2、镀膜机的基本结构

接地线
7. 辅正板（MASK）的作用
调节MASK升 降速度的快慢
mask
通过辅正板遮挡部分蒸发材料，调整整片伞架 的均匀性，使所有基板物理厚度一致。
镀膜前MASK注意事项
MASK设定角度18°。 当角度不是18°时调节 此螺丝

确认MASK支杆是否卡 在MASK槽上

8. 石 英 晶 振 以 及 速 率 监控系统
XTC/3膜厚控制仪 水晶holder 水晶旋转机构
石英晶体的频率飘移 与附加上的质量的关 系： 附加上的质量 增加，振荡频率降低
水晶探头
质量 = 密度 X 面积 X 厚度
石英晶体振荡法监 控膜厚，主要是利用石 英晶体的两个效应，压 电效应和质量负荷效应， 通过测定固有谐振频率 或与固有谐振频率有关 的参数变化来监控沉积 薄膜的厚度。
扩散泵



作用：后期抽气，为达到高真空的设备，是整个真空 抽气系统的主泵。 原理：1、当油扩散泵用前级泵预抽到低于1.0Pa真空 时，油锅可开始加热，沸腾时喷嘴喷出高速的蒸气流 ，热运动的气体分子扩散到蒸气流中，与定向运动的 油蒸气分子碰撞。 2、气体分子因此而获得动量，产生和油蒸气 分子运动方向相同的定向流动到前级，油蒸气被冷凝 ，气体分子排出，即被前级泵抽走而达到抽气目的。
介绍Optorun光学镀膜设备
设备型号讲解
设备型号举例：OTFC
设备种类
1300 DBI
大小 配置
•设备种类分为 OTFC和 Gener •真空室大小分为600、900、1300、1550、1800、2350 •配置说明： C: 冷凝泵 D: 扩散泵 B: 电子枪 I: 离子源
设备机构总成
1. 2. 3. 4. 5. 6. 7. 8. 9. 10. 11. 12. 13.
[HOM2-P]
[HOM2-D1]
[HOM2-U14]
离子源总装图
PC
RFN-3A Neutralizer
OIS-Two RF Ion Source (17cm)
气体控制器
AM-200RUN Matching Box
OISC-ⅡIon source Controller 中和器电源 离子源直流电源 AX-300Ⅲ 中和器射频电源
监控片罩壳
监控片玻璃
10. 加 热 丝
温度对膜层原子或分子提供额外能量补充，在膜层折射率、 应力、附着力、硬度和不溶性都会因基片温度的不同而有较 大差异 升温优点：
侧壁加热
1. 排除基片表面的剩余气体分子，增加基 片与沉积分子之间的结合力 2. 促使膜层物理吸附向化学吸附转化，增 加分子之间相互作用，使膜层紧密，附 着力增加，提高机械强度
[HOM2-N1]
[HOM2-L2]
[HOM2-F9C]
光学监控系统2
[HOM-P]投光器用电源 投光器用的电源。 在前面表示Lamp 电压、电 流、使用时间。 [HOM2-D]数据处理器 从分光器发出的光量电信 号、从投光器发出的参考 信号的光量値（电圧）输 送到PC。 [HOM2-U]Lens Unlt 把光投到监控玻璃、接 受反射光。
3. 真 空 室 内 部
4. 坩 埚 种 类
环形坩埚
点坩埚
确 认 坩 埚 位 置
松开联轴器螺丝，调整编码器位置， 直到补偿数字为0，然后锁紧螺丝
ห้องสมุดไป่ตู้
标
准
确认坩埚台中心、坩埚、电子束蒸发源是否在一条直线上
5. 电 子 枪 原 理 及 作 用
电子枪是加速电子轰击靶 并发光的一种装置，它发 射出具有一定能量、一定 束流以及速度和角度的电 子束，电子受栅极电位的 影响，在阳极加速电压下 形成汇聚的电子束，在磁 场作用下电子束得到进一 步聚焦并偏转180°或 270°射入装有镀膜料的坩 埚中，其动能变成热能使 蒸镀材料蒸发沉积于基片 上形成薄膜
成膜时通过观察窗可了解真空室内的情况
2. 遥 控 盒 功 能



