VLSI6 电路参数提取解析

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vlsi数字集成电路一般设计流程

vlsi数字集成电路一般设计流程

vlsi数字集成电路一般设计流程VLSI数字集成电路一般设计流程数字集成电路(VLSI)是现代电子技术领域的重要组成部分,广泛应用于计算机、通信、消费电子等领域。

VLSI数字集成电路的设计流程是一个系统性的过程,涉及到从需求分析到电路设计、验证、布局布线等多个环节。

本文将介绍VLSI数字集成电路的一般设计流程。

一、需求分析需求分析是VLSI数字集成电路设计的第一步,主要目的是明确设计要求和功能需求。

在需求分析阶段,设计团队与客户或项目经理进行沟通,了解项目的背景、功能要求、性能指标等。

同时,还需要考虑电路的功耗、面积、可靠性等因素,以确定设计的整体目标。

二、框架设计在框架设计阶段,设计团队根据需求分析的结果,确定整个电路的结构和功能模块。

框架设计需要考虑各个模块之间的连接方式、数据传输方式、时序要求等。

同时,还需要确定使用的逻辑门、存储器、寄存器等基本元件,并进行初步的电路图设计。

三、逻辑设计逻辑设计是VLSI数字集成电路设计的核心环节,主要目的是将框架设计的功能模块转化为逻辑电路。

在逻辑设计阶段,设计团队使用硬件描述语言(如Verilog、VHDL)进行电路的建模和描述,利用逻辑门、时序电路等元件进行电路的逻辑实现。

四、验证验证是确保电路设计正确性的重要环节。

在验证阶段,设计团队需要使用仿真工具对电路进行功能仿真,并设计测试用例进行验证。

通过仿真和测试,可以发现电路设计中的错误或潜在问题,并对其进行修复和优化。

五、布局布线布局布线是将逻辑电路转化为物理电路的过程。

在布局布线阶段,设计团队将逻辑电路转化为实际的布局图,确定各个元件的位置和相互之间的连线关系。

同时,还需要考虑电路的面积、功耗、信号延迟等因素,并进行布线优化。

六、物理验证物理验证是检验布局布线结果的环节。

在物理验证阶段,设计团队对布局布线后的电路进行电气规则检查(DRC)和电磁规则检查(ERC),以确保电路的物理完整性和可靠性。

根据验证结果,可以对布局布线进行调整和优化。

VLSI测试基础实验报告

VLSI测试基础实验报告

VLSI测试基础实验报告实验目的本实验旨在通过实际操作和基础知识的学习,让学生熟悉VLSI(Very Large Scale Integration)测试的基本概念和测试技术,为进一步理解和应用VLSI测试打下坚实的基础。

