，简称CMP,它是一种表面全局平坦化技术。
84、平滑是一种平坦化类型，它只能使台阶角度圆滑和侧壁倾斜，但高度没有显著变化。
85、反刻是一种传统的平坦化技术，它能够实现全局平坦化。
86、电机电流终点检测不适合用作层间介质的化学机械平坦化。
87、在CMP为零的转换器。
133、CD是指硅片上的最小特征尺寸。
134、集成电路制造就是在硅片上执行一系列复杂的化学或者物理操作。
简而言之，这些操作可以分为四大基本类：薄膜135、人员持续不断地进出净化间，是净化间沾污的最大来源。
136、硅片制造厂可分为六个的区域，各个区域的照明都采用同一种光源以达到标准化。
137、世界上第一块集成电路是用硅半导体材料作为衬底制造的。
集成电路制造技术-原理与技术试题库
填空题（30分=1分*30）(只是答案) 半导体级硅 、 GSG 、 电子级硅 。
CZ 法 、 区熔法、 硅锭 、wafer 、硅 、锗、单晶生长、整型、切片、磨片倒角、刻蚀、（抛光）、清洗、检查和包装。
100 、110 和111 。
融化了的半导体级硅液体、有正确晶向的、被掺杂成p 型或n 型、 实现均匀掺杂的同时并且复制仔晶的结构，得到合适的硅锭直径并且限制杂质引入到硅中 、拉伸速率 、晶体旋转速率 。
去掉两端、径向研磨、硅片定位边和定位槽。
制备工业硅、生长硅单晶、 提纯）。
卧式炉 、立式炉 、快速热处理炉 。
干氧氧化、湿氧氧化、水汽氧化。
工艺腔、硅片传输系统、气体分配系统、尾气系统、温控系统。
局部氧化LOCOS 、浅槽隔离STI 。
掺杂阻挡、表面钝化、场氧化层和金属层间介质。
热生长 、淀积 、薄膜 。
石英工艺腔、加热器、石英舟。
APCVD 常压化学气相淀积、LPCVD 低压化学气相淀积、PECVD 等离子体增强化学气相淀积。
晶核形成、聚焦成束 、汇聚成膜。
同质外延、异质外延。
膜应力、电短路、诱生电荷。
导电率、高黏附性、淀积 、平坦化、可靠性、抗腐蚀性、应力等。
CMP 设备 、电机电流终点检测、光学终点检测。
平滑、部分平坦化、局部平坦化、全局平坦化。
磨料、压力。
使硅片表面和石英掩膜版对准并聚焦，包括图形）；（通过对光刻胶曝光，把高分辨率的投影掩膜版上图形复制到硅片上）；（在单位时间内生产出足够多的符合产品质量规格的硅片）。
化学作用、物理作用、化学作用与物理作用混合。
介质、金属 。
在涂胶的硅片上正确地复制掩膜图形。
被刻蚀图形的侧壁形状、各向同性、各向异性。
气相、液相、 固相扩散。
间隙式扩散机制、替代式扩散机制、激活杂质后。
一种物质在另一种物质中的运动、一种材料的浓度必须高于另一种材料的浓度 ）和（ 系统内必须有足够的能量使高浓度的材料进入或通过另一种材料。
热扩散 、离子注入。
预淀积 、推进、激活。
集成电路制造考核试卷
B. 大电流
C. 高效率
D. 小尺寸
( )
18. 以下哪些是集成电路测试的主要方法？
A. 功能测试
B. 参数测试
C. 热测试
D. 机械测试ຫໍສະໝຸດ ( )19. 以下哪些应用领域对集成电路的功耗要求较高？
A. 移动通信
B. 服务器
C. 智能家居
D. 可穿戴设备
( )
20. 以下哪些技术可用于提高集成电路的频率性能？
2. 在CMOS技术中，P型MOSFET和N型MOSFET的尺寸应该是相同的。（ ）
3. 集成电路的封装类型不会影响其性能。（ ）
4. 介电常数越高的材料，其电容值越小。（ ）
5. 在集成电路设计中，信号的频率越高，对电路的热性能影响越大。（ ）
6. 散热设计是提高集成电路可靠性的重要因素之一。（ ）
B. 铜Cu
C. 铝Al
D. 钨W
( )
2. 在集成电路制造过程中，光刻技术的主要作用是什么？
A. 去除多余杂质
B. 形成电路图案
C. 进行蚀刻
D. 提高电子迁移率
( )
3. 以下哪个不属于集成电路的制造工艺？
A. 光刻
B.蚀刻
C. 射频
D. 化学气相沉积
( )
4. CMOS技术中，P型MOSFET与N型MOSFET的比例通常为：
A. 驱动能力
B. 传输速率
C. 功耗
D. 所有上述选项
( )
8. 以下哪种技术常用于减少集成电路中的电源噪声？
A. 电源去耦
B. 射频干扰抑制
C. 差分信号传输
D. 所有上述选项
( )
9. 在集成电路设计中，以下哪个因素对信号完整性影响最大？
数字集成电路测试题
A 衬底 B 扩散区 C 有源区 D 接触孔和通孔
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提交
Inverter
单选题 1分 最符合阈值电压定义的说法是 。
A 漏端电流为1μA时的栅源电压
B 漏端电流10倍于泄露电流时的栅源电压
衬底载流子浓度和有源区载流子浓度相 C 等时的栅源电压
芯片中的金属线和PCB中的金属线一样， A 可以是多层的。
B
CMOS集成电路是在一块正方形的硅片 上制造的。
光刻机的作用是通过激光在硅片上刻画 C 集成电路版图。
光刻胶的作用是将集成电路所需的不同 D 材料层胶合在一起。
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提交
Inverter
D MOgrated Circuits2nd
提交
Inverter
单选题 1分 电路互连线上的延时td 与长度L的关系是 。
A
td L
B
td L2
C
td L3/2
D
td L3
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数字集成电路 ch1-ch4习题集
Jan M. Rabaey Anantha Chandrakasan Borivoje Nikolic
