液晶材料与技术(12)——LCD工艺技术讨论—阵列
LCD基础知识及制造工艺流程介绍
02
LCD制造工艺流程
玻璃基板加工
玻璃基板清洗
去除玻璃表面的杂质和 污垢，保证基板的洁净
度。
涂布光刻胶
在玻璃基板上涂布光刻 胶，用于保护下面的材
料。
曝光与显影
通过曝光和显影，将光 刻胶上的图案转移到玻
璃基板上。
去胶和蚀刻
去除多余的光刻胶，并 对玻璃基板进行蚀刻处
理，形成像素阵列。
彩色滤光片制作
后视镜
部分汽车后视镜采用LCD显示屏， 提高夜间或恶劣天气下的可视性。
LCD在其他领域的应用
医疗器械
工业控制
LCD技术在医疗设备中广泛应用，如 监护仪、超声波诊断仪等，提供高清 晰度的图像。
在工业自动化领域，LCD显示屏用于 各种控制面板和仪器仪表，方便操作 和维护。
航空航天
LCD显示屏在航空航天领域用于飞行 控制、导航系统等关键部位，确保安 全可靠。
LCD的工作原理
要点一
总结词
LCD的工作原理主要涉及到背光板、液晶层和偏振片等组 件的作用。当电流通过背光板时，会产生光线，光线经过 液晶层和偏振片调制后形成图像。不同的LCD类型和结构 在具体工作原理上略有差异。
要点二
详细描述
LCD的基本工作原理是利用液晶的物理特性进行光调制。 背光板负责提供均匀分布的光线，这些光线随后穿过液晶 层。液晶分子在电场的作用下发生排列变化，对光线进行 调制，最后通过偏振片，形成可以观察到的图像。不同的 LCD类型在具体结构和工作原理上略有差异，例如彩色 LCD需要额外的彩色滤光片来生成彩色图像。
像素密度
像素密度，也称为分辨率密度，是指每英寸屏幕中的像素数 ，它反映了屏幕的精细程度。像素密度越高，显示效果越细 腻。
lcd技术原理
lcd技术原理LCD (液晶显示器) 是一种常见的平面显示技术。
它利用液晶分子的光学特性来产生图像，通过控制液晶分子的排列方向来控制光的透过和阻挡，从而实现图像的点阵显示。
LCD 的工作原理基于液晶分子的电光效应和扭曲效应。
液晶分子是一种有机分子，具有平面排列和头尾对称排列两种方式。
在没有电场作用下，液晶处于平面排列状态，光通过时会发生偏振。
当电场施加到液晶上时，液晶分子会发生扭曲，从而改变平面排列的角度。
这个过程称为电致扭曲效应。
液晶分子扭曲后，光线经过液晶时的偏振也会发生改变，从而可以选择性地透过或阻挡光线。
LCD 主要由两层玻璃或塑料基板构成，中间夹层涂有液晶分子。
每个液晶细胞都有一个电极对，通过施加电压来改变液晶分子的排列状态。
液晶分子的排列方式可以是垂直，也可以是水平，取决于施加的电场方向。
在液晶细胞的上下两层有偏振片，用来控制入射光线的偏振方向。
透过上层偏振片的偏振光线进入液晶细胞后，根据施加的电压和液晶分子排列状态的不同，光线要么会通过液晶细胞并旋转一定角度，要么会被阻挡。
在液晶细胞的后面安装了一个背光源，用来照亮液晶屏幕。
当液晶细胞透过光线并旋转后，光线会再次通过下层偏振片，根据其方向再次进行筛选。
只有光线的偏振方向和下层偏振片的方向相匹配，才能透过下层偏振片进入观察者的眼睛，形成清晰的图像。
通过控制每个液晶细胞的电场和电压，可以改变液晶分子的排列状态，从而得到不同的亮度和颜色。
通过逐行或逐列地控制液晶细胞，可以形成完整的图像。
总之，LCD 技术利用液晶分子的光学特性，通过电场控制液晶分子的排列方向，从而控制光的透过和阻挡，实现图像的显示。
LCD_阵列工艺技术介绍
CH-DE
7
三、ARRAY基板的工艺流程