实验环境•操作系统:Windows 10•VLSI测试工具:ModelSim实验内容实验一:VLSI测试概述在本实验中,我们首先进行了VLSI测试概述的学习。

VLSI测试是指对集成电路芯片进行功能验证和缺陷检测的过程。

我们了解了VLSI测试的重要性,理解了测试的意义在于发现和排除集成电路芯片的缺陷,确保其在应用中的可靠性。

实验二:VLSI测试流程在这一实验中,我们深入学习了VLSI测试的流程。

VLSI测试流程包括测试计划制定、测试向量生成、测试向量应用和测试结果评估。

我们详细了解了每个步骤的作用,并通过实例演示了测试向量生成的过程。

实验三:VLSI测试工具本实验中,我们学习了常用的VLSI测试工具。

其中,ModelSim是一款功能强大的模拟器,用于验证和调试VLSI设计。

我们掌握了ModelSim的基本使用方法,包括工程创建、代码编写、仿真运行和波形查看等。

实验四:VLSI测试技术在实验四中,我们学习了几种常用的VLSI测试技术。

其中包括结构测试技术、功能测试技术和故障模拟测试技术。

我们了解了它们的原理和适用场景,并通过实验验证了这些技术在测试过程中的有效性。

实验五:VLSI测试案例分析在这一实验中,我们分析了一个实际的VLSI测试案例。

通过对该案例的学习,我们更深入地理解了VLSI测试的实际应用,并掌握了如何针对不同类型的集成电路芯片进行测试设计和实施的方法。

实验总结通过本次实验,我们全面了解了VLSI测试的基础知识和技术。

我们不仅学习了VLSI测试的概述和流程,还掌握了常用的VLSI测试工具和技术。

通过实际操作和案例分析,我们深入理解了VLSI测试的实际应用,并对如何进行测试设计和实施有了一定的掌握。

数字VLSI电路测试技术研究

数字VLSI电路测试技术研究

资助金额 200.00 20.00 25.00 30.00 28.00 200.00 28.00 80.00 23.00 21.00
31.00
24.00 22.00 732.00
Outline
1. Brief Introduction to ICT, CAS 2. R&D in Test &Verification 3. Impact 4. China Test Community (CCF) 5. On-going…
负责人 李晓维 李华伟 李晓维 胡瑜 李华伟 李晓维 李华伟 李晓维 韩银和 胡瑜
60831160526 李晓维
60906013 吕 涛 609060210820/7/7 张 磊
项目名称 从行为级到版图级的设计验证与测试生成(重点) 系统芯片中时延测试及定时分析的层次化方法 多芯核共享的测试响应数据压缩方法研究 嵌入式存储器内建自修复方法研究 面向串扰的时延测试 数字VLSI电路测试技术研究(重点) 避免过度测试的时延测试方法 微处理器自修复设计基础研究 片上网络芯片中路由器电路和互连线的测试方法研究 大规模多核系统芯片测试压缩方法研究 片上系统测试架构设计与优化:针对噪声引起的测试 良产率下降的研究 基于bug效应量化分析的功能验证技术 基于片上网络的众核处理器容错设计方法研究
资助金额 5.90 2.00 2.00 3.00 5.00 4.00 3.50 8.00 8.00
10.00 12.00 80.00 10.60 154.00
团队的成长受益于NSFC持续
资助
(资助金额单位:万元)
序号 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10
11
12 13 合计
项目批准号 90207002 60242001 60576031 90607010 60606008 60633060 60776031 90707004 60806014 60803031

超大规模集成电路(VLSI)静电放电保护调试的新方法

超大规模集成电路(VLSI)静电放电保护调试的新方法

超大规模集成电路(VLSI)静电放电保护调试的新方法摘要本文介绍了在超大规模集成电路中静电放电防护的故障分析和调试的方法,基于实际ESD应力的低能量、非破坏性仿真。

此方法允许在应力作用时对芯片上的电流和电压进行测量,给出关于防护方法的正常工作或故障原因的一个直接而清晰的结论。

1.介绍集成电路在静电放电(ESD)应力事件后防护故障的调试随着技术的进步受到越来越多的关注。

尽管事实证明保护器件和方法在过去证明是有用的,但还是有故障发生。

这是因为芯片设备的利润空间的持续降低使ESD生存受到压力。

另一个因素是由于企图不断减小晶片面积,当保护模式从依赖单个保护器件(二极管,NMOS管等)[1],到复杂的保护系统[2] ,必须致力于ESD保护的研究。

在过去,使用最初的ESD防护方法,当发现其失败之处时,可以很容易的准确找到失败的原因[3]。

其他故障的情况下,当损坏的是ESD防护范围内的芯片上区域时,调试相比较起来复杂一些,但仍然可以解决。

现在我们面临的情况是有关ESD故障的个数以及分析、调试的复杂性都在增加。

降低芯片元件的最大门限电压以及减小专门用于ESD保护电路的晶片面积导致了从使用最简单的防护器件转变为以复杂的算法为基础的防护系统[2]。

然而,现代复杂ESD防护系统自身在ESD故障时需要复杂的分析,因为大钳位器件的损坏并不一定意味着故障的产生是因为它的电流传输能力。

例如,当通常的“验尸”故障分析不起作用时,故障可能与触发电路有关。

然后,只有在ESD 应力时实时观测ESD防护电路的工作,尤其是当保护电路不能承受实际的ESD 压力时进行观测才是我们所需要的。

2.ESD保护调试设备的的当前方法目前,VLSI电路ESD防护的测试和调试方法之一是给系统一个实际ESD 应力(高能量应力测试使用比如KeyTek Paragon静电放电测试仪),然后在应力之后分析IC[3]。

