(Sr-Y)2(Si-Ga)(N-O)4发光性能实验

(Sr-Y)2(Si-Ga)(N-O)4发光性能实验

2.1 样品的制备

2.1.1 主要试剂

表2-1 实验所用试剂

2.1.2 实验设备

表2-2 实验所用设备

2.1.3 样品制备

按计量比称取原料至玛瑙研钵中，加入适量酒精充分研磨，将研磨后的混合物转移到坩埚中，于 N2-NH3 的保护下，在800℃下预烧1h，然后再于1450℃保

温一定的时间，待样品随炉冷却后，取出，研磨后得到目标产物。

2.2 样品测试与表征

2.2.1 X射线粉末衍射(XRD)

样品的物相分析采用Rigaku D/max–2400 X射线粉末衍射仪(XRD Rigaku Corporation，Japan)，工作条件：工作电压40千伏，工作电流60毫安，采用CuKα为X射线发生器，射线束波长是1.54178Å埃，扫描步进是0.02度，扫描速度为25度 / 分钟，扫描范围为10-80度。

2.2.2 FLS-920T（真空）紫外-可见测试系统

样品的光谱性能的测试采用的是FLS920T真空紫外-可见测试系统（Edinburgh Instruments FLS-920T）。该系统的紫外-可见测试部分的光源是一套稳态Xe灯(Xe900，450 W xenon arc lamp)，配以一套紫外-可见单色器。

2.2.3 S-3400扫描电子显微镜（SEM）

样品的显微特性的测试采用的是的S-3400扫描电子显微镜(SEM; S-3400, Hitachi, Japan)。该系统配备有能谱仪（EDS）对材料的微观区域的元素分布进行定性定量分析。