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Inverter
单选题 1分
在集成电路0.25μm工艺中，晶体管的最小沟 道长度由 决定。
A 光刻精度 B 消费者和代工厂 C 电路工程师 D 电源电压
C 无穷大的“断开”电阻和有限的“导通”电阻。
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集成电路设计原理考核试卷
4.描述模拟集成电路与数字集成电路在设计原则和实现技术上的主要区别，并给出一个实际应用中模拟集成电路的例子。
标准答案
一、单项选择题
1. B
2. B
3. D
4. D
5. B
6. D
7. C
8. C
9. B
10. D
17.在集成电路设计中，以下哪些方法可以提高电路的抗干扰能力？( )
A.采用差分信号传输
B.使用屏蔽技术
C.增加电源滤波器
D.提高工作频率
18.以下哪些类型的触发器在数字电路中常见？( )
A. D触发器
B. JK触发器
C. T触发器
D. SR触发器
19.以下哪些技术可以用于提高集成电路的数据处理速度？( )
3.以下哪些是数字集成电路的基本组成部分？( )
A.逻辑门
B.触发器
C.寄生电容
D.晶体管
4.以下哪些技术可以用于提高集成电路的频率？( )
A.减小晶体管尺寸
B.采用高介电常数材料
C.增加电源电压
D.优化互连线设计
5.在CMOS工艺中，以下哪些结构可以用来实现反相器？( )
A. PMOS晶体管
B. NMOS晶体管
11. C
12A
16. B
17. A
18. A
19. C
20. B
二、多选题
1. ABD
2. AB
3. AD
4. AB
5. AB
6. AB
7. ABCD
8. AB
9. ABCD
10. AC
11. ABC
《集成电路工艺原理(芯片制造)》课程+试题库
一、填空题（30分=1分*30）10题/章晶圆制备1．用来做芯片的高纯硅被称为（半导体级硅），英文简称（GSG ），有时也被称为（电子级硅）。
2．单晶硅生长常用（CZ法）和（区熔法）两种生长方式，生长后的单晶硅被称为（硅锭）。
3．晶圆的英文是（wafer ），其常用的材料是（硅）和（锗）。
4．晶圆制备的九个工艺步骤分别是（单晶生长）、整型、（切片）、磨片倒角、刻蚀、（抛光）、清洗、检查和包装。
5．从半导体制造来讲，晶圆中用的最广的晶体平面的密勒符号是（100 ）、（110 ）和（111 ）。
6．CZ直拉法生长单晶硅是把（融化了的半导体级硅液体）变为（有正确晶向的）并且（被掺杂成p型或n型）的固体硅锭。
7．CZ直拉法的目的是（实现均匀掺杂的同时并且复制仔晶的结构，得到合适的硅锭直径并且限制杂质引入到硅中）。
影响CZ直拉法的两个主要参数是（拉伸速率）和（晶体旋转速率）。
8．晶圆制备中的整型处理包括（去掉两端）、（径向研磨）和（硅片定位边和定位槽）。
9．制备半导体级硅的过程：1（制备工业硅）；2（生长硅单晶）；3（提纯）。
氧化10．二氧化硅按结构可分为（）和（）或（）。
11．热氧化工艺的基本设备有三种：（卧式炉）、（立式炉）和（快速热处理炉）。
12．根据氧化剂的不同，热氧化可分为（干氧氧化）、（湿氧氧化）和（水汽氧化）。
13．用于热工艺的立式炉的主要控制系统分为五部分：（工艺腔）、（硅片传输系统）、气体分配系统、尾气系统和（温控系统）。
14．选择性氧化常见的有（局部氧化）和（浅槽隔离），其英语缩略语分别为LOCOS和（STI ）。
15．列出热氧化物在硅片制造的4种用途：（掺杂阻挡）、（表面钝化）、场氧化层和（金属层间介质）。
16．可在高温设备中进行的五种工艺分别是（氧化）、（扩散）、（）、退火和合金。
17．硅片上的氧化物主要通过（热生长）和（淀积）的方法产生，由于硅片表面非常平整，使得产生的氧化物主要为层状结构，所以又称为（薄膜）。
1+X集成电路理论试题库(附参考答案)
1+X集成电路理论试题库（附参考答案）一、单选题（共40题，每题1分，共40分）1、若想取下蓝膜上的晶圆或晶粒，需要照射适量（），能降低蓝膜的黏着力。
A、红外线B、太阳光C、蓝色光源D、紫外线正确答案：D答案解析：对需要重新贴膜或加工结束后的晶圆，需要从蓝膜上取下，此时只需照射适量紫外线，就能瞬间降低蓝膜黏着力，轻松取下晶圆或晶粒。
2、一般情况下，待编至( )颗时，需更换卷盘，并在完成编带的卷盘上贴上小标签，便于后期识别。
A、2000B、4000C、6000D、8000正确答案：B答案解析：一般情况下，待编至4000颗左右时，需要更换卷盘，即一盘编带一般装有4000颗的芯片。
3、晶圆检测工艺中，6英寸的晶圆进行晶圆墨点烘烤时，烘烤时长一般为（）分钟。
A、20B、1C、10D、5正确答案：D4、用编带机进行编带前预留空载带的原因是( )。
A、比较美观B、防止芯片散落C、确认编带机正常运行D、节省人工检查时间正确答案：B答案解析：空余载带预留设置是为了防止卷盘上编带的两端在操作过程中可能会出现封口分离的情况，导致端口的芯片散落。
5、使用化学机械抛光进行粗抛时,抛光区域温度- 般控制在()A、38~50°CB、20~50°CC、20~30°CD、20~38°C正确答案：A答案解析：一般抛光区的温度控制在38~50°C (粗抛)和20~30°C (精抛)。
6、用比色法进行氧化层厚度的检测时，看到的色彩是（）色彩。
A、反射B、干涉C、衍射D、二氧化硅膜本身的正确答案：B答案解析：硅片表面生成的二氧化硅本身是无色透明的膜，当有白光照射时，二氧化硅表面与硅-二氧化硅界面的反射光相干涉生成干涉色彩。
不同的氧化层厚度的干涉色彩不同，因此可以利用干涉色彩来估计氧化层的厚度。