静电放电测试仪的放电机械触头放置在被测试的IC芯片(被测设备,DUT)的管脚上以给应力,并且DUT的安装常常用一个大负载板,其中测试仪的互连线具有不可忽略的影响。

VLSI6电路参数提取

VLSI6电路参数提取
通过对大量已知参数的电路数据进行统计分析,提取电路参数的概率分布和统计特性。这种方法适用于大规模电 路,但精度相对较低。
统计建模
基于已知参数的电路模型,通过统计方法估计未知参数。这种方法精度较高,适用于大规模电路,但模型建立较 为复杂。
基于机器学习的方法
监督学习
利用已知参数的电路数据训练机器学习模型,通过模型预测未知参数。这种方法精度高,适用于大规 模电路,但需要大量标注数据。
电感参数提取通常采用测量和仿真相结合 的方法,通过测量电感元件的实际电感值 ,结合仿真模型计算出电感元件的材料属 性,如磁导率、线圈匝数等。这些参数对 于电路性能分析和优化至关重要。
互连线参数提取
总结词
互连线参数提取是VLSI6电路参数提取中的 重要环节,用于获取电路中互连线的电阻、 电感和电容等参数。
解决方案
可以采用自顶向下的设计方法,从系统级到 电路级逐步进行优化,同时结合多种优化算 法,如遗传算法、模拟退火算法等,以实现
多层协同优化。
异构集成和IP复用问题
异构集成和IP复用的挑战
VLSI电路中经常需要进行异构集成和IP复用,这使得参 数提取变得更为复杂。不同工艺、不同设计的IP模块具 有不同的参数特性,需要进行单独的参数提取和校准。
无监督学习
利用无标签的电路数据训练机器学习模型,通过模型发现电路参数的内在规律和特征。这种方法适用 于无标注数据的情况,但精度相对较低。
方法比较与选择
精度与计算量
基于物理的方法精度最高,但计算量大; 基于统计和机器学习的方法精度相对较
低,但计算量较小。
实验成本与环境
基于物理的实验测量方法实验成本高, 对环境要求严格;其他方法无需实验
测量。
适用规模

VLSI实验报告

VLSI实验报告

VLSI仿真实验报告---第三次题目目的:掌握存储器的总体结构和SRAM单元电路,分析CMOS 6管单元和电阻负载单元的性能。

内容:模拟一个SRAM的工作时序,简化的SRAM电路结构和输入信号如下图。

位线寄生电容Cbit=0.5pF,数据总线寄生电容Cdl=0.2pF,负载电阻为1×109Ω,单元中MOS管的W/L=1.6,门管W/L=2,其他电路中的MOS管尺寸自己设定,一般不小于W/L=4。

MOSFET模型参数用0.18μm工艺的参数库,电源电压1.8V。

要求:了解SRAM的读/写操作,观察位线信号和输出端波形,比较CMOS 6管单元和多晶硅电阻负载单元的位线信号差别。

Cbit CbitCdl右下角灵敏放大器电路如下:输入信号波形如下:实验结果分析与讨论1电路工作原理图1. 多晶硅负载SRAM工作电路图2 CMOS六管SRAM电路读写信号分析:写信号:首先通过PRE(低电平充电)将BL、,/BL、DL、/DL节点预充到高电平,然后Wt接高电平,TRI导通,输入信号Din与其反信号/Din分别传输到节点3(/DL),4(DL); col为高电平,其控制的传输门导通,DL、/DL的信号分别传至bit与/bit,且此时Row为高电平时,MOS管子M3,M4导通,由M1,M2稳态电路保存。