工艺名称 洗净 溅射（SPUTTER) P-CVD PR/曝光 湿刻（WE) 干刻（DE) 剥离 工艺目的 清洁基板表面，防止成膜不良 成Al膜、Cr膜和ITO膜 成a-Si膜、n+a-Si膜和SiNx膜 形成与MASK图案相一致的光刻胶图案 刻蚀掉未被光刻胶掩蔽的金属膜 刻蚀掉未被光刻胶掩蔽的非金属膜 去掉残余的光刻胶
工艺腔体 压力控制
真空排气 空排气
除害装置 （scrubber） ）
泵
21
剥离
１次剥离 冲淋
２次剥离 ＵＳ Ｄｉｐ
１次 rinse 循环冲淋
２次 rinse 纯水冲淋
干燥 Ａ／Ｋ
剥离液
Cascade
剥离液
ＵＳ
循环水
纯水
ＤＡ
22
四、TN与SFT工艺对比
Ｇ工程 （Gate) Ｉ工程 (Island) Ｄ工程 (Drain) Ｃ工程 (Contact) ＰＩ工程 (Pixel)
Array工程
[ＧＬＡＳＳ]
4Mask 工程名 所需时间 lot构成 受入洗净 20 G-Sputter 36 G-PR 70 178 G-WE 28 PR剥离 24 成膜前洗净 20 1stSiNx-CVD 25 成膜前洗净 20 3层-CVD 50 成膜前洗净 20 D-Sputter 40 579 D/I-PR 70 DI-WE 40 I/PR-DE 120 D2-WE 30 CH-DE 120 PR剥离 24 成膜前洗净 20 PA-CVD 30 C-PR 70 354 C-DE 210 PR剥离 24 成膜前洗净 20 PI-Sputter 31 PI-PR 70 PI-WE 32 287 PR剥离 24 退火前洗净 20 退火 90 总计： 1398 5Mask 工程名 所需时间 lot构成 受入洗净 20 G-Sputter 36 G-PR 70 G G-WE 28 PR剥离 24 成膜前洗净 20 1stSiNx-CVD 25 成膜前洗净 20 I 3层-CVD 50 I-PR 70 I-DE 120 I-剥离 24 成膜前洗净 20 D-Sputter 40 D-PR 70 D D-WE 40 PR剥离 24 CH-DE 120 成膜前洗净 20 PA-CVD 30 C C-PR 70 C-DE 210 PR剥离 24 成膜前洗净 20 PI-Sputter 31 PI-PR 70 PI PI-WE 32 PR剥离 24 退火前洗净 20 退火 90 总计： 1462
液晶材料与技术——LCD工艺技术讨论—彩膜
膜厚
0.3～0.7 mm
1.35 μm 1.75 μm 1.00 μm 0.14 μm 3～4 μm 0.03 μm
液晶材料与技术
液晶材料与技术——LCD工艺技术讨 论—彩膜
二、彩色滤光片的特性要求:
1. 分光特性 2. 对比 3. 均一性 4. 平坦度 5. 无缺陷 6. 尺寸精确度
1. 耐热性 2. 耐化性
液晶材料与技术
R
G
B
R
B
R
G
B
G
B
R
G
R
G
B
R
B
R
G
B
G
B
R
G
G
B
R
G
B
R
G
B
R
G
B
R
液晶材料与技术——LCD工艺技术讨 论—彩膜
三角形排列：横向也是 按R、G、B顺序周期排 列，但行之间错开半个 基色单元位置，如同砌 砖墙。这种排列结构复 杂，但显示颜色逼真， 分辨率也高，所以彩色 质量高，
R
液晶材料与技术——LCD工艺技术讨 论—彩膜
n 三角形和玛赛克形的配置，则是鲜明高分辨率 表示，动态影像的液晶电视和影像、影音消费 性产品。
液晶材料与技术
液晶材料与技术——LCD工艺技术讨 论—彩膜
色再現性
n 色再现性是由彩色滤光片的光线透过光谱、背 光板的发光光谱以及液晶胞的光谱等因素所决 定的