7、芯片检测工艺中，进行管装包装时，将真空包装的编带盘放入内盒、合上盖子后，需要在内盒的封口边（）处贴上“合格”标签。
1+X集成电路理论试题库(附答案)
1+X集成电路理论试题库（附答案）一、单选题（共40题，每题1分，共40分）1、进行料盘包装时，一个内盒中通常装有( )袋真空包装完的料盘。
A、1B、2C、3D、4正确答案：A答案解析：进行料盘包装时，-个内盒中通常装有1袋真空包装完的料盘。
2、使用转塔式分选设备进行芯片测试时，其测试环节的流程正确的是（）。
A、测前光检→测后光检→测试→芯片分选B、芯片分选→测前光检→测后光检→测试C、测前光检→测试→测后光检→芯片分选D、测前光检→测后光检→芯片分选→测试正确答案：C3、点银浆时，银浆的覆盖范围需要（）。
A、小于50%B、大于50%C、大于75%D、不小于90%正确答案：C答案解析：引线框架被推至点银浆指定位置后，点胶头在晶粒座预定粘着晶粒的位置点上定量的银浆（银浆覆盖范围>75%）。
4、载带的预留长度一般是( )。
A、10-30cmB、30-50cmC、70-90cmD、50-70cm正确答案：D5、下列语句的含义是（）。
A、-> OUT &= 0X00FF;B、-> OUT |= 0X0F00;C、GPIOB低八位端口，高四位为低，低四位为高D、GPIOB低八位端口，高四位为高，低四位为低E、GPIOB高八位端口，高四位为低，低四位为高F、GPIOB高八位端口，高四位为高，低四位为低正确答案：C6、下列选项中，（）是封装工艺中不涉及的工序。
A、第一道光检B、第二道光检C、第三道光检D、第四道光检正确答案：A答案解析：封装工艺中，第二道光检主要是针对晶圆切割之后的外观检查，是否有出现废品（崩边等情况）。
引线键合完成后要进行第三道光检，主要是为了检查芯片粘接和引线键合过程中有没有产生废品。
切筋成型之后需要进行第四道光检，针对后段工艺的产品进行检查、剔除。
7、解决铝尖刺的方法有（）。
A、在合金化的铝中适当地添加铜B、采用三层夹心结构C、在合金化的铝中适当地添加硅D、采用“竹节状”结构正确答案：C答案解析：解决铝尖刺的方法有在合金化的铝中适当地添加硅。
集成电路技术集成电路技术综合练习试卷(练习题库)(2023版)
集成电路技术集成电路技术综合练习试卷（练习题库）1、什么叫半导体集成电路？2、按照半导体集成电路的集成度来分，分为哪些类型，请同时写出它们对应的英文缩写。
3、按照器件类型分，半导体集成电路分为哪几类？4、按电路功能或信号类型分，半导体集成电路分为哪几类？5、什么是特征尺寸？它对集成电路工艺有何影响？6、简述四层三结的结构的双极型晶体管中隐埋层的作用。
7、在制作晶体管的时候，衬底材料电阻率的选取对器件有何影响是？8、简单叙述一下pn结隔离的NPN晶体管的光刻步骤。
9、简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤。
10、以P阱CMOS工艺为基础的BiCMOS的有哪些不足？11、以N阱CMOS工艺为基础的BiCMOS的有哪些优缺点？并请提出改进方法。
12、简述集成双极晶体管的有源寄生效应在其各工作区能否忽略？13、什么是集成双极晶体管的无源寄生效应？14、什么是MOS晶体管的有源寄生效应？15、什么是MOS晶体管的闩锁效应，其对晶体管有什么影响？16、如何解决MOS器件的场区寄生MOSFET效应？17、如何解决MOS器件中的寄生双极晶体管效应？18、双极性集成电路中最常用的电阻器和MOS集成电路中常用的电阻都有哪些？19、集成电路中常用的电容有哪些？20、为什么基区薄层电阻需要修正？21、为什么新的工艺中要用铜布线取代铝布线？22、电压传输特性23、开门电平24、关门电平25、逻辑摆幅26、静态功耗27、在四管标准与非门中，那个管子会对瞬态特性影响最大，并分析原因以及带来那些困难。
28、两管与非门有哪些缺点，四管及五管与非门的结构相对于两管与非门在那些地方做了改善，并分析改善部分是如何29、相对于五管与非门六管与非门的结构在那些部分作了改善，分析改进部分是如何工作的？30、四管与非门中，如果高电平过低，低电平过高，分析其原因，如与改善方法，请说出你的想法。
31、为什么TT1与非门不能直接并联。
32、OC门在结构上作了什么改进,它为什么不会出现TT1与非门并联的问题？33、什么是器件的亚阈值特性，对器件有什么影响？34、MOS晶体管的短沟道效应是指什么，其对晶体管有什么影响？35、请以PMOS晶体管为例解释什么是衬偏效应，并解释其对PMOS晶体管阈值电压和漏源电流的影响。
集成电路工艺原理相关试题
集成电路工艺原理相关试题一、选择题1.集成电路工艺的发展历经了以下哪几个阶段？ A. 自由扩散阶段、光刻成型阶段、微影速度阶段 B. 预扩散台阶、纳米光刻阶段、电子束曝光阶段C. 扩散二极管阶段、光刻馏分阶段、微影速度阶段 D. 电子束曝光阶段、分子束曝光阶段、纳米光刻阶段2.下列哪种是集成电路工艺中常用的掩模技术？ A. 仰视照相法 B. 紫外光刻法 C. 照相法 D. 磁控溅射法3.集成电路工艺中的光刻成像的基本过程包括哪些步骤？ A. 刻蚀、扫描、照射 B. 曝光、显影、清洗 C. 感光、曝光、显影 D. 感光、曝光、刻蚀4.下列哪种材料不适合用于集成电路的制作？ A. 硅 B. 铝 C. 铜 D. 锡5.集成电路工艺中的扩散过程是指什么？ A. 材料中杂质的扩散 B. 将电路图案转移到硅片上的象限 C. 利用高温使材料的原子迁移 D. 利用光照使光刻胶产生化学反应二、填空题1.集成电路工艺中，常用的曝光技术是将光照射在待制作电路上，通过光刻胶对光进行控制，达到光刻胶的显影，从而得到所需的图形。