读信号:首先通过PRE将BL、,/BL、DL、/DL节点预充到高电平,读操作时Wt为低电平,TRI不工作,Din信号将无法影响到位线信号。

读操作是ROW为高电平,M3,M4导通,这样SRAM 中存储的信号就可以输出到位线,两条位线间产生信号差。

信号差传输到灵敏放大器,经过灵敏放大器,放大输出得到Dout实验结果分析SRAM单元仿真图分析读写过程以多晶硅电阻SRAM单元为例进行分析。

CMOS六管单元过程分析类似不再赘述。

写过程:开始写入。

因为din为高电平,所以可以看出此时dls开始变低,此时bits也随之变低。

电路参数及其提取

电路参数及其提取

电容
总结词
表示电场对电荷的存储能力
详细描述
电容是电场存储电荷的能力,其值由电极间距离和电极面积决定。在交流电路中 ,电容可以用于过滤或移相。
电感
总结词
表示磁场对电流的存储能力
详细描述
电感是磁场存储能量的能力,其值由线圈匝数、线圈直径和线圈长度决定。在交流电路中,电感可以用于滤波或 阻尼振荡。
阻抗
总结词
通过建立电路的数学模型并利用计算机进行仿真,获取电 路的参数。
要点二
详细描述
仿真分析法是通过建立电路的数学模型,例如使用SPICE 或PSPICE等电路仿真软件,在计算机上模拟电路的运行情 况,并根据仿真结果反推出电路的实际参数值。这种方法 精度较高,且可以模拟各种不同的工作条件和元件参数, 但需要建立准确的数学模型,且对于非线性电路和时变电 路的仿真较为困难。
参数提取的自动化和智能化
目前,电路参数提取过程仍然需要人工干预和调整。未来研究应致力于 提高参数提取的自动化和智能化程度,减少人工干预,提高工作效率。
03
多物理场耦合分析
在实际应用中,电路的行为不仅受到电场的影响,还可能受到磁场、热
场等其他物理场的影响。因此,未来的研究应关注多物理场耦合分析,
以更准确地预测和描述电路的行为。
参数提取的应用
电路参数提取技术在电子设备设计、制造、测试和维护等多个领域具有广泛的应用价值。 通过提取和分析电路参数,可以评估电路的性能、预测电路的行为、优化电路的设计等。
未来研究方向
01 02
新型参数提取技术
随着电子技术的不断发展,传统的电路参数提取技术可能无法满足新的 需求。因此,需要研究新型的参数提取技术,以适应不断变化的电子设 备。