所需三原色的彩色滤光片 n 因有杂色相混的问题，不同颜色的着色层间加设一道
黑色的遮光层，其制作质量良率影响最后显示影像的 画质分辨率及色彩鲜明度
液晶材料与技术
液晶材料与技术——LCD工艺技术讨 论—彩膜
LCD制造工艺流程
LCD制造工艺流程1. 概述液晶显示器（LCD）是一种广泛应用于各种电子设备的显示技术。
它采用液晶分子在电场的作用下改变光的传播方向从而实现图像显示。
本文将介绍LCD的制造工艺流程。
2. LCD制造工艺流程2.1 衬底制备制造LCD的第一步是制备衬底。
常见的衬底材料有玻璃和有机薄膜。
玻璃衬底采用特殊的工艺处理，以提供平整的表面和良好的光学性能。
有机薄膜衬底则需要通过涂覆和烘烤等步骤来形成。
2.2 透明导电层制备透明导电层是LCD的关键组成部分之一，常见的材料有氧化锡（ITO）和氧化铟锡（ITO）。
透明导电层的制备通常采用物理气相沉积或化学溶液法，以获得均匀的薄膜。
2.3 导向层制备导向层用于控制液晶分子的取向，以确保液晶显示效果。
通常使用聚合物或SiOx膜作为导向层材料。
导向层的制备需要通过涂覆、烘烤和光刻等工艺步骤进行。
2.4 制备液晶层液晶层是LCD的核心部分，其中包含液晶分子。
液晶材料通常是液晶分子和聚合物的混合物，通过涂覆和烘烤等工艺步骤形成液晶层。
液晶层的制备需要控制温度和湿度等因素，以确保液晶分子的排列和取向。
2.5 制备色彩滤光层色彩滤光层用于产生LCD显示中的彩色效果。
在制备色彩滤光层时，需要根据需要制备红、绿、蓝三种滤光膜。
色彩滤光层的制备通常采用染料沉积、光刻和蒸发等工艺步骤。
2.6 制备粘结层粘结层用于将衬底、透明导电层、导向层、液晶层和色彩滤光层粘合在一起。
粘结层的制备通常采用UV光固化胶或热固化胶。
制备粘结层时需要控制温度和压力等参数，以确保各层之间的粘合质量。
2.7 封装封装是LCD制造的最后一步，用于保护LCD结构并提供接口。
封装工艺包括切割、封装、焊接、测试等步骤。
封装的最终产品可以包括显示器模组、电视机、手机屏幕等。
3. 结论LCD制造工艺流程涉及多个关键步骤，包括衬底制备、透明导电层制备、导向层制备、液晶层制备、色彩滤光层制备、粘结层制备和封装。
每个步骤都需要严格控制工艺参数和质量要求，以确保制造出高质量的LCD产品。
LCD制造工艺流程
LCD制造工艺流程LCD（液晶显示器）是目前广泛应用于各行各业的平面显示技术。
其制造工艺流程是一个复杂而精细的过程，下面将详细介绍。
第一步：基板准备制造LCD的第一步是基板准备。
基板是一个薄而坚硬的材料，通常由玻璃或薄膜塑料制成。
基板上需要进行切割、清洗和涂层等处理，以确保其光滑和无瑕疵的表面。
第二步：涂布对齐基板准备后，会进行涂布对齐。
这一步骤是将液晶分子沉积在基板上，以形成液晶层。
液晶分子在液态时是有序排列的，通过涂布在基板上并应用电场来调整分子的排列方向。
液晶的特性决定了其在电场下的响应，从而实现了对光线的控制和调节。
第三步：曝光和固化涂布对齐完成后，液晶分子需要通过曝光和固化来固定在基板上。
曝光使用UV光照射液晶层，以使其产生化学反应并硬化。
这样可以保证液晶分子在基板上保持稳定的排布，从而实现更好的显示效果。
第四步：薄膜衬底制备在涂布和固化之后，还需要制备薄膜衬底。
薄膜衬底位于液晶层的上方，用于调节液晶分子的方向和对光的控制。
薄膜衬底通常由聚合物材料制成，通过滚涂、热处理和冷却等步骤来形成。
第五步：色彩滤光片制备为了实现彩色显示，还需要制备色彩滤光片。
色彩滤光片是一种可以选择性地透过或吸收特定光波长的材料。
