玻璃表面化学深蚀刻的工艺原理与操作方案
蚀刻生产的流程与工艺
蚀刻生产的流程与工艺蚀刻生产流程与工艺蚀刻是一种常用的制造工艺，用于在金属、玻璃、陶瓷等材料表面形成精细的花纹、文字或图案。
蚀刻生产流程主要包括图案设计、制作蚀刻板、蚀刻加工和后处理等环节。
下面将详细介绍蚀刻生产的流程与工艺。
1. 图案设计蚀刻生产的第一步是进行图案设计。
设计师根据客户的要求和产品的特性，使用计算机辅助设计软件绘制出所需的图案。
图案设计要考虑到材料的可蚀刻性、蚀刻深度和线条粗细等因素，以确保最终的效果符合要求。
2. 制作蚀刻板在图案设计完成后，需要将图案转移到蚀刻板上。
蚀刻板通常采用金属材料，如铜、锌或铝。
制作蚀刻板的方法有很多种，常用的包括化学腐蚀、激光刻蚀和机械雕刻等。
其中，化学腐蚀是最常用的方法。
首先，在蚀刻板上涂覆一层感光胶，然后将设计好的图案通过照片曝光的方式转移到感光胶上，再用化学液腐蚀掉未曝光的部分，最后清洗干净即可得到蚀刻板。
3. 蚀刻加工蚀刻加工是蚀刻生产的核心环节。
首先，将蚀刻板固定在蚀刻设备上，并调整好刀具的位置和深度。
然后，将工件放置在蚀刻设备的工作台上，并固定好。
接下来，通过控制蚀刻设备的移动和刀具的进给，使刀具按照预定的路径在工件表面进行切削，形成所需的图案。
蚀刻加工时间的长短取决于蚀刻深度和图案的复杂程度。
4. 后处理蚀刻加工完成后，需要进行后处理以提高产品的质量和美观度。
后处理的方法有很多种，常用的包括去除蚀刻残渣、打磨、抛光和防锈等。
首先，使用化学溶液或机械方法去除蚀刻残渣，使产品表面平整光滑。
然后，对产品进行打磨和抛光，以提高光泽度和触感。
最后，对产品进行防锈处理，延长其使用寿命。
总结起来，蚀刻生产流程与工艺主要包括图案设计、制作蚀刻板、蚀刻加工和后处理等环节。
通过精细的设计和加工，蚀刻生产可以在各种材料上实现精美的图案和文字，广泛应用于工艺品、装饰品和标识等领域。
随着科技的进步，蚀刻技术也在不断发展，使得蚀刻生产更加高效、精确和多样化，满足了人们对个性化和独特性的需求。
玻璃表面蚀刻的原理
玻璃表面蚀刻的原理热度 6已有 84 次阅读2010-10-23 17:15|个人分类:理论和实践|玻璃表面化学深蚀刻的工艺原理与操作方案2007-12-17 18:57本文对平板玻璃表面化学蚀刻做一些较为通俗的理性论述:一、化学蚀刻的原理：我们知道玻璃属于无机硅物质中的一种，非晶态固体。
易碎；透明。
它与我们的生活密不可分，现代人已不再满足于物理式机械手段加工的艺术玻璃制品，更致力于用多种化学方式对玻璃表面进行求新求异深加工，以求得到更好的视觉享受，从而使玻璃产品的附加值再度得到提高. 例如对玻璃表面进行化学粗化[蒙砂；玉砂]，化学深蚀刻[凹蒙；冰雕]，化学抛光及其它工艺，本文论述的重点将是玻璃化学的氧化与还原反应的构造及工艺操作控制性。
对于玻璃蚀刻液中起氧化反应的物质是选择纯液质的能与玻璃起氧化反应的可以是H2SO4; HCL, HNO3. 它们能与玻璃中的硅原子发生氧化作用, 形成SIO2, 做为蚀刻液中设定的络合剂氢氟酸正好能将SIO2再次分解, 从而形成我们设计的化学反应程式,达到对玻璃表面进行蚀刻的目地。
例如程式:a:3SI+4HNO3=3SIO2+2H2O+4NO b:SIO2+6HF = H2[SIF6]+2H2O对玻璃蚀刻液配制可以展现的物质性质包含氧化剂;络合剂;缓冲剂;催化剂;附加剂;表面活性剂;酸雾抑制剂. 如下再例:氧化剂： H2SO4 ; HCL ; HNO3;还原剂： HF缓冲剂： H2O; CH3COOH;催化剂： NH4NO3; CuSO4; NaNO2; AgNO3;附加剂： Br2酸雾抑制剂： FC-129; FC-4; FT248TM 湿润活性剂 ; 长直链烷基TH系；烷基酚聚氧乙烯醚按重量百分比配制玻璃蚀刻液可以视深蚀刻、浅蚀刻及抛光要求对蚀刻液中各物质百分比投料进行调整. 如下续例:缓冲剂--------------------------------------- 40----67%氧化剂--------------------------------------- 15----38%络合剂--------------------------------------- 27----45%催化剂--------------------------------------- 0.03---0.06附加剂--------------------------------------- 0.05---0.1表面湿润活性剂--------------------------- 0.04酸雾抑制剂----------------------------------0.003重度蚀刻液中氧化剂控制在20%左右; 值得提醒的是被蚀刻的玻璃凹面呈抛光状态的控制是将缓冲剂的量放在60%左右. 若冰棱小可适量提高络合剂比例上升4%—8%左右.对于玻璃表面化学抛光方案另再续实例如下:1: 100g五倍子酸 + 305ml乙醇胺 + 140ml水 + 1.3g吡嗪 + 0.24mlFC1292: 60ml49%HF +30mlHNO3[69%] +30ml/5ml/LCrO3 +2gCu[NO3]+ 60ml CH3COOH + H2O 60ml3: 100gH2O+ 40% HF36g + 68%HNO3 + NaNO2 0.03g + 0.24mlFC--3或0.02gFT248 4: 50g HNO3[68%] + 30gHF {55%} + CH3 COOH 30 g+ 0.6gBr2对于以上各种化学配比希望操作人再次调试以获得良好结构比,满足工艺要求！二、关于对玻璃表面蚀刻的冰棱大小及深度的调整方案∶1: 蚀刻深度较理想，但冰棱较小或没有？解决方案: 对全量加入5%—16%络合剂适量调整。
玻璃蚀刻工艺流程
玻璃蚀刻工艺流程步骤玻璃蚀刻是一种常用的玻璃加工技术，通过化学溶液对玻璃进行蚀刻，以实现在玻璃表面刻出所需花纹或图案的目的。