微波滤波器参数提取中的关键技术研究

微波滤波器参数提取中的关键技术研究

微波滤波器参数提取中的关键技术研究微波滤波器是一类广泛应用于通信、雷达、无线电等领域的关键组件。

它能够选择性地传递或抑制一定频率范围内的微波信号,起到滤波的作用。

在微波滤波器的设计和制造过程中,准确获取滤波器参数是十分重要的一步。

本文将对微波滤波器参数提取中的关键技术进行研究。

首先,了解并确定滤波器的频率响应是参数提取的基础。

频率响应是指滤波器在不同频率下对输入信号的响应情况。

在参数提取中,通常使用S参数来描述滤波器的频率响应。

S参数包括S11参数和S21参数,分别表示输入和输出端口的反射和透射情况。

通过测量S参数,可以得到滤波器的频率响应曲线,进而确定其工作频率范围和衰减/增益等特性。

其次,对滤波器的带宽进行分析和提取是参数确定的关键环节。

滤波器的带宽是指滤波器能够有效传输的频率范围。

带宽的确定需要考虑滤波器的性能要求以及应用场景的需求。

常见的带宽提取方法包括3dB带宽提取法和20dB带宽提取法。

3dB带宽是指当滤波器的增益或衰减值达到3dB时对应的频率范围,而20dB带宽则是指滤波器的增益或衰减值达到20dB时对应的频率范围。

通过对滤波器的频率响应曲线进行分析,可以提取出相应的带宽参数。

第三,滤波器的插入损耗也是参数提取中需要关注的重要指标。

插入损耗是指滤波器对通过的信号造成的损失,其大小直接影响滤波器的性能。

插入损耗通常使用dB单位进行衡量。

在参数提取中,可以通过测量滤波器的输入和输出功率来计算插入损耗。

同时,可以利用滤波器的传输矩阵模型对插入损耗进行分析和预测。

此外,滤波器的群延时也是参数提取中需要考虑的重要因素。

群延时是指滤波器对不同频率信号传输所需时间的差异。

在实际应用中,群延时对信号的相位失真和信号传输速率等产生重要影响。

通过测量滤波器的频率响应曲线,并计算其相应的群延时,可以对滤波器的信号传输效果进行评估。

最后,对滤波器的稳定性和可靠性进行评估也是参数提取的关键技术之一。

在实际使用中,滤波器需要能够稳定地工作并保持其性能。

VLSI测试及可测性设计方法课件

VLSI测试及可测性设计方法课件
22
23
第四节
*D算法
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D算 法
• 事实上,要检测或诊断某一个故障往往只 需找到其中一个或一些测试矢量就能满足 实际工作的需要。D算法就是其中的一种重 要方法。罗思(Roth)在1966年提出的D算 法对于任意非冗余的组合电路中的故障均 能找到某个(某些)故障的测试矢量,而 且它的计算方法很容易用计算机来实现。
• 讨论核心:如何充分发挥每个测试矢量的测试功 能,以进一步减少测试电路的测试矢量数。
45
第六节
特征分析法
46
常用的特征分析法
• 线性反馈移位寄存器(LFSR)组成 的特征分析器
• 跳变次数测试(TC) • 症候群(syndrome)测试
47
一个响应序列的特征应该满足如下几个条件:
1 这个特征应尽可能多地保留原序列中的有用(即 对故障检测和诊断有用的)信息。同时,各序列 的特征应有较明显的差异,尽量做到各种不同的 序列应有不同的特征。
D1 D2
1
1
0
1
0
0
0
0
1
0
0
1
0
0
1
0
1
1
0
1
1
0
0
1
1
0
1
1
1
1
1
1
D3 D4
1
1
1
1
1
1
0
1
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0
0
0
1
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0
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0
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0
1
1
0
0
1
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1
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第四章通用VLSI

第四章通用VLSI

§4-1-2 可编程ROM(PROM)
阵列结构与功能
早期采用双极型晶体管为主 熔断丝结构
Ni-Cr电阻 编程时VCC=10-30V 读出时VCC=5V
位线检测单元电路
§4-1-3 EPROM
EPROM的存贮单元
浮栅MOS管结构
双多晶硅栅:悬浮栅、控制栅 漏源间加足够高电压,PN结击穿产生热电子 高能量热电子穿过SiO2层到达浮栅 电子积累产生屏蔽,使阈值电压升高 擦除时用紫外光辐照20min,消除电子积累
与门 阵列 (固 定)
Q2 Q1 Q0
§4-4-2 可编程逻辑器件(PLD)
FPLA结构
I2 I1 I0
或门 阵列 (可 编程)
与门 阵列 (可 编程)
Q2 Q1 Q0
§4-4-2 可编程逻辑器件(PLD)
PAL和GAL 基本阵列
§4-4-2 可编程逻辑器件(PLD)
现场可编程逻辑阵列(FPLA)
预充电结构 灵敏读出放大器
§4-3 动态随机存取存贮器 (DRAM)
§4-3-1 三管DRAM
动态存贮器结构
存贮电容C+MOS管 读/写操作,X=“1”,Y=“1”,P=“0”
读出,R=“1”,T6、T3、T2组成的电路 写入“1”/”0”,W=“1”,T4、T1组成的电路
刷新操作,X=“1”,Y=“0”,P=“1”
32kbit的NOR-ROM(128字×256位) 列延迟时间
位线电容 Cb 128 C0 j C0LD
1289.3 fF bit 2.4 fF bit
1.5 pF 充电电压摆幅 V 2.5V
§4-1-1 掩膜ROM
存贮单元存取时间
字数和位数的组合方式

实验5~6:双极型晶体管模型参数提取

实验5~6:双极型晶体管模型参数提取

双极型晶体管模型参数提取在对含双极型晶体管(BJT)的电路进行模拟时,必须提供具有足够精度而又简便的器件模型。

模型选定以后,其模型参数的真实性和数值精度就成了模拟正确与否的决定因素。

由于SPICE已成为国内外流行的通用电路分析程序,因此,对于一个具体版图和工艺设计,如何提取程序要求的BJT模型参数,成为设计人员一项有待掌握的基本技能。

本实验属于综合性较强的实验,其目的和要求是:1.掌握BJT模型,模型参数及其提取方法;2.熟悉用实验方法测取BJT模型参数;3.学习优化程序提取BJT模型参数的方法。

一实验原理1.两类BJT模型参数提取方法对于BJT模型,SPICE-2将简单的EM模型和考虑了各种二级效应的GP模型统一为一个模型,当程序中给定了GP模型的全部参数,就是GP模型,否则自动简化为EM模型。