2.集成电路工艺中，光刻胶的主要组成是聚合物和光敏剂。
3.集成电路中的 MOSFET 制作过程中，常用的氧化物层材料是SiO2。
4.集成电路中，扩散过程会引入适量的杂质，以改变材料的导电性能。
5.集成电路工艺中，常用的金属导线材料是铝。
三、简答题1.请简要介绍集成电路工艺中的光刻成像过程。
光刻成像是集成电路工艺中常用的掩模技术之一，其基本过程包括：–感光：在待制作电路表面涂上一层光刻胶，将器件图形的反转图案转移到光刻胶上。
–曝光：将待制作电路与光刻胶一起暴露在紫外光下，通过光刻胶中的光敏剂吸收光能而发生化学反应，使得光刻胶的物理和化学性质发生变化，在胶层上形成图形。
–显影：通过将光刻胶浸泡在显影液中，溶解未暴露于光的部分，得到所需的图形。
2.集成电路中的扩散过程是指什么？请简要描述扩散过程的基本原理。
《集成电路设计原理》试卷及答案解读
电科《集成电路原理》期末考试试卷一、填空题1.（1分） 年，第一次观测到了具有放大作用的晶体管。
2．（2分）摩尔定律是指 。
3.集成电路按工作原理来分可分为 、 、 。
4.（4分）光刻的工艺过程有底膜处理、涂胶、前烘、 、 、 、 和去胶。
5.（4分）MOSFET 可以分为 、 、 、四种基本类型。
6.（3分）影响MOSFET 阈值电压的因素有： 、 以及 。
7.（2分）在CMOS 反相器中，V in ，V out 分别作为PMOS 和NMOS 的 和 ； 作为PMOS 的源极和体端， 作为NMOS 的源极和体端。
8．（2分）CMOS 逻辑电路的功耗可以分为 和 。
9.（3分）下图的传输门阵列中5DD V V =,各管的阈值电压1T V V =，电路中各节点的初始电压为0，如果不考虑衬偏效应，则各输出节点的输出电压Y 1= V ，Y 2= V ，Y 3= V 。
10.（6分）写出下列电路输出信号的逻辑表达式：Y 1= ；Y 2= ；Y 3= 。
二、画图题：（共12分）1．（6分）画出由静态CMOS 电路实现逻辑关系Y ABD CD =+的电路图，要求使用的MOS 管最少。
2.（6分）用动态电路级联实现逻辑功能Y ABC =,画出其相应的电路图。
三、简答题：（每小题5分，共20分） 1.简单说明n 阱CMOS 的制作工艺流程，n 阱的作用是什么？2.场区氧化的作用是什么，采用LOCOS 工艺有什么缺点，更好的隔离方法是什么？3.简述静态CMOS 电路的优点。
4.简述动态电路的优点和存在的问题。
四、分析设计题：（共38分1.（12分）考虑标准0.13m μ CMOS 工艺下NMOS 管，宽长比为W/L=0.26/0.13m m μμ，栅氧厚度为 2.6ox t nm =，室温下电子迁移率2220/n cm V s μ=，阈值电压T V =0.3V,计算 1.0GS V =V 、0.3DS V =V 和0.9V 时D I 的大小。
集成电路制造工艺与原理期末答卷
1) 举例回答集成电路主要集成了哪些器件?【5分】•2) 最少给出两个集成电路选用硅半导体的理由。
【5分】•3) 在清洗过程中用到的进入冲洗池的纯净水的电阻(率)在出水口处为多大时说明硅片已经被洗净? 【5分】•4) 常见的半导体的沾污有哪些种类?【5分】•5) 说明正光刻胶和负光刻胶在曝光过程中的变化和区别。
【5分】•6) 为什么要进行曝光前和曝光后烘焙、怎样提高光刻分辨率?【10分】•7) 请详细回答，硅片在大气中会自然氧化，从洗净工艺的角度，这属于一种沾污，采用什么工艺即可洗净这种沾污而又不损坏硅?【10分】•8) 在刻蚀工艺中，由于电极附近鞘层领域的存在，电极附近只有正电荷存在，请用泊松方程解释，在一个周期内电极附近的电场方向总是指向电极。
【10分】•9) 在电极形成工艺中,用到金属Ti,请详尽说明金属Ti的特性,以及金属Ti在集成电路电极结构中的作用! 【15分】•10) 以CMOS的nMOS形成工艺为例来说明，在离子注入工艺中用了多道该工艺步骤，这些步骤有什么目的或起到什么作用。
【15分】•11) 等离子体是现代集成电路工艺中不可或缺的加工手段和材料，根据你的理解和掌握，请就等离子体在集成电路工艺中有哪些应用进行详细的阐述。
【15分】1) 举例回答集成电路主要集成了哪些器件? 【5分】答：集成电路主要集成了晶体管、二极管、电阻和电容。
2) 最少给出两个集成电路选用硅半导体的理由。
【5分】答：（1）硅存量丰富，是地球上第二丰富的元素，占到地壳成分的25%，经合理加工，能够提纯到半导体制造所需的足够高的纯度而消耗更低的成本。
（2）硅熔点高，可以承受更加高温的工艺，相当于放宽了工艺要求。
（3）硅表面会自然生成氧化硅，它是一种高质量、稳定的电绝缘材料，而且能充当优质的化学阻挡层以保护硅不受外部玷污。
生长稳定的薄层氧化硅材料的能力是制造高性能金属 - 氧化物半导体（MOS）器件的根本。
3) 在清洗过程中用到的进入冲洗池的纯净水的电阻(率)在出水口处为多大时说明硅片已经被洗净?在清洗过程中纯净水的电阻率为18MΩ时说明硅片已经被洗净。
集成电路工艺原理试题总体标准答案
目录一、填空题（每空1分，共24分）1二、判断题（每小题1.5分，共9分）1三、简答题（每小题4分，共28分）2四、计算题（每小题5分，共10分）4五、综合题（共9分）5一、填空题（每空1分，共24分）1.制作电阻分压器共需要三次光刻，分别是电阻薄膜层光刻、高层绝缘层光刻和互连金属层光刻。
2.集成电路制作工艺大体上可以分成三类，包括图形车___________3.晶体中的缺陷包括点缺陷、线缺陷、面缺陷、体缺陷等四种。
4.咼纯硅制备过程为氧化硅T粗硅T低纯四氯化硅T咼纯四氯化硅T咼纯硅。
5.直拉法单晶生长过程包括下种、收颈、放肩、等径生长、收尾等步骤。