下面将详细描述玻璃蚀刻的工艺流程步骤，以确保流程清晰且实用。
1. 设计准备首先，需要进行设计准备工作，明确蚀刻的花纹或图案。
可以使用计算机图形设计软件进行设计，也可以手绘设计稿。
设计稿中的线条或图案需要清晰，同时需要考虑蚀刻的可行性。
2. 材料准备选择合适的玻璃材料进行蚀刻。
常用的玻璃材料有透明玻璃、磨砂玻璃等。
根据设计要求，选择合适的玻璃材料。
3. 蒙版制作将设计好的图案或花纹转换为蚀刻蒙版，以便在玻璃表面形成图案。
蚀刻蒙版可以使用光刻胶、胶膜等材料制作。
将蚀刻蒙版固定在玻璃表面，并确保蒙版与玻璃表面接触紧密，以防止溶液渗透。
4. 蚀刻设备准备准备蚀刻设备，常见的蚀刻设备有酸蚀刻设备和激光蚀刻设备。
酸蚀刻设备主要是通过溶液对玻璃表面进行蚀刻，而激光蚀刻设备则是通过激光束对玻璃进行刻蚀。
根据实际情况选择合适的蚀刻设备。
5. 蚀刻过程控制5.1. 清洗玻璃表面在进行蚀刻之前，需要先清洗玻璃表面，以去除尘埃、油脂等杂质。
可以使用洗涤剂和水来清洗玻璃表面，然后用干净的布擦拭干燥。
5.2. 控制蚀刻时间根据蚀刻的要求，控制蚀刻的时间。
蚀刻时间过长会使蚀刻深度过大，而时间过短则无法达到蚀刻的效果。
在蚀刻过程中，可以根据蚀刻深度的情况，适时调整蚀刻时间。
5.3. 监测蚀刻过程蚀刻过程中，需要不断监测蚀刻的进展情况。
可以使用显微镜等工具观察蚀刻的效果，以确保蚀刻深度和图案的质量。
5.4. 洗净玻璃表面蚀刻完成后，需要对玻璃表面进行清洗。
将玻璃浸泡在清洗液中，用软毛刷清洗玻璃表面，然后用水冲洗干净。
6. 后处理蚀刻完成后，还需要进行一些后处理工作，以提高蚀刻效果的质量和保护玻璃表面。
6.1. 研磨和抛光蚀刻完成后的玻璃表面可能存在一些毛刺或粗糙的情况。
可以使用研磨和抛光工具对玻璃表面进行处理，使其光滑平整。
玻璃化学蚀刻
玻璃蚀刻指用氢氟酸腐蚀玻璃，形成图案。
将玻璃涂上石蜡，然后用工具在石蜡上刻画图案，再往上面涂上氢氟酸，就能得到玻璃蚀刻图案。
下面就让广德均瑞电子科技为您简单解析，希望可以帮助到您！
过程：清洗板材(不锈钢其它金属材料)---烘干---涂布---曝光--- 显影--蚀刻--脱膜
玻璃表面化学加工
用氢氟酸对玻璃制品的局部表面进行腐蚀，在其表面刻画出各种花纹、图案、刻度、格子等。
化学蚀刻过程是现在需蚀刻的玻璃表面涂上保护漆或石蜡。
然后放入氢氟酸和少量NH4F组成的蚀刻液，
玻璃表面层与氢氟酸作用，生成的氟化物溶解在蚀刻液中或沉积在玻璃表面。
广德均瑞电子科技有限公司注册资金500万人民币，拥有不锈钢五金蚀刻加工独立法人环评资质，厂房面积2000平方米，6条不锈钢生产线，公司销售生产管理人员均超十年不锈钢蚀刻生产加工经验。
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化学蚀刻工艺
化学蚀刻工艺导言：化学蚀刻工艺是一种通过化学反应来去除材料表面的特定区域的工艺。
它广泛应用于半导体制造、电子元件制造、光学器件制造等领域。
本文将介绍化学蚀刻工艺的基本原理、工艺流程以及应用领域等内容。
一、基本原理化学蚀刻工艺基于材料与特定蚀刻液之间的化学反应。
在蚀刻液中，特定的化学物质可以与材料表面发生反应，使得表面的材料被溶解或转化为其他物质。
通过控制蚀刻液的成分、浓度、温度和蚀刻时间等参数，可以实现对材料表面的精确蚀刻。
二、工艺流程化学蚀刻工艺通常包括以下几个步骤：蚀刻前处理、掩膜制备、蚀刻过程和后处理。
1. 蚀刻前处理：在进行化学蚀刻之前，需要对待蚀刻材料进行预处理，以确保材料表面的纯净度和平整度。
常见的蚀刻前处理方法包括清洗、去除氧化层等。
2. 掩膜制备：在需要保护的区域上制备一层掩膜，以防止蚀刻液对此区域的侵蚀。
掩膜通常采用光刻技术制备，即使用光刻胶和光刻机将图案转移到待蚀刻材料表面。
3. 蚀刻过程：将待蚀刻材料浸泡在预先调配好的蚀刻液中，使其与蚀刻液进行反应。
蚀刻液的选择与待蚀刻材料的性质密切相关，常见的蚀刻液包括酸性、碱性和氧化性溶液等。
蚀刻时间的控制非常重要，过长或过短的蚀刻时间都会导致蚀刻效果不理想。
4. 后处理：蚀刻完成后，需要对样品进行清洗和去除掩膜等后处理工序。
清洗可以去除蚀刻液残留，而去除掩膜可以使得样品的表面完整。
三、应用领域化学蚀刻工艺在各个领域都有广泛的应用。
1. 半导体制造：化学蚀刻工艺是半导体制造中不可或缺的工艺之一。
通过化学蚀刻，可以在晶圆表面形成导电层、绝缘层、衬底等结构，实现电路的功能。
2. 电子元件制造：化学蚀刻工艺可用于制备电子元件的金属线路、电容器等。
通过控制蚀刻液的选择和蚀刻条件，可以实现微米级或纳米级的精确蚀刻。
3. 光学器件制造：光学器件制造中的光栅、反射镜等结构常常需要使用化学蚀刻工艺来实现。
化学蚀刻可以精确控制光学器件的形状和尺寸，提高光学性能。
玻璃的表面化学深蚀刻的工艺原理与其操作方案
玻璃的表面化学深蚀刻的工艺原理与其操作方案发布日期：2010-5-15 2:57:46 | | 来源：admin一、化学蚀刻的原理：我们知道玻璃属于无机硅物质中的一种,非晶态固体。
易碎;透明。
它与我们的生活密不可分,现代人已不再满足于物理式机械手段加工的艺术玻璃制品,更致力于用多种化学方式对玻璃表面进行求新求异深加工,以求得到更好的视觉享受,从而使玻璃产品的附加值再度得到提高. 例如对玻璃表面进行化学粗化[蒙砂;玉砂],化学深蚀刻[凹蒙;冰雕],化学抛光及其它工艺,本文论述的重点将是玻璃化学的氧化与还原反应的构造及工艺操作控制性。
对于玻璃蚀刻液中起氧化反应的物质是选择纯液质的能与玻璃起氧化反应的可以是H2SO4; HCL, HNO3. 它们能与玻璃中的硅原子发生氧化作用,形成SIO2, 做为蚀刻液中设定的络合剂氢氟酸正好能将SIO2再次分解, 从而形成我们设计的化学反应程式,达到对玻璃表面进行蚀刻的目地。