表1汇总了GP模型全部参数。

其中包括了确定直流特性,反映基区宽度调制和 随Ic变化等效应的参数18个,确定交流特性,模拟结电容,扩散电容及它们随Vbe,Vbc,Ic变化等效应的参数17个,确定温度对BJT特性影响的参数3个和描述噪声特性的参数2个,总共40个参数。

其他电路模拟程序使用了不同的形式和复杂的E-M模型.精度较高的E-M3模型采用24个参数.除了少数模型参数可以直接引用文献提供的数值以外,获取模型参数有两种方法: 一种是分别提取;另一种是整数提取,又称优化提取方法。

分别提取法是安参数定义,设置测试提取方法,分别测量若干于模型参数有关的电学特性,再由相应的模型公式提取这些参数。

这种方法尽量用试验测量来获取参数,计算简单,参数由物理意义,但测试工作量大,所需设备多,准确度低,所得参数往往不能参数见得相互影响,只适用于所对应的测试条件,因而在实际工作条件应用时,会带来较大误差,而且有些参数不易这种方法求得。

整体提取方法以全局优化为目标,测试进可能少的器件外部电学特性,通过数学处理完成模型参数的整体提取。

模拟VLSI电路参数型故障的测试方法

模拟VLSI电路参数型故障的测试方法

模拟VLSI电路参数型故障的测试方法
李西峰;谢永乐
【期刊名称】《系统仿真学报》
【年(卷),期】2008(20)20
【摘要】为了提高模拟集成电路参数型故障的测试精度,以小波滤波器组实现的子带滤波为理论工具,研究了基于多故障特征提取的模拟集成电路测试方法。

研究和对比了奥克塔夫(Octave)和金字塔两种小波分解结构下对Haar和Daubenchies 两种小波在时域和频域中的故障分辨特性和诊断能力。

对国际标准电路的实验表明:采用Octave结构时,在时域可完成故障检测,以相干函数在频域区分故障困难;而采用金字塔型结构时,在时域和频域皆易完成故障诊断;采用Daubenchies小波的效果优于Haar小波。

【总页数】5页(P5576-5580)
【作者】李西峰;谢永乐
【作者单位】电子科技大学自动化工程学院
【正文语种】中文
【中图分类】TN47
【相关文献】
1.模拟VLSI电路故障诊断的子带特征提取方法
2.一种模拟电路参数型故障诊断新方法
3.模拟VLSI电路故障诊断的相关分析法
4.一个实用的VLSI电路故障模拟器
5.模拟集成电路参数型故障定位方法
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VLSI设计课件六设计实例

VLSI设计课件六设计实例

这个乘法器的VHDL源代码可如下所示:
8位移位相加乘法器 LIBRARY ieee; USE ieee.std_logic_1164.all; USE ieee.std_logic_unsigned.all;
ENTITY mult_8 IS PORT(product: a: b: rst: clk: END mult_8;
第6章 设计实例
6.1 6.2
乘法器的设计 FIR滤波器的设计与实现
6.1 乘法器的FPGA设计与实现
• 6.1.1 乘法的基本原理 在二进制乘法中,乘法的基本算法常可用所谓的一位乘 法 和两位乘法进行。进行这种乘法运算时,通常分别用乘 数的一位或二位与被乘数相乘,再把部分积加起来。 例 分别用一位乘法和两位乘法求下式的积:
SIGNAL b_tmp: STD_LOGIC_VECTOR(7 DOWNTO 0);-------用于记录乘数 SIGNAL a_tmp: STD_LOGIC_VECTOR(15 DOWNTO 0);------用于记录被乘数 SIGNAL prod_tmp: STD_LOGIC_VECTOR(15 DOWNTO 0);---用于记录乘积 BEGIN PROCESS(a,b,clk,rst) BEGIN IF rst = ′1′ then ---------------------异步复位 product <= (others =>′0′);-----------输出清零 a_tmp <= ′′00000000′′ & a;-------寄存a b_tmp <= b; -------寄存b prod_tmp <= ′′0000000000000000′′;---寄存器清零 ELSIF (clk′EVENT AND clk = ′1′) THEN IF b_tmp(0) = ′1′ THEN prod_tmp <= prod_tmp + a_tmp;-------逐位累加
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2018/12/13 22
• 在表3.2中给出了各种电容值,一般长连 线、压焊块及芯片外负载电容值远远大 于标准反相器的栅电容值。因此,当驱 动这些大电容时,需要设计专门的驱动 电路。 • p59,例3.5-2,3,4三个例子请大家自己 看看。
2018/12/13
23
第二节