6.提拉出合格的单晶硅棒后，还要经过切片、研磨、抛光等工序过程方可制备出符合集成电路制造要求的硅衬底片。
7.常规的硅材料抛光方式有：机械抛光，化学抛光，机械化学抛光等。
8.热氧化制备SiO2的方法可分为四种，包括干氧氧化、水蒸汽氧化、湿氧氧化、氢氧合成氧化。
9.硅平面工艺中高温氧化生成的非本征无定性二氧化硅对硼、 _ 磷、砷（As）、锑（Sb）等元素具有掩蔽作用。
10.在SiO2内和Si- SiO2界面存在有可动离子电荷、氧化层固定电荷、界面陷阱电荷、氧化层陷阱等电荷。
11.制备SiO2的方法有溅射法、真空蒸发法、阳极氧化法、热氧化法、热分解淀积法等。
12.常规平面工艺扩散工序中的恒定表面源扩散过程中，杂质在体内满足余误差函数分布。
常规平面工艺扩散工序中的有限表面源扩散过程中，杂质在体内满足高斯分布函数分布。
13.离子注入在衬底中产生的损伤主要有点缺陷、非晶区、非晶层等三种。
14.离子注入系统结构一般包括离子源、磁分析器、加速管、聚焦和扫描系统、靶室等部分。
15.真空蒸发的蒸发源有电阻加热源、电子束加热源、激光加热源、高频感应加热蒸发源等。
16.真空蒸发设备由三大部分组成，分别是真空系统、蒸发系统、基板及加热系统。
—仃.自持放电的形式有辉________18.离子对物体表面轰击时可能发生的物理过程有反射、产生二次电子、溅射、注入。
1+X集成电路理论知识复习题库含答案
1+X集成电路理论知识复习题库含答案1、组装电子产品有很高的技术要求，包括严格的安装顺序如（）。
A、先低后高B、先易后难C、先重后轻D、先一般元器件后特殊元器件答案：ABD2、电镀工序中在进行清洗后会进行干燥处理，一般采用（）或（）的方式。
A、悬挂晾干B、气泵吹干C、挤压速干D、高速甩干答案：BD略3、在集成电路制造工艺中，测量二氧化硅膜厚度的方法有（）。
A、比色法B、光干涉法C、椭圆偏振法D、四探针法答案：ABC4、运放组件的整体布局的一般按照以下顺序（）。
A、按照具体电路的对称性要求以及电路结构，将电路中的具体晶体管按照电路中的相对位置对称排布B、按照具体电路设计的文件，确定每个支路通过的最大工作电流C、按照每个支路的最大工作电流对应的导线宽度增加一定的裕量，确保电路的性能D、根据具体电路的要求，确定电路中的输入输出引线，确定其与电源和地在整体布局中的位置答案：ABCD5、切割机显示区可以进行（）、（）等操作。
A、给其他操作人员发送消息B、设置参数C、切割道对位D、操作过程中做笔记答案：BC略6、电镀的主要目的是增强暴露在塑封体外面的引线的（）和（）。
A、防水性B、抗氧化性C、抗腐蚀性D、耐高温能力E、美观性答案：BC略7、属于湿法刻蚀的优点的是（）。
A、各向同性B、各向异性C、提高刻蚀的选择比D、不产生衬底损伤答案：CD湿法刻蚀可以控制刻蚀液的化学成分，使得刻蚀液对特定薄膜材料的刻蚀速率远大于其他材料的刻蚀速率，从而提高刻蚀的选择比，同时也不产生衬底损伤。
湿法刻蚀的效果是各向同性的，这导致刻蚀后的线宽难以控制，是湿法刻蚀的缺点。
8、防静电铝箔袋的作用是（）。
A、防静电B、防电磁干扰C、防潮D、防水答案：ABCD防静电铝箔袋具有防静电、防电磁干扰、防潮三大功能，具有良好的防水、阻氧、避光等特点，可以最大程度地保护静电敏感元器件免受潜在静电危害。
9、在进入集成电路制造车间前注意着装规范，其目的是为了防止人体、衣物等产生（）和（）对芯片造成损害。
集成电路工艺原理（考试题目与答案_广工版）
集成电路工艺原理（考试题目与答案_广工版）1、将硅单晶棒制成硅片的过程包括哪些工艺？答：包括：切断、滚磨、定晶向、切片、倒角、研磨、腐蚀、抛光、清洗、检验。
2、切片可决定晶片的哪四个参数/答：切片决定了硅片的四个重要参数：晶向、厚度、斜度、翘度和平行度。
3、硅单晶研磨清洗的重要性。
答：硅片清洗的重要性：硅片表面层原子因垂直切片方向的化学键被破坏成为悬挂键，形成表面附近的自由力场，极易吸附各种杂质，如颗粒、有机杂质、无机杂质、金属离子等，造成磨片后的硅片易发生变花发蓝发黑等现象，导致低击穿、管道击穿、光刻产生针孔，金属离子和原子易造成pn结软击穿，漏电流增加，严重影响器件性能与成品率45、什么是低K材料？答：低K材料：介电常数比SiO2低的介质材料46、与Al 布线相比，Cu 布线有何优点？答：铜作为互连材料，其抗电迁移性能比铝好，电阻率低，可以减小引线的宽度和厚度，从而减小分布电容。
4、硅片表面吸附杂质的存在状态有哪些？清洗顺序？答：被吸附杂质的存在状态：分子型、离子型、原子型清洗顺序：去分子－去离子－去原子－去离子水冲洗－烘干、甩干5、硅片研磨及清洗后为什么要进行化学腐蚀，腐蚀的方法有哪些？答：工序目的：去除表面因加工应力而形成的损伤层及污染腐蚀方式：喷淋及浸泡6、CMP（CMP-chemical mechanical polishing）包括哪些过程？答：包括：边缘抛光：分散应力，减少微裂纹，降低位错排与滑移线，降低因碰撞而产生碎片的机会。
表面抛光：粗抛光，细抛光，精抛光7、SiO2按结构特点分为哪些类型？热氧化生长的SiO2属于哪一类？答：二氧化硅按结构特点可将其分为结晶形跟非结晶形，热氧化生长的SiO2为非结晶态。
8、何谓掺杂？答：在一种材料(基质)中，掺入少量其他元素或化合物，以使材料(基质)产生特定的电学、磁学和光学性能，从而具有实际应用价值或特定用途的过程称为掺杂。
9、何谓桥键氧，非桥键氧？它们对SiO2密度有何影响？答：连接两个Si—O四面体的氧原子称桥联氧原子，只与一个四面体连接的氧原子称非桥联氧原子。
1+X集成电路理论练习题库与答案
1+X集成电路理论练习题库与答案一、单选题（共39题，每题1分，共39分）1.晶圆检测工艺中，6英寸的晶圆进行晶圆墨点烘烤时，烘烤时长一般为（）分钟。
