Targets for extreme ultraviolet light sources
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
专利名称：Targets for extreme ultraviolet light sources 发明人：タオ，イエジョン,ラファック，ロバート ジェイ,フォメンコフ，イゴール ウラジーミロヴィチ,ブ
ラウン，ダニエル ジョン ウィリアム,ゴリック，
ダニエル ジェームス
申请号：JP2019007624
申请日：20190121
公开号：JP6685438B2
公开日：
20200422
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：To provide a target for an extreme ultraviolet (EUV) light source.SOLUTION: Techniques for forming a target and for producing extreme ultraviolet light include releasing an initial target material toward a target location, the target material including a material that emits extreme ultraviolet (EUV) light when converted to plasma, and directing a first amplified light beam toward the initial target material. The first amplified light beam has an energy sufficient to form a collection of pieces of target material from the initial target material, each of the pieces being smaller than the initial target material and being spatially distributed throughout a hemisphere shaped target, and directing a second amplified light beam toward the collection of pieces to convert the pieces of target material to plasma that emits EUV light.SELECTED DRAWING: Figure 4申请人：エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
地址：オランダ国 ヴェルトホーフェン ５５０４ ディー アール、デ ラン ６５０１
国籍：NL
代理人：稲葉 良幸,大貫 敏史,江口 昭彦,内藤 和彦更多信息请下载全文后查看