CMOS电路的功耗主要由两部分组成: 1、静态功耗:由反向漏电流造成的功耗。 2 、动态功耗:由 CMOS 开关的瞬态电流和负 载电容的充放电造成的功耗。 在功耗设计中主要考虑三个因素:一是 导体的电迁移现象;二是散热问题;三是 供电问题。
Vdd I
2、上升时间: 由充电电流的瞬态方程:
Vi
S d
Vo
d S
I 0 Cl
2018/12/13
dV0 dt
Cl
7
(1)当Vo<|Vtp|时: Cl dV0 n (Vdd | Vtp |)2
dt 2
令:Vo从0.1Vdd上升至|Vtp|时间为tr1
2Cl tr1 n (Vdd | Vtp |)2
ln(C L / C g ) T f t pd ln f T t pd ln(C L / C g ) T ' t pd f ln f ln f 1 ln(C L / C g ) (ln f ) 2
实际当中, 一般取 f 为 2 ~ 10 之间。
令:T ' 0 有: ln f 1,f e,极小值
降到10%需要的时间。即:V0:90%~10%Vdd。
• 延迟时间td:输入电压变化到50%Vdd的时刻到
输出电压变化到50%Vdd时刻之间的时间差。
50%Vdd
Vi Vo
tdf tdr
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3
前级反相器的负载电容约为后级反相器的两个晶体 管栅电容之和: Cl=Cgp+Cgn=Cox(WpLp+WnLn)=C(WpLp+WnLn)
tav tdr tdf 2
tr 2
2
tf 2

tr t f 4
Vi Vo
50%
tf/2
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tr/2
12
二、连线延迟
R Vi-1 C Ii-1 Vi Ii Vi+1
在计算连线延迟时,我们用最简单的RC网络 模型。考察节点Vi的时间响应:
dVi Vi 1 Vi Vi Vi 1 C I i 1 I i dt R R
CL f N Cg N ln( CL ) ln f Cg
Cg为标准反相器的栅电容
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21
• 从上式看,f增大使级数N减小,使总延迟时间及每 一级的延迟时间也相应增大,可以证明当f=e≈2.7 时,速度最快,反相器链的总延迟时间最小。 证明:由T=N× f t pd ,得 N T f t pd 则:与上式比较得
2018/12/13 17
例如:设一个标准反相器:
R 驱 负
Vdd
R 9
Cl 81 C g WL 3 Cl 81 27 (倍) Cg 3
Vi
1 3
3 1
C l 81
如果不增加反相器的驱动能力,其延迟时间 将增大27倍。
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• 逐级放大方法:为了保证输出低电平Vol 不变,而维持标准反相器的 不变的条件 下,逐级放大驱动管和负载管的宽长比, 使每级放大的比例因子f相等。
g
(i )
在电路设计中, 如果一个反相器的扇出为 N,即 Fout=N。其驱动能力应提高 N 倍, 才能获得与其驱动一级门相同的延迟时间。 否则它的上升及下降时间都会下降N倍。
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四、大电容负载驱动电路 • 问题:一个门驱动非常大的负载时,会引起延 迟的增大。由于外部电容比芯片内部标准门栅 电容可能要大几个数量级。要想在允许的门延 W K ( ) , 迟时间内驱动大电容负载,只有提高 L 即增大W,将使栅面积LW增大,管子的输入 电容(即栅电容) Cg 也随之增大,它相对于 前一级又是一个大电容负载。如何解决这一问 题呢? • Mead 和Conway 论证了用逐级放大反相器构成 的驱动电路可有效地解决驱动大电容负载问题。
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CMOS反相器下降时间为:
tf tf1 tf 2 2Cl V 0.1Vdd 1 19Vdd 20 Vtn [ tn ln( ) n (Vdd Vtn ) Vdd Vtn 2 Vdd
设:Vtn=0.2Vdd Vdd=5v
tf 4 Cl nVdd
Lp Ln
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3、延迟时间: 根据延迟时间的定义: td 为输入信号变化到 50%Vdd 时刻 的时刻到输出电压变化到 50%Vdd 时刻之间的时间差 。但这样的延迟 比较难以 计算。
50%Vdd
Vi Vo
tdf tdr
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通常假设输入信号为理想的阶跃信号的情况 下,计算门的平均延迟时间:
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三、电路扇出延迟 逻辑门的输出端所接的输入门的个数称为电 路的扇出:Fout。 对于电路扇出参数的主要限制是: I I
out in
Vo
Iin Iin
Vi
Iout
Iin
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扇出端的负载等于每个输入端的栅电容之 和: Fout
Cl
C
i 1
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取:Jth=1mA/μ m²,则:导线可流过 7.5mA的电流。如果电路实际工作电流大 于此电流值,就需要增加金属线宽,以 防止电迁移现象出现。 • 近两年来,人们正在研究采用 Cu 来代替 Al 做连线。铝的电阻率在 3.1 μ Ω -cm, 而铜的电阻率在 1.7 μ Ω -cm。因此,铜 代替铝可使连线设计得更细,而不会产 生过大的寄生电阻、电容。此外,还可 以改善电迁移。
I0 dV0 Cl dt
Vi Vo Cl
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(1)当Vo>Vdd-Vtn时:
dV0 n Cl (Vdd Vtn ) 2 dt 2
令:Vo从0.9Vdd下降到Vdd-Vtn时间为tf1
tf1
0.9Vdd 2Cl 2Cl (Vtn 0.1 Vdd ) dV n (Vdd Vtn ) Vdd Vtn 0 n (Vdd Vtn )2
(2)当Vo< Vdd-Vtn时:
dV0 V0 Cl n [(Vdd Vtn )V0 ] dt 2
2
令:Vo从Vdd-Vtn下降到0.1Vdd时间为tf2
tf 2 2Cl
n