例如程式:a:3SI+4HNO3=3SIO2+2H2O+4NO b:SIO 2+6HF = H2[SIF6]+2H2O对玻璃蚀刻液配制可以展现的物质性质包含氧化剂;络合剂;缓冲剂;催化剂;附加剂;表面活性剂;酸雾抑制剂. 如下再例:氧化剂：H2SO4 ; HCL ; HNO3;还原剂：HF缓冲剂：H2O; CH3COOH;催化剂：NH4NO3; CuSO4; NaNO2; AgNO3;附加剂：Br2酸雾抑制剂：FC-129; FC-4; FT248TM 湿润活性剂; 长直链烷基TH系; 烷基酚聚氧乙烯醚按重量百分比配制玻璃蚀刻液可以视深蚀刻、浅蚀刻及抛光要求对蚀刻液中各物质百分比投料进行调整. 如下续例:缓冲剂--------------------------------------- 40----67%氧化剂--------------------------------------- 15----38%络合剂--------------------------------------- 27----45%催化剂--------------------------------------- 0.03---0.06附加剂--------------------------------------- 0.05---0.1--------------------------- 0.04酸雾抑制剂----------------------------------0.003重度蚀刻液中氧化剂控制在20%左右; 值得提醒的是被蚀刻的玻璃凹面呈抛光状态的控制是将缓冲剂的量放在60%左右. 若冰棱小可适量提高络合剂比例上升4%—8%左右.对于玻璃表面化学抛光方案另再续实例如下:1: 100g五倍子酸+ 305ml乙醇胺+ 140ml水+ 1.3g吡嗪+ 0.24mlFC1292: 60ml49%HF +30mlHNO3[69%] +30ml/5ml/LCrO3+2gCu[NO3]+ 60ml CH3COOH + H2O 60ml3: 100gH2O+ 40% HF36g + 68%HNO3 + NaNO2 0.03g +0.24mlFC--3或0.02gFT2484: 50g HNO3[68%] + 30gHF {55%} + CH3 COOH 30 g+0.6gBr2对于以上各种化学配比希望操作人再次调试以获得良好结构比,满足工艺要求！二、关于对玻璃表面蚀刻的冰棱大小及深度的调整方案∶1: 蚀刻深度较理想,但冰棱较小或没有？解决方案: 对全量加入5%—16%络合剂适量调整。
玻璃体的蚀刻原理与应用
玻璃体的蚀刻原理与应用1. 玻璃体蚀刻的基本原理蚀刻是一种在表面上进行化学或物理处理的技术，通过使用一种腐蚀剂或激光等工具，可以在玻璃体表面刻上各种形状、图案或文字。
蚀刻工艺在玻璃器皿的制作、电子元件的加工和装饰品的设计等方面都有广泛的应用。
玻璃体的蚀刻主要基于以下原理：1.化学蚀刻：通过与玻璃表面发生化学反应，溶解或腐蚀玻璃表面，实现蚀刻效果。
化学蚀刻通常使用酸性或碱性的蚀刻液，其中酸性蚀刻液常用的有氢氟酸、硫酸、硝酸等；碱性蚀刻液常用的有氢氧化钠、氢氧化钾等。
2.物理蚀刻：通过物理方法将玻璃体表面的材料移除，实现蚀刻效果。
常用的物理蚀刻方法包括激光蚀刻、喷砂蚀刻和机械蚀刻等。
蚀刻过程中，需要注意蚀刻液的浓度、温度和蚀刻时间等参数的控制，以获得所需的蚀刻效果。
2. 玻璃体蚀刻的应用领域玻璃体蚀刻在各个领域都有重要的应用，主要包括以下几个方面：2.1 玻璃器皿制作蚀刻技术可用于玻璃器皿的制作，例如玻璃杯、花瓶、酒具等。
通过在玻璃表面进行蚀刻，可以刻上各种图案、文字或纹理，增加器皿的美观性和独特性。
2.2 电子元件加工蚀刻技术在电子元件加工中也有广泛应用。
例如，在半导体器件制造过程中，常使用化学蚀刻方法去除多余的材料，形成不同的电极、导线或阻焊层等。
2.3 装饰品设计玻璃体蚀刻被广泛应用于装饰品的设计和制作。
通过蚀刻技术，可以在玻璃体上刻上各种图案、文字或浮雕，制作出具有艺术性和独特风格的装饰品，例如玻璃摆件、首饰等。
2.4 玻璃艺术品创作蚀刻技术在玻璃艺术品的创作中起到了重要的作用。
艺术家可以通过蚀刻技术在玻璃表面刻上各种形状、图案或文字，使作品表现出独特的视觉效果和艺术感。
2.5 光学元件加工在光学领域，玻璃体蚀刻常被用于光学元件的加工。
通过控制化学或物理蚀刻过程，可以制作出具有特定形状和表面特性的光学元件，例如透镜、棱镜等。
3. 玻璃体蚀刻技术的发展趋势随着科学技术的不断进步和应用需求的增加，玻璃体蚀刻技术也在不断发展。
玻璃加工中的玻璃蚀刻制作技术
玻璃加工中的玻璃蚀刻制作技术玻璃蚀刻是一种通过化学反应将玻璃表面腐蚀掉一层，从而形成图案或文字的制作技术。
这种技术在玻璃装饰、玻璃艺术品、广告牌、指示牌等方面得到了广泛的应用。
本文将介绍玻璃蚀刻制作技术的基本原理、工具及步骤。
一、基本原理蚀刻技术是一种化学反应，它将混合酸液溶解掉玻璃表面的一层，让其与玻璃本体不同的质感和颜色形成对比。
其原理是通过将氢氟酸（HF）和硝酸（HNO3）混合，制成一定的浓度，使其具有相对稳定的腐蚀性。
当玻璃表面涂上特制的玻璃蚀刻膜后，亦即刻膜与表面形成化学键，是蚀刻液只影响铝箔不能影响其余玻璃。
此时，让其在蚀刻腐蚀液中短暂停留，等待表面形成一定程度的凹陷后，将玻璃蚀刻液冲洗掉，然后用水清洗，将蚀刻膜清除即可完成整个制作过程。
二、工具及材料玻璃蚀刻工具简单而实用，基本上只需要以下几样：1. 玻璃蚀刻喷雾器：其中，玻璃蚀刻液通常为霧狀，需通过喷雾器均匀喷涂。
2. 蚀刻刀和蚀刻锉：用于将玻璃蚀刻膜制成所需要的形状。
3. 清洁剂、抹布和水：用于清洗喷嘴和工作表面。
三、步骤制作玻璃蚀刻涂层的步骤如下：1. 深入了解要制作的图案或字体并制定方案。
2. 清洗玻璃，并在其表面上喷上玻璃蚀刻涂层。
这里的关键是均匀地涂布蚀刻涂层。
3. 根据设计要求将蚀刻涂层蚀刻掉要展示出来的部分。
这里涉及到刻膜制作的过程。
4. 在刻膜形成后，将玻璃置于玻璃蚀刻液中，直到表面形成凹陷为止。
5. 将蚀刻液冲洗掉，并用清水清洗玻璃，以防蚀刻液残留在表面。
