离子膜法烧碱装置一年来运转情况简介
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离子膜法烧碱装置一年来运转情况简介
李展飞
【期刊名称】《氯碱工业》
【年(卷),期】1991(000)001
【摘要】一、前言我厂引进日本旭化成公司年产一万吨离子膜法烧碱装置,于1988年10月31日建成投产。
该装置为复极式电解槽,共98个单元槽。
离子膜为全氟羧酸型复合膜。
单元电解槽的通电面积为2.7m^2,运行电流(DC)上限为10.8kA。
根据我厂实际安装调试、运行的情况作如下论述。
【总页数】5页(P20-24)
【作者】李展飞
【作者单位】无
【正文语种】中文
【中图分类】TQ114.262
【相关文献】
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4.先进过程控制技术在离子膜法烧碱装置上的应用 [J], 詹意; 方宁; 王奇
5.烟台万华5万t／a离子膜法烧碱装置投产并将建30万t／a烧碱装置 [J],
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