它通常由染料或色素制成，通过印刷、热时间和硬化等步骤来形成。
第六步：触摸屏和背光源制造LCD时，还需要添加触摸屏和背光源。
触摸屏是一个透明的覆盖层，可以响应触摸操作并将输入信号转化为电信号。
背光源是一种为显示器提供亮度和能见度的光源，通常使用冷阴极荧光灯（CCFL）或LED背光。
第七步：组装和封装在所有组件制备完毕后，需要进行组装和封装。
这一步骤包括将基板、薄膜衬底、色彩滤光片、液晶层、触摸屏和背光源等组件进行精确的对位和组装，然后进行真空封装以保证显示器的稳定性和耐用性。
第八步：测试和质量控制组装和封装之后，制造商会对LCD进行严格的测试和质量控制。
这些测试通常包括外观检查、电性能测试、亮度和对比度测试、触摸功能测试等。
lcd生产工艺
lcd生产工艺
LCD（Liquid Crystal Display）是液晶显示技术的简称，是现代电子产品中最常见的显示技术之一。
其生产工艺主要包括以下几个步骤：
1. 基板制备：首先，要根据产品规格要求选择适当材质的玻璃基板，然后将基板切割成所需尺寸。
接下来，将两片基板分别清洗去除杂质。
2. 电极制备：在一片玻璃基板上，使用光刻技术制作透明导电膜。
这里的透明导电膜通常使用氧化铟锡（ITO）材料。
3. 涂覆液晶层：将液晶原液通过真空滴灌或辊涂的方式均匀涂覆在一片玻璃基板上。
然后通过加热和冷却使液晶层成为一个均匀的薄层。
4. 粘结：将另一片玻璃基板和涂有液晶层的基板粘合在一起。
这个过程通常采用胶水或其他粘合剂。
5. 制作像素：在涂有液晶层的基板上，使用蒸镀技术制作透光栅（TFT-Transistor Thin Film）和色彩滤光器（CF-Color Filter）。
透光栅负责控制液晶单位（像素）的开关状态，而色彩滤光器用于调整像素的颜色。
6. 封装：将电路驱动芯片和其他必要元件（如连接器和IC芯片）封装在液晶显示模块的边框中。
在这个过程中，还会在显示屏的背光区域安装LED灯或其他光源。
7. 调试和测试：在生产的最后阶段，需要对LCD屏幕进行调试和测试。
这包括对液晶层的电压和温度进行校准，以确保显示效果的稳定性和准确性。
以上是LCD生产工艺的主要步骤，每个步骤都需要严格控制工艺参数和操作流程，以保证产品质量。
同时，由于液晶显示技术的快速发展，生产工艺也在不断地创新和改进，以提高产品的性能和可靠性。
液晶材料与技术(12)——LCD工艺技术讨论—阵列2
快
慢
慢
线宽控制
高
低
低
形状控制
低
高
高
液晶材料与技术
49
在刻蚀过程中若有气泡产生，在刻蚀的前半阶 段必须要选择有除气泡功能的喷淋方式。否则 ，气泡被吸附在膜层上，具有与Mask相似的功 能，从而容易导致刻蚀残余发生;而在刻蚀的 后半阶段，由于刻蚀对象物质露出的部分较少 ，气泡比较难以被吸附在膜层上，此时根据性 能要求选择其他的刻蚀方式。
液晶材料与技术
26
（2）反射镜投影一次曝光 大直径透镜制作，控制球面像差等非常困难，而反射
镜一次曝光是由反射镜替代透镜，将掩膜图形一次投 影转写在玻璃基板上。 由光源发出的光照射掩膜板，通过掩膜板的光在一对 凹面镜和凸面镜，以及台形发射镜的联合反射作用下 ，最终将掩膜图形转写在玻璃基板上。 由于成像区域仅限于具有一定宽度限制的圆弧状的图 形，要将整个掩膜图形转写在玻璃基板上，需要掩膜 板和玻璃基板之间进行整体扫描。
液晶材料与技术（12）
——LCD工艺技术2
■ 阵列关键工艺 ——曝光与显影、刻蚀、
光刻胶剥离与退火
光刻技术主要由清洗、光刻胶涂布、坚 膜、曝光、显影、 湿刻(金属膜)或干刻(非金属膜) 、剥离等工艺组成。