6. 将蚀刻涂层涂抹在玻璃上。
7. 将玻璃静置一段时间使其干燥。
最后，可以根据需要用油漆来突出和描绘蚀刻图案。
总结以上就是玻璃蚀刻制作技术的基本原理、工具及步骤。
玻璃蚀刻是基于化学反应的一种玻璃加工技术，通过将玻璃表面腐蚀掉一层，从而形成图案或文字。
通过了解蚀刻的基本原理，加工过程中的所有环节都将变得比较简单。
希望通过本文的介绍能够对大家有所帮助。
玻璃湿法刻蚀
玻璃湿法刻蚀1. 简介玻璃湿法刻蚀是一种常见的玻璃加工技术，通过使用化学溶液对玻璃进行刻蚀，以实现形状、图案和纹理等多种效果。
湿法刻蚀是一种非接触式的加工方法，可以在不损坏玻璃表面的情况下改变其外观。
2. 刻蚀原理湿法刻蚀的原理是利用化学溶液对玻璃表面进行局部溶解，从而改变其形状。
通常使用的刻蚀溶液主要包括氢氟酸（HF）和硝酸（HNO3）。
氢氟酸具有强烈的腐蚀性，可以与玻璃表面发生反应，而硝酸则可以提供氧化剂，促进反应的进行。
在刻蚀过程中，首先将玻璃样品浸入刻蚀溶液中，然后通过控制溶液的浓度、温度和时间等参数来控制刻蚀速率和深度。
初始时，溶液会迅速侵蚀玻璃表面，形成一个均匀的刻蚀层。
随着刻蚀的进行，刻蚀层会逐渐变厚，溶液在刻蚀层上方形成一层保护膜，限制了刻蚀速率。
最终达到所需的刻蚀深度后，将样品从溶液中取出并清洗干净。
3. 刻蚀参数在进行湿法刻蚀时，需要控制一系列参数来实现所需的加工效果。
常见的刻蚀参数包括：•刻蚀溶液浓度：溶液浓度会直接影响刻蚀速率和深度。
较高的浓度会加快刻蚀速率，但也增加了对操作人员的安全风险。
•刻蚀溶液温度：温度对刻蚀速率有显著影响。
通常情况下，温度越高，刻蚀速率越快。
•刻蚀时间：时间决定了最终的刻蚀深度。
根据需要可以调整时间来控制加工效果。
•操作环境：湿法刻蚀需要在特定的实验室环境中进行，确保操作人员的安全和加工质量。
4. 应用领域湿法刻蚀技术在玻璃加工领域有广泛的应用。
以下是一些常见的应用领域：4.1 美术与装饰湿法刻蚀可以在玻璃表面刻出各种图案、花纹和文字，用于美术品和装饰品的制作。
通过控制刻蚀参数，可以实现不同深度和形状的刻蚀效果，为玻璃制品增添艺术感。
4.2 光学元件湿法刻蚀也被广泛应用于光学元件的制造过程中。
通过在光学玻璃表面进行微米级别的刻蚀，可以改变其折射率、表面形貌等性质，从而实现特定的光学功能。
4.3 硅片加工除了玻璃，湿法刻蚀也被应用于硅片加工过程中。
玻璃的表面化学深蚀刻的工艺原理与其操作方案
玻璃的表面化学深蚀刻的工艺原理与其操作方案发布日期：2010-5-15 2:57:46 | | 来源：admin一、化学蚀刻的原理：我们知道玻璃属于无机硅物质中的一种,非晶态固体。
易碎;透明。
它与我们的生活密不可分,现代人已不再满足于物理式机械手段加工的艺术玻璃制品,更致力于用多种化学方式对玻璃表面进行求新求异深加工,以求得到更好的视觉享受,从而使玻璃产品的附加值再度得到提高. 例如对玻璃表面进行化学粗化[蒙砂;玉砂],化学深蚀刻[凹蒙;冰雕],化学抛光及其它工艺,本文论述的重点将是玻璃化学的氧化与还原反应的构造及工艺操作控制性。
对于玻璃蚀刻液中起氧化反应的物质是选择纯液质的能与玻璃起氧化反应的可以是H2SO4; HCL, HNO3. 它们能与玻璃中的硅原子发生氧化作用,形成SIO2, 做为蚀刻液中设定的络合剂氢氟酸正好能将SIO2再次分解, 从而形成我们设计的化学反应程式,达到对玻璃表面进行蚀刻的目地。
例如程式:a:3SI+4HNO3=3SIO2+2H2O+4NO b:SIO2 +6HF = H2[SIF6]+2H2O对玻璃蚀刻液配制可以展现的物质性质包含氧化剂;络合剂;缓冲剂;催化剂;附加剂;表面活性剂;酸雾抑制剂. 如下再例:氧化剂：H2SO4 ; HCL ; HNO3;还原剂：HF缓冲剂：H2O; CH3COOH;催化剂：NH4NO3; CuSO4; NaNO2; AgNO3;附加剂：Br2酸雾抑制剂：FC-129; FC-4; FT248TM 湿润活性剂; 长直链烷基TH系; 烷基酚聚氧乙烯醚按重量百分比配制玻璃蚀刻液可以视深蚀刻、浅蚀刻及抛光要求对蚀刻液中各物质百分比投料进行调整. 如下续例:缓冲剂--------------------------------------- 40----67%氧化剂--------------------------------------- 15----38%络合剂--------------------------------------- 27----45%催化剂--------------------------------------- 0.03---0.06附加剂--------------------------------------- 0.05---0.1--------------------------- 0.04酸雾抑制剂----------------------------------0.003重度蚀刻液中氧化剂控制在20%左右; 值得提醒的是被蚀刻的玻璃凹面呈抛光状态的控制是将缓冲剂的量放在60%左右. 若冰棱小可适量提高络合剂比例上升4%—8%左右.对于玻璃表面化学抛光方案另再续实例如下:1: 100g五倍子酸+ 305ml乙醇胺+ 140ml水+ 1.3g吡嗪+ 0.24mlFC1292: 60ml49%HF +30mlHNO3[69%] +30ml/5ml/LCrO3+2gCu[NO3]+ 60ml CH3COOH + H2O 60ml3: 100gH2O+ 40% HF36g + 68%HNO3 + NaNO2 0.03g +0.24mlFC--3或0.02gFT2484: 50g HNO3[68%] + 30gHF {55%} + CH3 COOH 30 g+0.6gBr2对于以上各种化学配比希望操作人再次调试以获得良好结构比,满足工艺要求！二、关于对玻璃表面蚀刻的冰棱大小及深度的调整方案∶1: 蚀刻深度较理想,但冰棱较小或没有？解决方案: 对全量加入5%—16%络合剂适量调整。