A、5B、1C、10D、20正确答案：A2.Cadence中库管理由高到低分别是（）。
A、库-单元-视图B、库-视图-单元C、单元-库-视图D、单元-视图-库正确答案：A3.管装装内盒时，在内盒上贴有( )种标签。
A、1B、2C、3D、4正确答案：B答案解析：管装内盒上的标签有合格标签和含芯片信息的标签。
4.在Altium Designer软件中完成电路设计之后，为了验证所布线的电路板是符合设计规则的，现在设计者要运行（）。
A、Board Layers &ColorsB、Design Rule CheckC、Project Outputs for MultivibratorD、PCB Rules and constraints Editor正确答案：B5.在原理图编辑器内，执行Tools→Footprint Manager命令，显示（）。
A、Navigator面板B、封装管理器检查对话框C、工程变更命令对话框D、Messages窗口正确答案：B6.载入元件库：Altium Designer系统默认打开的元件库有两个：常用分立元器件库（）；常用接插库（）。
A、Devices.IntLib；Miscellaneous Connectors.IntLibB、Devices.IntLib；Connectors.IntLibC、Miscellaneous Devices.IntLib；Connectors.IntLibD、Miscellaneous Devices.IntLib；Miscellaneous Connectors.IntLib正确答案：D7.{以串行测试为例，假设A,B轨道测试合格，C轨道测试不合格，芯片移动的路线是（）。
}A、A测试轨道→分选梭1→B测试轨道→分选梭2→C测试轨道→分选梭3→D合格轨道→分选梭4→不良品料管；B、A测试轨道→分选梭1→B测试轨道→分选梭2→C不合格轨道→分选梭3→D不合格轨道→分选梭4→不良品料管；C、A测试轨道→分选梭1→B测试轨道→分选梭2→C不合格轨道→分选梭3→D不合格轨道→分选梭4→不良品料管D、A测试轨道→分选梭1→B测试轨道→分选梭2→C测试轨道→分选梭3→D不合格轨道→分选梭4→不良品料管正确答案：D答案解析：重力式分选机进行串行测试时，A,B轨道测试合格，C轨道测试不合格，芯片移动的路线是：分选梭1将A轨道测试合格的芯片送入B 测试轨道，B轨道测试合格后，分选梭2将芯片送人C测试轨道，C轨道测试不合格后，分选梭3将芯片送入D不合格轨道，分选梭4将芯片放入不良品料管中。
1+X集成电路理论测试题+参考答案
1+X集成电路理论测试题+参考答案一、单选题（共39题，每题1分，共39分）1.元器件的引线直径与印刷焊盘孔径应有（）的合理间隙。
A、0.2~0.4mmB、0.2~0.3mmC、0.1~0.4mmD、0.1~0.3mm正确答案：A2.在半自动探针台进行扎针调试时，当针尖悬于待测点上方，先调节( )旋钮。
A、X轴B、Y轴C、Z轴D、X-Y-Z微调正确答案：B答案解析：在半自动探针台上进行扎针调试时，当针尖悬于待测点上方，先用Y轴旋钮将探针退后少许，再用Z轴旋钮下针，最后用X轴旋钮。
3.点银浆时，银浆的覆盖范围需要（）。
A、小于50%B、大于50%C、大于75%D、不小于90%正确答案：C答案解析：引线框架被推至点银浆指定位置后，点胶头在晶粒座预定粘着晶粒的位置点上定量的银浆（银浆覆盖范围>75%）。
4.转塔式分选机设备测试环节的流程是：( )。
A、测前光检→测后光检→测试→芯片分选B、芯片分选→测前光检→测后光检→测试C、测前光检→测试→测后光检→芯片分选D、测前光检→测后光检→芯片分选→测试正确答案：C答案解析：转塔式分选机设备测试环节的流程是：测前光检→测试→测后光检→芯片分选。
5.植球时，球和焊盘金属形成冶金结合，此时形成的焊点为（）。
A、第一焊点B、第二焊点C、第三焊点D、芯片焊点正确答案：A答案解析：劈刀下降到芯片焊点表面，加大压力和功率，使球和焊盘金属形成冶金结合，形成第一焊点。
6.管装包装时，将真空包装的编带盘放入内盒、合上盖子后，需要在内盒的封口边( )处贴上“合格”标签。
A、左侧B、右侧C、中央D、任意位置正确答案：C答案解析：管装包装时，将真空包装的编带盘放入内盒、合上盖子后，需要在内盒的封口边中央处贴上“合格”标签。
7.下列关于重力式分选设备描述错误的是（）。
A、装料时不需要注意芯片方向和管脚朝向B、重力式分选机手动上料的步骤分为两步，装料和上料夹具夹持C、手动装料需要操作人员取下待测料管一端的塞钉，并将料管整齐地摆放在操作台D、自动装料减少了人工补料的次数，节省了取塞钉与摆放料管的时间，降低了人工成本正确答案：A8.封装工艺中，（）工序后的合格品进入塑封工序。
电子电路的微波集成电路设计与制造考核试卷
A.低通滤波器
B.高通滤波器
C.带通滤波器
D.带阻滤波器
8.在微波集成电路设计中，如何提高放大器的稳定性？（）
A.增大放大器的增益
B.增大放大器的带宽
C.减小放大器的负载阻抗
D.采用合适的负反馈
9.微波集成电路中，功率放大器的设计重点是什么？（）
A.增益
A.散热问题可以忽略不计
B.需要采用特殊的散热材料
C.只需要在集成电路外部加散热片
D.散热问题主要与工作环境有关
13.微波集成电路设计时，如何选择合适的晶体管？（）
A.根据频率选择
B.根据功率选择
C.根据线性度选择
D.所有以上选项
14.以下哪种结构可以实现微波信号的放大？（）
A.放大器
B.混频器
C.滤波器
9.在微波集成电路设计中，为了防止信号反射，需要设计合适的______网络。
10.微波集成电路在航天领域中的应用，主要得益于其______和体积小。