液晶材料与技术
2
曝光是精密地将掩膜板上的图形转写到光刻胶上的光 化学反应。
过程涉及的主要对象有镀膜的基板、清洗设备、光刻 胶、涂胶机、掩膜板、曝光机、显影液及显影设备、 坚膜设备等多个方面。
在TFT阵列制作工艺中，根据不同的膜一般需要多次曝 光。第5代以上的TFT－LCD生产线的曝光次数已经减少 到了4次，第7代生产线的曝光工艺已经减少到了3次。
随着玻璃基板的增大，对曝光技术不断提出技术挑战 ，改进提高曝光技术是TFT技术进步的重大课题。
TFTLCD阵列工艺介绍 ppt课件
曝光原理
ＦｌｙＥｙｅ
光源
ＣＣＤ
弧状Ｓｌｉｔ Ｍａｓｋ
横倍率
台形 Ｍｉｒｒｏｒ
Ｘ非线形
凸面 Ｍｉｒｒｏｒ
凹面 Ｍｉｒｒｏｒ
Ｓｃａｎ
16
图11 曝光原理示意图
TFTLCD阵列工艺介绍
湿刻原理
■湿刻是通过对象材料（一般为金属导电膜）与刻蚀液之间的化学反应，对对象材 料进行刻蚀的过程。
■湿刻的过程 刻蚀液在对象物质表面的移送阶段
①初期状态
② 膨润·界面浸透
③ 溶解
光刻胶
膜
图14 剥离原理示意图
19
2.3 阵列基板的制造工艺流程
4mask
G-SP G-PR G-WE G-PR剥离 1st SiN CVD 三层CVD D-SP DI-PR D1-WE I/PR DE D2-WE CH-DE DI-PR剥离
PA-CVD C-PR C-DE
C-PR剥离 PI-SP PI-PR PI-WE
PI-PR剥离
G-SP G-PR G-WE
5mask G-PR剥离
1st SiN-CVD 三层CVD I-PR I-DE I-PR剥离 D-SP D-PR D-WE CH-DE D-PR剥离
图15 4mask和5mask工艺流程图
PA-CVD C-PR C-DE
TFTLCD阵列工艺介绍
1
TFTLCD阵列工艺介绍
一、TFT-LCD的基本构造 二、 ARRAY工艺简介 三、 阵列检查介绍
2
TFTLCD阵列工艺介绍
电路部件
偏光板
图1 TTFFTT--LCLDC液D晶M显o示d屏u的le构造
3
TFTLCD阵列工艺介绍
TFT-LCD阵列工艺介绍解析
表6 膜厚check项目
工程 G绝缘膜 (G-SiNx) DIPR (3层CVD后) C-PR (PA-SiNx) 测量项目 G-SiNx膜厚 G-SiNx、a-Si、n+ a-Si三层膜 厚 PA-SiNx膜厚
31
检测原理： 光线经过透明薄膜表面进行反射时，由于光线在薄膜上下表面均产 生反射，因此反射光产生光程差Δ（图1所示）。当入射光为线偏光时， 反射光为椭偏光。根据光线反射前后偏振状态的改变，可以测量薄膜的光 学参数和膜厚，这种方法叫做Ellipsometry法（椭圆偏光解析法）。
倾斜角θ
Channel长L
Resist
1.5um 残膜厚T
Ｄｒａｉｎ
Ｇａｔｅ
26
3.4 自动外观
检查装置：自动外观测定装置（AOI） 原理： 本装置通过对基板上形成的图案进行对比检查， 检测出制造过程中发生的各种类型的缺陷．
表5 自动外观check项目
工程 G-PR DIPR IDE C-PR PIPR 测量项目 G Mask起因共通缺陷检查 DI Mask起因共通缺陷检查 DI Mask起因(沟道部分)共通缺陷检查 C Mask起因共通缺陷检查 PI Mask起因共通缺陷检查
MFC MFC MFC
gas flow
gas box
除害装置
Dry pump
图9 PCVD成膜示意图
14
2.2 阵列基板的制造原理
PR•曝光原理
膜 Photolithography 工程 基板
① Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ涂布 ② 曝光 ③ 显影
图10 PR工程示意图
15
Photoresist
2.2 阵列基板的制造原理
AMP
lcd制造工艺流程
lcd制造工艺流程LCD制造是一种复杂的工艺流程，涉及到多个步骤和环节。
下面将详细介绍一下LCD制造的工艺流程。
首先是基板的准备。
基板通常由玻璃材料制成，需要经过切割和打磨等工序来达到所需要的尺寸和平整度。
同时，对于某些特殊的应用，也可以使用聚合物基板。
接下来是涂覆透明导电层。
在基板上涂覆透明导电层，常用的材料是氧化锡。
透明导电层主要用于控制信号的输入和输出，是液晶显示的重要组成部分。
然后进行对齐层的涂覆。
对齐层主要是为了将液晶分子在液晶显示器中对齐成特定的方向。
这一步骤非常关键，涉及到工艺参数的精确控制和设备的运行稳定性。
紧接着是涂覆液晶层。
通过涂覆液晶层，可以将液晶分子粘附在对齐层上，并形成液晶分子排列。
根据不同的应用需求，可选择不同类型的液晶材料。
然后是封装。
封装是将液晶层和基板封装在一起，形成LCD显示模组的步骤。
通常采用丝网印刷、光刻和视频精密封装等工艺来实现。
接下来是电路的制作。
这一步主要是在液晶层上制作驱动电路，用于控制显示模组的输出信号和电流。
常见的电路制作工艺包括薄膜转移、光刻和电路连接等。
最后是封装和测试。
封装是将LCD模组封装在适当的外壳中，以保护显示屏和电路。
测试是对制造的LCD进行功能和质量的检测，确保其正常运行和达到质量标准。
常见的测试方法有外观检查、像素检测和驱动测试等。
综上所述，LCD制造涉及多个环节和步骤，需要精确的工艺控制和设备支持。
随着科技的不断进步和应用需求的不断增加，LCD制造工艺也在不断发展和创新，以满足不同领域的需求。
lcd的工艺流程
lcd的工艺流程
《LCD工艺流程》
液晶显示器（LCD）是一种常见的显示技术，广泛应用于电视、电脑显示器和手机等电子产品中。
其制造过程涉及到许多复杂的工艺流程，以下是LCD的一般制造流程。
1. 玻璃基板的准备
首先，需要准备两片玻璃基板，其表面需要经过清洁和抛光处理，以确保表面平整度和光洁度。
在清洁和抛光后，再进行光刻和蚀刻步骤，为后续的电极和液晶层的制备做准备。
2. 制备透明导电电极
透明导电电极是用于驱动液晶材料的关键部件，通常使用氧化铟锡（ITO）材料制成。
利用光刻和蒸发等工艺，将ITO材料
沉积在玻璃基板上，并通过蚀刻去除多余的材料，最终形成透明导电电极。
3. 制备液晶层
液晶层是LCD的核心部件，由两片经过特殊处理的玻璃基板
夹持液晶材料构成。
在制备液晶层时，需要将液晶材料填充在两片玻璃基板之间，并通过热压和密封工艺固定其位置。
4. 填充液晶材料
填充液晶材料时，需要控制好液晶的填充量和均匀性，以确保液晶层的性能和质量。
填充后的液晶层需要经过退火处理，进一步提高其稳定性和性能。
5. 封装和测试
最后，将制备好的液晶层和背光模组组装在一起，并校正和调试其显示效果。
经过严格的测试和质量控制，最终将制成的LCD产品投入市场使用。
总的来说，LCD的制造过程涉及多个工艺步骤，需要高度的精密度和稳定性。
通过不断的创新和技术进步，LCD的制造工艺将不断得到优化和提升。
液晶材料与技术——LCD工艺技术讨论—制屏
液晶材料与技术
摩擦取向技术存在一些问题
摩擦取向技术虽然是液晶显示器工业中最成熟、最 可靠、应用最广泛的取向技术,但是无论在实践上 还是在理论上摩擦取向技术都仍然存在一些问题, 主要表现在以下几点:
1. 摩擦过程中容易产生静电,这会造成薄膜晶体管 的击穿;由于摩擦过程产生绒毛尘埃,摩擦后必须增 加清洗、干燥工序,降低了生产效率;另外还有少数 绒毛即使通过清洗工序也很难彻底清除,影响LCD 的显示效果,甚至出现次品。
液晶材料与技术
液晶材料与技术
贴合工程
贴合工程（panel assembly system）是将已经 配置好隔离子和封接剂的两块基板进行组装贴合， 完成封接的过程。
为了保证两块基板的准确对位和间隙均匀，贴合封 装极为关键，横纵方向的组装精度直接影响制品的 开口率和对比度，必须尽力保证。
贴合装置应具备调整功能和加压功能。为防止工程 内、工程间输送式发生调整后的错动，应采用紫外 线硬化型黏结剂进行预固定。
生产节拍 清洁度
材料使用量 如何对应多品种
快
不利（直接与基 板接触） 多
对应每个品种都 要制版
慢（对小型屏来 说不利） 有利
少 只要变化描画软
件即可
液晶材料与技术
液晶材料与技术
在封接材料形成之后，还要实现阵列基板和 CF基板上公用电极的电气连接，一般是利 用分配器描画方式将导电胶涂布在所需要的 位置。
液晶材料与技术
非摩擦法液晶分子取向技术UV2A技术
/2009 -09/ART-230002-811028418451.html
上图：玻璃基板涂上Sharp自行开发的特殊材料，作为配向膜。中图：当 照射UV光时，配向膜的高分子自动导向成UV光照射的角度。下图：液晶 分子预倾角度自动导向成配向膜高分子的方向。
液晶阵列实习报告
液晶阵列实习报告一、实习背景与目的随着科技的不断发展，液晶显示技术在各个领域得到了广泛的应用。
为了更好地了解液晶显示技术的原理和实际应用，提高自己的实践能力，我选择了液晶阵列实习项目。
本次实习的主要目的是学习液晶显示原理、掌握液晶阵列的制作工艺以及测试方法，并在此基础上完成一个简单的液晶显示器。
二、实习内容与过程1. 液晶显示原理学习在实习的第一阶段，我首先学习了液晶显示的基本原理。
液晶显示器是利用液晶分子的排列变化来实现图像显示的，通过控制液晶分子排列，可以调节透过液晶层的光线，从而实现图像的显示。
液晶显示技术具有低功耗、高清晰度、响应速度快等优点。
2. 液晶阵列制作工艺在实习的第二阶段，我参与了液晶阵列的制作工艺。
液晶阵列制作主要包括阵列制备、偏光片贴附、液晶灌注和阵列封装等步骤。
在制备过程中，我们使用了光刻、蚀刻、镀膜等工艺，制作出了具有特定图案的液晶阵列。
在偏光片贴附过程中，我学会了如何正确贴附偏光片，以保证液晶显示器的亮度和对比度。
在液晶灌注过程中，我了解了如何将液晶灌注到液晶阵列中，并保证了液晶的均匀分布。
最后，在阵列封装过程中，我学会了如何封装液晶阵列，以防止液晶泄漏。
3. 液晶显示器测试在实习的第三阶段，我参与了液晶显示器的测试。
测试主要包括亮度测试、对比度测试、响应时间测试等。
通过使用专业测试仪器，我们得到了液晶显示器的各项性能参数，并对其进行了分析和优化。
4. 液晶显示器制作在实习的第四阶段，我根据所学知识和实践经验，独立完成了一个简单的液晶显示器的制作。
通过对液晶阵列、偏光片、驱动电路等进行组装，我成功地制作出了一个能够显示图像的液晶显示器。
三、实习收获与反思通过本次实习，我深入了解了液晶显示技术的原理和实际应用，掌握了液晶阵列的制作工艺和测试方法。
在实践过程中，我提高了自己的动手能力和团队协作能力，培养了自己的创新意识和解决问题的能力。
同时，我也认识到液晶显示技术在实际应用中还存在一些问题，如响应速度不够快、功耗较高等。