深硅刻蚀工艺原理
深硅刻蚀工艺原理深硅刻蚀(Silicon Deep Etching)是一种用于微纳加工的关键工艺。
它可以在硅片上进行高精度、高深度的刻蚀，用以制造微纳米器件，如微机电系统(MEMS)、传感器、光子器件等。
深硅刻蚀工艺的原理基于湿法刻蚀和干法刻蚀两种方法。
湿法刻蚀是深硅刻蚀的主要原理之一、湿法刻蚀使用一种含有刻蚀剂的溶液，通过溶液与硅表面发生化学反应来刻蚀硅。
湿法刻蚀的刻蚀速度取决于刻蚀剂的浓度、温度、流速等因素。
深硅刻蚀中常用的刻蚀剂有氢氟酸(HF)、氢氧化钾(KOH)和氢氟酸和硝酸(HNO3)的混合物。
在湿法刻蚀过程中，硅表面上的氧化物层会起到保护作用，防止刻蚀剂直接与硅接触。
刻蚀剂通过破坏氧化物层将硅暴露出来，然后溶解硅。
由于刻蚀剂是从硅片的正面和背面进行刻蚀，因此可以实现较大的深度刻蚀。
干法刻蚀是另一种深硅刻蚀的重要原理。
干法刻蚀与湿法刻蚀不同，它不使用溶液来刻蚀硅表面，而是通过气相刻蚀来进行。
干法刻蚀常用的刻蚀气体有氢氟酸、氯化氢和氧化硅等。
干法刻蚀通常利用高能离子束轰击硅表面，将硅表面的原子击碎并氧化，然后通过氧化物在高温下与离子反应生成气体，将离子弹射离开硅表面，从而实现刻蚀作用。
干法刻蚀具有高速度、高精度和高均匀性等优点。
深硅刻蚀的工艺流程一般包括掩膜定义、刻蚀准备、刻蚀、刻蚀终结和清洗等步骤。
首先，通过光刻技术在硅片上定义出掩膜，掩膜上有所需刻蚀的结构。
然后，在刻蚀准备中，对硅片进行表面处理，以去除氧化层和其他杂质。
接下来，进行刻蚀过程，可以采用湿法刻蚀或干法刻蚀，根据需要选择刻蚀剂和刻蚀条件。
刻蚀终结后，通过清洗去除残留的刻蚀剂和刻蚀产物，以便进行下一步的加工或测试。
深硅刻蚀工艺的应用非常广泛。
它可以制造微纳米的光学元件，如光纤阵列、波导、光栅等。
它还广泛用于制造MEMS器件，如惯性传感器、声波传感器、加速度计等。
此外，深硅刻蚀还可以制造微电子器件、太阳能电池组件、生物芯片等。
蚀刻工艺原理
蚀刻工艺原理蚀刻工艺是一种常见的微纳加工技术，广泛应用于半导体、光学器件、传感器等领域。
蚀刻工艺的原理是利用化学溶液或等离子体对材料表面进行加工，从而实现微纳米级的结构加工。
本文将介绍蚀刻工艺的原理及其在微纳加工中的应用。
蚀刻工艺的原理主要包括化学蚀刻和物理蚀刻两种方式。
化学蚀刻是利用化学溶液对材料表面进行溶解，从而实现加工的目的。
而物理蚀刻则是利用等离子体或离子束对材料表面进行加工，通过物理碰撞或能量转移来改变材料表面的形貌。
两种蚀刻方式都能够实现微纳米级的加工精度，但其加工速度和加工适用材料有所不同。
化学蚀刻的原理是利用化学溶液中的特定成分对材料表面进行溶解。
在蚀刻过程中，化学溶液中的特定成分会与材料表面发生化学反应，从而使材料表面发生溶解或化学变化。
常见的化学蚀刻溶液包括酸性溶液、碱性溶液和氧化剂等。
不同的化学蚀刻溶液对不同材料具有特定的选择性，可以实现对特定材料的精确加工。
物理蚀刻的原理是利用等离子体或离子束对材料表面进行加工。
在物理蚀刻过程中，等离子体或离子束会对材料表面施加能量，从而使材料表面发生物理碰撞或能量转移。
通过控制等离子体或离子束的能量和方向，可以实现对材料表面的精确加工。
物理蚀刻通常用于对硬脆材料的加工，如硅、玻璃等。
蚀刻工艺在微纳加工中具有重要的应用价值。
通过蚀刻工艺，可以实现对微纳米结构的精确加工，包括微孔、微槽、微柱等结构的加工。
这些微纳结构在半导体器件、光学器件、传感器等领域具有重要的应用，如微型芯片、光栅结构、微流控芯片等。
蚀刻工艺还可以实现对材料表面的改性，如表面的疏水处理、光学薄膜的制备等。
总之，蚀刻工艺是一种重要的微纳加工技术，其原理包括化学蚀刻和物理蚀刻两种方式。
通过蚀刻工艺，可以实现对微纳米结构的精确加工，具有广泛的应用前景。
随着微纳加工技术的不断发展，蚀刻工艺将在更多领域发挥重要作用。
玻璃的刻蚀原理
玻璃的刻蚀原理玻璃的刻蚀是一种常用的表面处理方法，用于在玻璃上创建不同的纹理、花纹或图案。
刻蚀是通过使用化学物质对玻璃进行腐蚀的过程，使其表面产生微小的凹凸结构。
玻璃刻蚀的原理可以分为两个步骤：选择刻蚀剂和控制刻蚀条件。
首先，要选择适合的刻蚀剂。
刻蚀剂是一种能够与玻璃表面发生反应的化学物质。
常用的刻蚀剂包括氢氟酸、硫酸、氢氯酸等。
这些刻蚀剂具有不同的腐蚀性能和速率。
通常，刻蚀剂的选择取决于所需的刻蚀速率，以及对玻璃表面的要求。
例如，若需要刻蚀出较深、明显的纹理，则使用腐蚀性较强的刻蚀剂；若需要刻蚀出较浅、细腻的纹理，则使用腐蚀性较弱的刻蚀剂。
其次，要控制刻蚀条件。
刻蚀条件包括刻蚀剂的温度、浓度和刻蚀时间等因素。
这些因素将直接影响刻蚀速率和刻蚀质量。
通常情况下，刻蚀速率与刻蚀剂的浓度和温度呈正相关关系。
较高的浓度和温度将加快刻蚀速率，但也会增加玻璃表面的不均匀性和毛刺。
刻蚀时间则是控制刻蚀深度的重要参数，不同的刻蚀时间将产生不同程度的刻蚀效果。
刻蚀过程中，刻蚀剂与玻璃表面发生一系列的化学反应。
通常情况下，刻蚀剂中的酸性物质与玻璃表面的硅元素发生反应，生成一种可溶解的化合物。
该化合物溶解于刻蚀剂中，同时释放出气体或液体。
这个过程称为亨利律(Henry's Law)。
亨利律表明，在刻蚀剂对于刻蚀物质的溶解度是有限的条件下，刻蚀速率与刻蚀剂中的反应物浓度和玻璃表面反应物浓度之间的差异成正比。
因此，在刻蚀过程中，如果不断向刻蚀液中添加新的刻蚀剂，可以维持较高的刻蚀速率。
此外，刻蚀还需要考虑到玻璃表面的保护。
通常会在玻璃表面涂覆一层保护膜，以避免刻蚀剂直接接触玻璃表面。
这种保护膜可以是一种化学物质，如胶体尘埃、聚合物或二氧化硅薄膜等。
这样可以防止刻蚀剂对玻璃表面进行腐蚀，同时也有助于形成更加均匀的刻蚀效果。
综上所述，玻璃的刻蚀原理是通过选择刻蚀剂和控制刻蚀条件来实现的。
刻蚀剂与玻璃表面发生化学反应，产生可溶解的化合物，通过调节刻蚀剂的浓度、温度和刻蚀时间等参数，可以控制刻蚀速率和刻蚀深度。