四、判断题（本题共10小题，每题1分，共10分，正确的请在答题括号中画√，错误的画×）
1.微波集成电路的设计与制造工艺与常规集成电路完全相同。（）
2.在微波集成电路中，晶体管是唯一的有源元件。（）
1.微波集成电路注重高频性能和信号完整性，设计原则包括阻抗匹配、信号路径最短、高频元件布局等。这些区别影响电路的带宽、增益、线性度和噪声性能。
2.放大器的稳定性通过负反馈、合适的偏置和电路设计实现。注意事项包括选择合适的晶体管、考虑温度影响、避免寄生振荡。
3.散热问题影响电路的可靠性、功率输出和线性度。常见散热方法有散热片、热管、风扇等，优缺点包括成本、重量、空间占用等。
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填空题( 30分=1分*30) (只是答案)半导体级硅、 GSG 、电子级硅。
CZ法、区熔法、硅锭、wafer 、硅、锗、单晶生长、整型、切片、磨片倒角、刻蚀、 ( 抛光) 、清洗、检查和包装。
100 、110 和111 。
融化了的半导体级硅液体、有正确晶向的、被掺杂成p型或n型、实现均匀掺杂的同时而且复制仔晶的结构, 得到合适的硅锭直径而且限制杂质引入到硅中、拉伸速率、晶体旋转速率。
去掉两端、径向研磨、硅片定位边和定位槽。
制备工业硅、生长硅单晶、提纯) 。
卧式炉、立式炉、快速热处理炉。
干氧氧化、湿氧氧化、水汽氧化。
工艺腔、硅片传输系统、气体分配系统、尾气系统、温控系统。
局部氧化LOCOS、浅槽隔离STI。
掺杂阻挡、表面钝化、场氧化层和金属层间介质。
热生长、淀积、薄膜。
石英工艺腔、加热器、石英舟。
APCVD常压化学气相淀积、 LPCVD低压化学气相淀积、 PECVD等离子体增强化学气相淀积。
晶核形成、聚焦成束、汇聚成膜。
同质外延、异质外延。
膜应力、电短路、诱生电荷。
导电率、高黏附性、淀积、平坦化、可靠性、抗腐蚀性、应力等。
CMP设备、电机电流终点检测、光学终点检测。
平滑、部分平坦化、局部平坦化、全局平坦化。
磨料、压力。
使硅片表面和石英掩膜版对准并聚焦, 包括图形) ; ( 经过对光刻胶曝光, 把高分辨率的投影掩膜版上图形复制到硅片上) ; ( 在单位时间内生产出足够多的符合产品质量规格的硅片) 。
化学作用、物理作用、化学作用与物理作用混合。
介质、金属。
在涂胶的硅片上正确地复制掩膜图形。
被刻蚀图形的侧壁形状、各向同性、各向异性。
气相、液相、固相扩散。
间隙式扩散机制、替代式扩散机制、激活杂质后。
一种物质在另一种物质中的运动、一种材料的浓度必须高于另一种材料的浓度) 和( 系统内必须有足够的能量使高浓度的材料进入或经过另一种材料。
热扩散、离子注入。
预淀积、推进、激活。
时间、温度。
扩散区、光刻区、刻蚀区、注入区、薄膜区、抛光区。
硅片制造备 ) 、 ( 硅片制造 ) 、硅片测试和拣选、 ( 装配和封装、终测。
微芯片。
第一层层间介质氧化物淀积、氧化物磨抛、第十层掩模、第一层层间介质刻蚀。
钛淀积阻挡层、氮化钛淀积、钨淀积、磨抛钨。
1．常见的半导体材料为何选择硅?( 6分)( 1) 硅的丰裕度。
硅是地球上第二丰富的元素, 占地壳成分的25%; 经合理加工, 硅能够提纯到半导体制造所需的足够高的纯度而消耗更低的成本;( 2) 更高的熔化温度允许更宽的工艺容限。
硅1412℃>锗937℃( 3) 更宽的工作温度。
用硅制造的半导体件能够用于比锗更宽的温度范围,增加了半导体的应用范围和可靠性;( 4) 氧化硅的自然生成。
氧化硅是一种高质量、稳定的电绝缘材料, 而且能充当优质的化学阻挡层以保护硅不受外部沾污; 氧化硅具有与硅类似的机械特性, 允许高温工艺而不会产生过度的硅片翘曲;2．晶圆的英文是什么? 简述晶圆制备的九个工艺步骤。
( 6分)Wafer。
（1）单晶硅生长: 晶体生长是把半导体级硅的多晶硅块转换成一块大的单晶硅。
生长后的单晶硅被称为硅锭。
可用CZ法或区熔法。
（2）整型。
去掉两端, 径向研磨, 硅片定位边或定位槽。
（3）切片。
对200mm及以上硅片而言,一般使用内圆切割机; 对300mm硅片来讲都使用线锯。
（4）磨片和倒角。
切片完成后, 传统上要进行双面的机械磨片以去除切片时留下的损伤, 达到硅片两面高度的平行及平坦。
硅片边缘抛光修整, 又叫倒角, 可使硅片边缘获得平滑的半径周线。
（5）刻蚀。
在刻蚀工艺中, 一般要腐蚀掉硅片表面约20微米的硅以保证所有的损伤都被去掉。
（6）抛光。
也叫化学机械平坦化( CMP) , 它的目标是高平整度的光滑表面。
抛光分为单面抛光和双面抛光。
（7）清洗。
半导体硅片必须被清洗使得在发给芯片制造厂之前达到超净的洁净状态。
（8）硅片评估。
（9）包装。
3．硅锭直径从20世纪50年代初期的不到25mm 增加到现在的300mm 甚至更大, 其原因是什么? ( 6分)（1） 更大直径硅片有更大的表面积做芯片, 能够减少硅片的浪费。
（2） 每个硅片上有更多的芯片, 每块芯片的加工和处理时间减少, 导致设备生产效率变高。
（3） 在硅片边缘的芯片减少了, 转化为更高的生产成品率。
（4） 在同一工艺过程中有更多芯片,因此在一块芯片一块芯片的处理过程中, 设备的重复利用率提高了。
氧化4.立式炉出现的主要原因, 其主要控制系统分为哪五个部分? ( 6分)(1)立式炉更易于自动化、 可改进操作者的安全以及减少颗粒污染。
与卧式炉相比可更好地控制温度和均匀性。
(2)工艺腔, 硅片传输系统, 气体分配系统, 尾气系统, 温控系统。
5.试写出光刻工艺的基本步骤。
( 6分)( 1) 气相成底膜; ( 2) 旋转涂胶; ( 3) 软烘 ; ( 4) 对准和曝光; ( 5)曝光后烘焙(PEB); ( 6) 显影; ( 7) 坚膜烘焙; ( 8) 显影检查。