MASK NO下降、EX抬起 SHUTTER IB:离子源挡板开关 EB1:电子枪1挡板开关 EB2:电子枪2挡板开关 HEARTH HEARTH1:左坩埚台旋转 HEARTH2:右坩埚台旋转 DOME ROTATION 工件盘 顺时针方向旋转 工件盘 逆时针方向旋转
光控投光器电源 光控数据处理器 触摸屏 电脑显示器及主机 真空显示器 膜厚控制仪
电子枪控制器
RF离子源控制器
Gener 电 控 柜 总 图
充氧压力控制器 监控片和工件盘 的加热丝电流
紧急停止按钮
其它部分与OTFC 电控柜相同
GL离子源控制器
光学监控系统1
[HOM2-N]分光器 [HOM2-L]投光器 [HOM2-F] Fiber 将Fiber 接受到的光分光后、 卤素灯投光器。 将投光器投出的光送Lens 转变成电信号。 投光的同時输出参考信号。 Unlt。接受到的光送到分 光器。
9. 光 学 监 控 系 统
光控电源及数据处理器
光量曲线
分光器及投光器
实时监测光反射率（或透射率）的变化，并 将实时反射率（或透射率）数据提供给主机， 从而实现薄膜的光学厚度控制 。 电脑(相当于人体大脑)根据光学膜厚计提 供的反射率实时变化曲线，在反射率变化到 事先设定的停止位置的一瞬间停止材料蒸镀， 从而得到所需要的膜厚。
Mass Flow Controller 3 line
AMVG-600RUN2 Matching Box
AX-1000Ⅲ RF Generator离子源
目前，我司使用的冷冻机有两种， Telemark和Polycold
在一个完全封 闭的环境下， 通过压缩机制 造循环，并使 用特殊配方的 介质，从而使 电能转化为热 能，达到制冷 和化霜的功能。
镀膜前确认上、下犄角是否平行，水平
松开此螺丝调节犄角平行度
标 准
松开螺丝后犄角下方垫铜片， 确保犄角的水平
标 准
镀膜前电子枪注意事项

80mm



铝箔包住
确认坩埚挡板高度是 否80mm 坩埚挡板打开角度90 左右 坩埚挡板架子需要包 铝箔 镀膜之前用吸尘器吸 取灰尘，确保真空室 内部清洁
挡板角度打开90左右
真空腔体 抽气以及排气系统 真空测量仪器 全自动蒸发控制系统 真空室加热、基板系统 基板高速旋转机构 电子束蒸发系统 RF射频离子源 高精度光学监控系统 石英晶振以及速率监控系统 真空压力自动控制系统 冷却水压缩空气系统 冷凝器
一、 真 空 腔 体
1. 观 察 基 板 窗 口
观察基板窗口
观察蒸发源
电子枪控制器
离子源控制器
真空计种类
BPG:热 电离真 空计
PEG:冷 电离真空 计
SC1：爱 发科真空 计
SC2： 管道真 空计
抽气以及排气硬件系统-（图1）
高真空阀
粗抽阀 排气管道 油吸附塔
高真空阀
FV阀 罗茨泵
油扩散泵
机械泵
PLC抽气以及排气软件系统（图2）
真空泵
1.
机械泵
2.
罗茨泵
监控片及工件盘加热 3. 减少蒸汽分子再结晶温度与基片温度之 间的差异，提高膜层致密度，增加硬度， 消除内应力 真空室门加热
温度过高弊端：使膜层结构变化或膜料分解
11. 真 空 室 内 部 相 关 部 件
百叶窗
冷凝管
防止膜料污染到 真空室 主阀盖
工件盘 （DOME）
二、 OTFC 电 控 柜 总 图
3.
扩散泵
机械泵


作用： 前期抽气,为达到低真空的设备. 还是罗茨泵的前级泵 原理：建立在玻意耳-马涅特定律的基 础上的。PV=K（P-压强 V-体积 K-温 度）
罗茨泵

作用：用来提高中间压力范围的抽气量 原理：罗茨泵是一种无内压缩的真空泵 ，通常压缩比很低，故高、中真空泵需 要前级泵。罗茨泵的极限真空除取决于 泵本身结构和制造精度外，还取决于前 级泵的极限真空。为了提高泵的极限真 空度，可将罗茨泵串联使用。
电子束蒸发示意图
电子枪总装图
电子枪 1
真空室
扫描控制器
电子 枪 2
电子枪电控柜
控 制 系 统
低压导 入端子
高压导 入端子
电子枪种类
c型枪蚊香形灯丝
C 型枪
电子束蒸发源种类:
e型枪U字形灯丝
e 型枪
•电子束偏转角度180°，运行轨迹为“C”的C型枪 •电子束偏转角度270°，运行轨迹为“e”的e型枪
6. 离 子 源 的 作 用
1.清洁基片表面
2.夯实膜层，使其致密
3.提高膜牢固度
离子源辅助电子束示意图
离子源种类
中和器
RF 离子源
GL 离子源
镀膜前离子源注意事项



用角度仪确认离子源的 水平及内外角度 确认坩埚挡板高度 离子源挡板打开角度 离子源挡板架子需要包 铝箔 确认地线是否连接（共 三根）