玻璃蚀刻工艺流程
玻璃蚀刻工艺流程
《玻璃蚀刻工艺流程》
玻璃蚀刻是一种将酸性蚀刻剂应用于玻璃表面，使其产生图案或文字的工艺。
玻璃蚀刻可以用于装饰、标识、艺术品制作等领域，具有独特的美观效果。
下面将介绍玻璃蚀刻的工艺流程。
首先，需要准备好蚀刻设备和工具，包括酸性蚀刻剂、刻刀、模板或者防蚀胶等。
在进行蚀刻之前，要确保工作环境通风良好，并戴上防护眼镜和手套，以防止蚀刻剂对身体造成伤害。
接下来，将模板或者防蚀胶固定在玻璃制品表面，以防止蚀刻剂腐蚀到不需要处理的部分。
然后使用刻刀或者其他工具，根据设计要求在玻璃表面刻画出需要蚀刻的图案或文字。
在刻画完毕后，将蚀刻剂均匀地涂抹在玻璃表面，然后等待一定的时间让蚀刻剂发挥作用。
待蚀刻时间到达后，将玻璃制品清洗干净，去除蚀刻剂和防蚀胶或模板，露出蚀刻后的图案或文字。
最后，对蚀刻后的玻璃制品进行清洁和抛光处理，使其表面更加光滑和美观。
这样一件精美的玻璃蚀刻制品就完成了。
总的来说，玻璃蚀刻工艺流程包括准备设备和材料、刻画图案、涂抹蚀刻剂、清洗和抛光等步骤。
通过这些流程，可以制作出精美的蚀刻玻璃制品，给人们带来美的享受和艺术享受。
玻璃蚀刻线的工作流程
玻璃蚀刻线的工作流程玻璃蚀刻线是一种使用化学方式在玻璃表面进行蚀刻处理的生产线。
它广泛应用于玻璃制品的生产过程中，包括玻璃面板、玻璃器皿等领域。
玻璃蚀刻线能够在玻璃表面制造出不同的图案、文字和图形，从而提高玻璃制品的附加值。
下面我们将详细介绍玻璃蚀刻线的工作流程。
第一步：准备工作在使用玻璃蚀刻线进行工作之前，需要对设备进行准备工作。
首先是清洁工作，在蚀刻线的工作区域内清理杂物、尘土等。
然后对设备进行检查，确保设备正常运转。
对于化学品的使用，也需要进行相关的配制和准备工作，确保能够正常使用。
第二步：设计图案在进入蚀刻线的加工之前，需要先设计好需要在玻璃上进行蚀刻的图案。
这一步通常由专业的设计师完成，他们会根据客户的要求设计出相应的图案。
设计图案的软件通常包括AutoCAD、CorelDRAW等，设计师可以根据客户的需求选择合适的软件进行设计。
第三步：图案输出设计好的图案需要通过打印或者传输的方式输出到蚀刻线的控制系统中。
这一步通常使用打印机将设计好的图案在特定的胶片上输出，然后将胶片放置在蚀刻线的曝光机中进行进一步的处理。
在曝光机中，胶片上的图案会被转移到光敏胶上，形成一个蚀刻模板。
第四步：蚀刻加工蚀刻线的工作中，蚀刻加工是最核心的部分。
在蚀刻加工前，需要将玻璃进行清洁、除尘等前期工作。
然后将蚀刻模板放置在玻璃表面，通过化学的方式进行蚀刻处理。
蚀刻处理的时间和温度都需要严格控制，以确保蚀刻效果的质量。
蚀刻完成后，需要对玻璃进行清洁处理，将蚀刻过程中的残留物清洗干净。
第五步：后续加工经过蚀刻处理的玻璃需要进行后续的加工处理，以满足客户的需求。
比如说，需要对蚀刻玻璃进行抛光、上光等工艺处理。
这一步可以根据客户的需求进行个性化的加工，使得蚀刻玻璃更加具有吸引力。
第六步：检测修磨整个蚀刻线的工作流程结束之后，需要对产品进行检测和修磨处理，确保产品的质量。
检测的方式可以根据需要选择，包括目视检查、尺寸测量、功能测试等多种方式。
氢氟酸刻蚀玻璃方程式
氢氟酸刻蚀玻璃方程式全文共四篇示例，供读者参考第一篇示例：氢氟酸刻蚀玻璃，是一种常见的玻璃加工技术，通过使用具有强腐蚀性的氢氟酸来腐蚀玻璃表面，实现对玻璃进行精确而细致的刻蚀。
这种技术在玻璃微加工、显示器制造、光学仪器制造等领域有着广泛的应用。
氢氟酸刻蚀玻璃的原理是利用氢氟酸与玻璃表面发生化学反应，形成氟化硅等化合物，从而使玻璃表面被溶解掉。
氢氟酸对玻璃具有很强的腐蚀性，可以在较短的时间内实现较深的刻蚀，为玻璃加工提供了高效、精细的解决方案。
氢氟酸刻蚀玻璃的过程中，需要控制氢氟酸的浓度、温度、刻蚀时间等参数，以确保刻蚀的效果和精度。
一般来说，氢氟酸的浓度越高，刻蚀速度越快，但也会加剧玻璃表面的粗糙度。
温度的控制可以影响刻蚀的速度和平整度，通常在较高的温度下刻蚀速度更快。
氢氟酸刻蚀玻璃的过程中还需要考虑对操作人员的安全和环境的保护。
氢氟酸是一种具有毒性、腐蚀性的化学品，操作时需佩戴好防护用具，如眼镜、手套等，避免直接接触皮肤和眼睛。
在废液处理方面，需要采取相应的措施，以确保废液不会对环境造成污染。
氢氟酸刻蚀玻璃的过程中还需要考虑对生产设备的要求。
一般来说，刻蚀设备需要具备耐腐蚀性能，以防止氢氟酸对设备造成损坏。
设备还需要具备精度高、稳定性好的特点，以确保刻蚀后玻璃表面的质量。
在实际应用中，氢氟酸刻蚀玻璃广泛应用于各种领域。
在光学器件制造领域，氢氟酸刻蚀可以用来制作微型透镜、光栅等光学元件；在液晶显示器制造领域，氢氟酸刻蚀可以用来制造像素阵列、导光板等组件；在生物医学领域，氢氟酸刻蚀可以用来制作微米级的生物芯片等。
氢氟酸刻蚀玻璃是一种高效、精细的玻璃加工技术，具有广泛的应用前景。
随着科技的不断发展和进步，氢氟酸刻蚀玻璃技术将会不断得到改进和完善，在更多领域展现出其强大的应用价值。
希望通过不断的研究和实践，氢氟酸刻蚀玻璃技术能够为人类社会的发展做出更大的贡献。
【文章结束】第二篇示例：氢氟酸刻蚀玻璃是一种常用的工艺方法，用于制作微细结构和花纹。
玻璃蚀刻工艺流程
玻璃蚀刻工艺流程1. 概述玻璃蚀刻是一种常用的工艺，用于在玻璃表面刻上图案或文字。
蚀刻后的图案具有美观、耐久的特点，广泛应用于装饰、标识、艺术品等领域。
本文将详细描述玻璃蚀刻的工艺流程和步骤。
2. 设计图案在进行玻璃蚀刻之前，首先需要设计图案。
可以使用计算机辅助设计（CAD）软件进行设计，也可以手绘图案。
设计时需要考虑图案的大小、形状、线条粗细等因素，并确保图案与玻璃表面相适应。
3. 制作模板制作模板是为了将设计好的图案转移到玻璃上，可以使用多种方式制作模板：3.1 薄膜模板将设计好的图案打印在透明胶片或者特殊材料上，然后将胶片粘贴在玻璃表面，并使用剪刀或者刀具将图案剪下。