4．已知曝光的波长为365nm, 光学系统的数值孔径NA 为0.60, 则该光学系统的焦深DOF 为多少? ( 6分)5．简述扩散工艺的概念。
( 6分)扩散是物质的一个基本属性, 描述了一种物质在另一种物质中运动的情况。
扩散的发生需要两个必要的条件: ( 1) 一种材料的浓度必须高于另一种材料的浓度; ( 2) 系统内必须有足够的能量使高浓度的材料进入或经过另一种材料。
气相扩散: 空气清新剂喷雾罐 液相扩散: 一滴墨水滴入一杯清水 固相扩散: 晶圆暴露接触一定浓度的杂质原子( 半导体掺杂工艺的一种)6．名词解释: 离子注入。
( 6分)离子注入是一种向硅衬底中引入可控制数量的杂质, 以改变其电学性能的方法。
它是一个物理过程, 即不发生化学反应。
离子注入在现代硅片制造过程中有广泛应用, 其中最主要的用途是掺杂半导体材料。
四、 综合题: ( 30分=15分*2, 20题) 2题/章1．对下图所示的工艺进行描述,并写出工艺的主要步骤。
( 15分)描述: 图示工艺: 选择性氧化的浅槽隔离( STI) 技术。
( 用于亚0.25微米工艺) STI 技术中的主要绝缘材料是淀积氧化物。
选择性氧化利用掩膜来完成,一般是氮化硅, 只要氮化硅膜足够厚, 覆盖了氮化硅的硅表面就不会氧化。
掩膜经过淀积、 图形化、 刻蚀后形成槽。
在掩膜图形曝露的区域, 热氧化150~200埃厚的氧化物后, 才能进行沟槽填充。
这种热生长的氧化物使硅表面钝化, 而且能够使浅槽填充的淀积氧化物和硅相互隔离, 它还能作为有效的阻挡层, 避免器件中的侧墙漏电流产生。
步骤: 1氮化硅淀积 2氮化硅掩蔽与刻蚀 3侧墙氧化与沟槽填充 4氧化硅的平坦化(CMP)5氮化硅去除。
浅槽隔离(STI)的剖面2．识别下图所示工艺, 写出每个步骤名称并进行描述, 对其特有现象进行描述。
( 15分)答: 一 ) 此为选择性氧化的局部氧化LOCOS ( 0.25微米以上的工艺 ) 二 ) 步骤名称及描述: 1 氮化硅淀积。
2 氮化硅掩蔽与刻蚀3 硅的局部氧化 LOCOS 场氧化层的剖面4 氮化硅去除用淀积氮化物膜作为氧化阻挡层, 因为淀积在硅上的氮化物不能被氧化, 因此刻蚀后的区域可用来选择性氧化生长。
热氧化后, 氮化物和任何掩膜下的氧化物都将被除去, 露出赤裸的硅表面, 为形成器件作准备。
三) 特有现象描述: 当氧扩散穿越已生长的氧化物时, 它是在各个方向上扩散的( 各向同性) 。
一些氧原子纵向扩散进入硅, 另一些氧原子横向扩散。
这意味着在氮化物掩膜下有着轻微的侧面氧化生长。
由于氧化层比消耗的硅更厚, 因此在氮化物掩膜下的氧化生长将抬高氮化物的边缘, 我们称为”鸟嘴效应”金属化3．按照下图, 解释化学机械平坦化工艺。
( 15分)CMP是一种表面全局平坦化的技术, 它经过硅片和一个抛光头之间的相对运动来平坦化硅片表面, 在硅片和抛光头之间有磨料, 并同时施加压力。
CMP设备——抛光机光刻4．识别下图所示工艺, 写出每个步骤名称并进行描述。
( 15分)答: 1 气相成底膜: 清洗、脱水, 脱水烘焙后立即用HMDS进行成膜处理, 起到粘附促进剂的作用。
2 采用旋转涂胶的方法涂上液相光刻胶材料。
3 软烘: 其目的是除去光刻胶中的溶剂。
4 对准和曝光: 掩模板与涂了胶的硅片上的正确位置对准。
然后将掩模板和硅片曝光。
5 曝光后烘焙: 深紫外( DUV) 光刻胶在100-110℃的热板上进行曝光后烘焙。
6 显影: 是在硅片表面光刻胶中产生图形的关键步骤。
7 坚模烘焙: 要求会发掉存留的光刻胶溶剂, 提高光刻胶对硅片表面的粘附性。
8 显影后检查: 目的是找出光刻胶有质量问题的硅片, 描述光刻胶工艺性能以满足规范要求。
刻蚀5．等离子体干法刻蚀系统的主要部件有哪性? 试举出三种主要类型,并对圆筒式等离子体刻蚀机作出介绍。
( 15分)答: 一个等离子体干法刻蚀系统的基本部件包括: ( 1) 发生刻蚀反应的反应腔; ( 2) 产生等离子体的射频电源; ( 3) 气体流量控制系统; ( 4)去除刻蚀生成物和气体的真空系统。
圆桶式反应器是圆柱形的, 在0.1~1托压力下具有几乎完全相同的化学各向同性刻蚀。
硅片垂直、小间距地装在一个石英舟上。
射频功率加在圆柱两边的电极上。
一般有一个打孔的金属圆柱形刻蚀隧道, 它把等离子体限制在刻蚀隧道和腔壁之间的外部区域。
硅片与电场平行放置使物理刻蚀最小。
等离子体中的刻蚀基扩散到刻蚀隧道内, 而等离子体中的带能离子和电子没有进入这一区域。
这种刻蚀是具有各向同性和高选择比的纯化学过程。
因为在硅片表面没有物理的轰击, 因而它具有最小的等离子体诱导损伤。
圆桶式等离子体反应器主要用于硅片表面的去胶。
氧是去胶的主要刻蚀机。
离子注入6．对下图中的设备进行介绍, 并对其所属的工艺进行描述。
( 15分)离子注入工艺在离子注入机内进行,它是半导体工艺中最复杂的设备之一。
离子注入机包含离子源部分, 它能从原材料中产生带正电荷的杂质离子。
离子被吸出, 然后用质量分析仪将它们分开以形成需要掺杂离子的束流。
束流中的离子数量与希望引入硅片的杂质浓度有关。
离子束在电场中加速, 获得很高的速度( 107cm/s数量级) , 使离子有足够的动能注入到硅片的晶格结构中。
束流扫描整个硅片, 使硅片表面均匀掺杂。
注入之后的退火过程将激活晶格结构中的杂质离子。
所有注入工艺都是在高真空下进行的。
离子注入设备包含以下5 个部分:( 1) 离子源; ( 2) 引出电极( 吸极)和离子分析器; ( 3) 加速管; ( 4) 扫描系统; ( 5) 工艺室离子注入是一种向硅衬底中引入可控制数量的杂质, 以改变其电学性能的方法。