光刻工艺发展史

光刻工艺发展史
此外，关于光刻工艺发展史上的重要里程碑和事件，还可以补充以下信息：
1958年，美国德克萨斯公司试制出世界上第一块平面集成电路，标志着光刻技术在集成电路制造中的应用开始。

1966年，中科院下属109厂与上海光学仪器厂协作，研制成功我国第一台65型接触式光刻机。

1986年，阿斯麦首先推出步进式扫描投影光刻机，为光刻技术带来了新的突破。

2001年，阿斯麦又推出双工件台系统（TWINSCAN SYSTEM），将测量、对准与光刻流程相分离，提高了生产效率。

2002年，台积电林本坚提出浸没式光刻技术，进一步提高了光刻分辨率。