3.2 蜡纸模板将设计好的图案打印在一张普通纸上，然后将蜡纸放在图案上，用铅笔或者其他工具描绘图案的轮廓线，使蜡纸上的蜡沾满整个图案。
3.3 喷墨模板使用喷墨打印机将设计好的图案直接喷印在特殊的模板材料上，然后将模板材料粘贴在玻璃表面。
4. 准备工作在进行玻璃蚀刻之前，需要做一些准备工作：4.1 清洁玻璃表面使用清洁剂和软布清洁玻璃表面，确保表面干净无尘。
4.2 贴好胶带在玻璃边缘贴好胶带，以保护边缘不被蚀刻液侵蚀。
4.3 准备蚀刻液根据实际需要选择合适的蚀刻液，并按照说明书中的比例调配好。
5. 蚀刻操作进行蚀刻操作时需要注意安全事项，佩戴手套、护目镜等防护装备。
下面是具体的操作步骤：5.1 固定模板将制作好的模板固定在玻璃表面，可以使用胶水或者胶带固定。
5.2 涂刷蚀刻液使用刷子或者喷枪将蚀刻液均匀涂刷在模板上，确保涂层厚度均匀。
5.3 等待蚀刻根据蚀刻液的说明书，等待足够的时间让蚀刻液起作用。
通常需要几分钟到几小时不等。
5.4 清洗玻璃将玻璃放入清水中，用软布轻轻擦洗表面，清除残留的蚀刻液和模板。
5.5 去除模板将模板从玻璃表面轻轻剥离，注意不要损坏蚀刻后的图案。
5.6 完成品质检查检查蚀刻后的图案是否符合设计要求，如果有缺陷可以进行修复。
化学蚀刻工艺
化学蚀刻工艺
化学蚀刻工艺是一种常见的制造工艺，它可以用于制造各种精密零件和电路板。
化学蚀刻工艺的原理是利用化学反应来去除材料表面的一部分，从而形成所需的形状和结构。
化学蚀刻工艺的步骤通常包括以下几个方面：
需要准备好所需的材料和化学药品。
通常使用的化学药品包括酸、碱、氧化剂等。
这些化学药品需要按照一定的比例混合，并加热至一定温度，以便发挥最佳的蚀刻效果。
需要将待加工的材料放入蚀刻槽中。
蚀刻槽通常是由耐酸碱的材料制成，如玻璃、陶瓷等。
在放入材料之前，需要先将其表面清洗干净，以去除表面的油污和杂质。
然后，将蚀刻槽中的化学药品加热至一定温度，并将材料浸泡在其中。
在浸泡的过程中，化学药品会与材料表面发生反应，从而去除表面的一部分材料。
这个过程需要控制好时间和温度，以确保蚀刻的深度和形状符合要求。
将蚀刻后的材料取出，并进行清洗和处理。
清洗的目的是去除表面的化学药品残留和杂质，以免影响后续的加工和使用。
处理的方式根据具体的要求而定，可以进行抛光、电镀、喷涂等处理，以达到所需的表面质量和功能。
总的来说，化学蚀刻工艺是一种非常重要的制造工艺，它可以用于制造各种精密零件和电路板。
在实际应用中，需要根据具体的要求和材料特性来选择合适的化学药品和工艺参数，以确保蚀刻的效果和质量。
同时，也需要注意安全和环保，避免化学药品对人体和环境造成危害。
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解决方案: a: 试加10%络合剂 b: 试加8%氧化剂 c: 试加30%络合剂及18%氧化剂。
5: 深度和冰棱都理想,就是凹面不亮？
解决方案: 对全量加入12%—25%缓冲剂并适量延长蚀刻时间约30—50min即可。
6: 环境气味太重可添加FC129, 对全量加入0.03—0.05%。
6: 冬天化学蒙砂的反应速度太慢的解决方案是在池液中适量添加55%HF与氧化剂即可大大提快蒙砂速度,平置琳砂法的解决方案是在平池上端安装数个浴霸红外线灯泡,使被淋砂物质有温度提升,导至蒙砂时间提速, 提高产效.
7: 夏天蒙砂后的玻璃板面易出现象泪痕似的花道, 解决方案例如改变蒙砂粉配比结构, 不用H2SO4而选用31%HCL, 这个原理是可大大减缓蒙砂速度, 导至不易产生二次水道性再蚀刻。
事隔月把,我为所里试制出第一桶丝网型可剥离拷贝油墨,为此全所上下还开了个茶杯表彰会,会上我快活地龇牙咧嘴一个劲嘿嘿嘿……也许是受神经质感染,大伙会也都呵呵呵……嘿嘿嘿……嘿嘿喷了水的刘好被揪着耳朵乱嚼妈呀哎呀…….闭会后财会老杨给了我一个信封,里头妈哎齐唰唰三张崭新一百的…呵呵呵……有意思……倒赚150…
说巧成书就此将黄金凹蒙加工技术献给<<艺术玻璃>>的读者您:
具体操程序如下:
1. 准备材料如下:a凹蒙玻璃,b空白丝网c丝网网刮d较宽幅单面胶带e空气喷枪f玻璃色漆g 拷贝油墨
2. 用空白丝网将拷贝油墨印刷在凹蒙玻璃背面上,
3. 自然干燥大约30---50分钟,
4. 用空气喷枪将有色的玻璃漆均匀喷涂到干燥的拷贝油墨面上,
1：无论平置淋砂法或垂直浸泡法,在蒙砂之前必须将玻璃制品进行彻底脱脂清洗,并视工艺状态,决定是否用水喷枪对已脱脂的玻璃表面再度冲淋, 方向可由上至下往复操作,
2: 在蒙砂池中发现有大量的白色结晶物, 但在蒙砂时间内操作后发现砂面上有针亮点, 可对蒙砂液直接适量添加36%HCL或H2SO4[96-98%]
3: 100gH2O+ 40% HF36g + 68%HNO3 + NaNO2 0.03g + 0.24mlFC--3或0.02gFT248
4: 50g HNO3[68%] + 30gHF {55%} + CH3 COOH 30 g+ 0.6gBr2
对于以上各种化学配比希望操作人再次调试以获得良好结构比,满足工艺要求！
附加剂： Br2
酸雾抑制剂： FC-129; FC-4; FT248TM 湿润活性剂 ; 长直链烷基TH系; 烷基酚聚氧乙烯醚
按重量百分比配制玻璃蚀刻液可以视深蚀刻、浅蚀刻及抛光要求对蚀刻液中各物质百分比投料进行调整. 如下续例:
缓冲剂--------------------------------------- 40----67%
附加剂--------------------------------------- 0.05---0.1
表面湿润活性剂--------------------------- 0.04
酸雾抑制剂----------------------------------0.003
重度蚀刻液中氧化剂控制在20%左右; 值得提醒的是被蚀刻的玻璃凹面呈抛光状态的控制是将缓冲剂的量放在60%左右. 若冰棱小可适量提高络合剂比例上升4%—8%左右.