Vdd Vtn
dV0 V0 (Vdd Vtn )V0 2
2
0.1Vdd

2Cl 19Vdd 20Vtn ln( ) n (Vdd Vtn ) Vdd
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0.9Vdd |Vtp |

19Vdd 20 | Vtp | 2Cl ln( ) V0 p (Vdd | Vtp |) Vdd (Vdd | Vtp |)V0 2 dV0
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CMOS反相器的上升时间为:
| Vtp | 0.1Vdd 1 19Vdd 20 | Vtp | 2Cl tr tr 1 t r 2 [ ln( )] n (Vdd | Vtp |) Vdd 0.1 | Vtp | 2 Vdd
设:|Vtp|=0.2Vdd
Cl tr 4 pVdd
如果两管尺寸相同:
Wp Wn Ln Lp
时,
n
n p p
n 有:tr t f 2.5t f p
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ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
两管尺寸相同时,上升延迟时间比下降延迟 时间长,这是因为电子迁移率大于孔穴迁移 率的原因。 若要求tr=tf,则要求n=p Wp Wn 即: 2.5
第六章 电路参数提取
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第一节 信号传输延迟
数字电路的延迟由四部分组成: 门延迟 连线延迟 扇出延迟 大电容延迟
一、CMOS门延迟
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• 上升时间tr:输出信号波形从“1”电平的10%上
升到90%需要的时间。即:V0:10%~90%Vdd。
• 下降时间tf:输出信号波形从“1”电平的90%下
R
1 3 3 1
3 3
9 3
Vi
Cg
C l1
9 1
Cl 2
27 1
C l 81
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1 3 3 1
3 3
9 3
Vi
Cg
C l1
9 1
Cl 2
27 1
C l 81
f t pd
Cl1 f 3 Cg
f t pd
Cl 2 f 3 Cl1
9 /1 R 9 3/ 3
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当网络节点分得很密时,上式可写成微分形 式: dV d 2V rc
dt d x2
式中:r为单位长度电阻,c为单位长度电容。 通常信号在连线上的传播延迟时间可以用下 式估算: rcl 2
tl 2
其中:l为连线长度,由于 tl l 2,l在连线延迟 中起主要作用。为了减小延迟时间,可行的 策略是在连线中加若干个Buffer。
Vdd
Vdd
Vi Vo
Cgp
Vi
Vo
Cgn n
Vdd
Vi Vo Cl
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