对于玻璃表面化学抛光方案另再续实例如下:
1: 10 140ml水 + 1.3g吡嗪 + 0.24mlFC129
2: 60ml49%HF +30mlHNO3[69%] +30ml/5ml/LCrO3 +2gCu[NO3]+ 60ml CH3COOH + H2O 60ml
氧化剂--------------------------------------- 15----38%
络合剂--------------------------------------- 27----45%
催化剂--------------------------------------- 0.03---0.06
实际此结构形成的酸性决不比用31%的盐酸酸性低,不然你可以用酸度计测测看, 更不能空手去触摸蒙砂液, 纵其稳定性而言要比盐酸配比结构差15%性能, 其本身俱有爆炸物质特性, 干粉遇到有机物及油脂类结构,会自燃,并在一定PPM浓度中有爆炸的危险,蒙砂粉中的悬浮剂是有机物, 所以产品只能用双组份分开包装了. 硝酸胺属于一级危险品属特批专卖型, 它更是物流部门被严格禁止运输物品, 还望大家不用为好,一来节省点成本, 二来与危险品离的更远些！再则现在运管缉查官员罚款的权力可大的惊人…….
8: 本人认为较好的配方案本,要选用优质的性能稳定的化工原料,才可以配比出更好的蒙砂粉,每公斤蒙砂粉可长期有效地出产高质量玉砂玻璃在12—16平方米之多。而很差的配方及低劣原料配制出的蒙砂粉只能蒙出5--8平方米,易沉淀且隔天蒙砂池中就有大块结晶, 很不易捣碎更不容易被气管扬动。
通过本文上述中理论性论述, 能使无机硅发生氧化作用的原料自然离不开强氧化剂,所谓无酸结构纯粹是神奇的慌言,这种配方中案例指导把蒙砂粉分成甲、乙双组份, 甲组份自然是蒙砂干粉, 而乙组份自然只能属于干粉级强氧化剂,这种干粉级强氧化剂依次可纳入好几种原料.例如三氧化鉻. 高锰酸钾, 重鉻酸钾, 重鉻酸铵, 硝酸铵等…….., 通过实验,验证上述多种强氧化物在蒙砂液中能对玻璃起最佳氧化结构的是硝酸铵,它在蒙砂液中所占最佳的比例是∶ 蒙砂干粉∶硝酸铵∶自来水; 0.75 : 0.25 : 0.3—0.35。
二、关于对玻璃表面蚀刻的冰棱大小及深度的调整方案∶
1: 蚀刻深度较理想,但冰棱较小或没有？
解决方案: 对全量加入5%—16%络合剂适量调整。
2: 蚀刻深度不理想,但冰棱大小较合适？
解决方案: 对全量加入氧化剂3%—8%适量调整。
3: 深度好,但冰棱排列不齐整？
解决方案: 对全量加入缓冲剂10%,再次混合蚀刻液后静放5---12小时即可再加工操作。
5. 等待玻璃漆干燥{自干,烘干均可}
6. 用宽幅胶带紧密粘贴在干燥的油漆面上然后撕开即可,
7. 若不用胶带法,用平口刀片也可轻松除去凹蒙玻璃平面上所有的漆料。
8. 此法也适用于镀膜设备的再加工,
对于玻璃蚀刻液中起氧化反应的物质是选择纯液质的能与玻璃起氧化反应的可以是H2SO4; HCL, HNO3. 它们能与玻璃中的硅原子发生氧化作用, 形成SIO2, 做为蚀刻液中设定的络合剂氢氟酸正好能将SIO2再次分解, 从而形成我们设计的化学反应程式,达到对玻璃表面进行蚀刻的目地。例如程式:
a:3SI+4HNO3=3SIO2+2H2O+4NO b:SIO2+6HF = H2[SIF6]+2H2O
3: 在蒙砂池中发现白色的结晶物不多, 而且在蒙砂时间操作后发现砂面上有针亮点甚至有大面积未被中度蒙砂, 请直接在蒙砂池中添加蒙砂粉适量并少量添加氧化剂即可修正浓度。
4: 在蒙砂操作后倘若发现砂面上有大面积花斑斓癖点, 这是池液中氧化剂过量所至, 只需往池液中适量添加自来水并同时加入少量蒙砂干粉即可解决诸上所述毛病。
四、公开推出2006年极有可能风靡市场的黄金凹蒙玻璃新工艺技术
有一次等车恰巧就在玻璃店门口,我看见店里的老板娘,半弓着身子,左手端着油漆碗右手细巧地纂着根毛笔,往台案上的凹蒙玻璃凹陷处,小心翼翼地填着漆油.很慢很慢,过了会儿,我很是好奇地问:你这样填描一天能涂出多少平方这样的彩玻璃来?老板娘专注的思路也许给突然惊醒了,左手中漆碗颤动了一下,油漆瀑了出来,洒溅到玻璃及她地手上,慌了神她索性连漆碗都没有抓住,哎唷这衣袖口………,我涨红着脸,弯曲着腰慌张地直赔不是,她粉红色脸庞上那对杏仁眼愠怒地瞪视着我,眨也不眨…….最后赔了150块钱地我,从围观的人群缝中侧着身挤出,一路小跑蹿溜了. 嘿嘿……那么圆的眼睛……想起这事,至今心里也没翻出是啥个滋味来.
7: 药液还原比例:7:1法使络合剂与氧化剂新添入即时调整还原起始浓度。
8: 附加剂及催化剂定期少量加入可使蚀刻液保持敏感活度。
9: 定期对残液用5%—12% AL2[SO4]3,中和能使残液起死回生, 再度利用。
三、关于平板玻璃在浸泡法蒙砂过程中容易出现瑕癖的解决方案:
对玻璃蚀刻液配制可以展现的物质性质包含氧化剂;络合剂;缓冲剂;催化剂;附加剂;表面活性剂;酸雾抑制剂. 如下再例:
氧化剂： H2SO4 ; HCL ; HNO3;
还原剂： HF
缓冲剂： H2O; CH3COOH;
催化剂： NH4NO3; CuSO4; NaNO2; AgNO3;
本文对平板玻璃表面化学蚀刻做一些较为通俗的理性论述:
一、化学蚀刻的原理：
我们知道玻璃属于无机硅物质中的一种,非晶态固体。易碎;透明。它与我们的生活密不可分,现代人已不再满足于物理式机械手段加工的艺术玻璃制品,更致力于用多种化学方式对玻璃表面进行求新求异深加工,以求得到更好的视觉享受,从而使玻璃产品的附加值再度得到提高. 例如对玻璃表面进行化学粗化[蒙砂;玉砂],化学深蚀刻[凹蒙;冰雕],化学抛光及其它工艺,本文论述的重点将是玻璃化学的氧化与还原反应的构造及工艺操作控制性。
5: 倘若发现蒙砂后的板面上有无数多超细小白点, 这是说明池液中已有大量的六氟化硅积淀, 解决的方案A: 对总量而言加入10—16%AL2[SO4]3, 用气泵连续冲扬导使药液与AL2[SO4]3即时分解H2SIF6, 这个分解反应结果是可使大量的H2SIF6分解成少量的AL2[SIF6]3和H2SO4适量再添入NH4F2及少量的H2O即可使旧液复新。