电子束蒸汽镀膜
eb镀膜工艺技术
eb镀膜工艺技术EB镀膜工艺技术是一种常用于金属制品表面处理的技术。
EB 镀膜工艺技术是利用电子束的高能量和高速度来加热和蒸发源材料，并通过沉积在基材上形成涂层的一种工艺。
以下是对EB镀膜工艺技术的详细介绍。
EB镀膜工艺技术的基本原理是利用电子束的加热效应将源材料加热到脱离温度，使之发生蒸发和准分子的沉积在基材上。
在EB镀膜过程中，电子枪会产生高能量、高速度的电子束，通过聚束系统控制电子束的方向和强度，使其精确地击中源材料，使其蒸发。
同时，也可以通过调整电子束的参数来控制沉积速度和覆盖程度，从而得到不同厚度、不同性质的涂层。
EB镀膜工艺技术的优点在于可以在低温下进行镀膜，减少对基材的热影响和变形。
电子束的高速度也有利于获得致密均匀的涂层，提高镀膜质量。
此外，EB镀膜工艺技术还具有高沉积效率、良好的附着力、较高的硬度和耐磨性能等特点，使之在一些特殊领域，如航空航天、光学、电子等领域得到广泛应用。
EB镀膜工艺技术的应用范围广泛。
在航空航天领域，EB镀膜可用于制备高温氧化防护涂层，提高飞行器在极端环境下的耐火性能。
在光学领域，EB镀膜可用于制备反射镜、滤波器、光纤等光学器件。
在电子领域，EB镀膜可用于制备导电膜、抗腐蚀涂层等，提高电子器件的性能和稳定性。
尽管EB镀膜技术具有许多优点，但也存在一些挑战和问题需要解决。
首先，EB镀膜设备的成本较高，需要大量的能源消耗。
其次，镀膜过程中容易产生静电问题，影响涂层的质量和附着力。
此外，源材料的选择和品质也对涂层的质量和性能有重要影响。
综上所述，EB镀膜工艺技术是一种常用于金属制品表面处理的技术。
它通过利用电子束的高能量和高速度来加热和蒸发源材料，并通过控制电子束的参数来实现涂层的沉积。
EB镀膜工艺技术具有低温镀膜、高效率、优良的涂层质量等优点，广泛应用于航空航天、光学、电子等领域。
然而，其仍然面临着设备成本高、静电问题等挑战。
未来，随着技术的发展和创新，EB镀膜工艺技术有望在更多领域得到应用并取得更进一步的发展。
电子束蒸发镀膜
电子束蒸发镀膜
1、电子束蒸发镀膜：
电子束蒸发镀膜（EB PVD）是一项化学上优质、性能卓越的金属镀膜方法，它
利用电子束技术使金属材料蒸发，然后以无定形溅射的方式将浓度均匀的金属材
料形成镀膜在次底面上。
电子束蒸发镀膜使用的主要金属包括黄铜、锌、锡、铬、铝及不锈钢等。
2、适用范围：
电子束蒸发镀膜适用于精密机械、工具、航空航天、集装箱和运输设备、生物医学设备、精密光学仪器、特种电子元件及不同行业中所需要的高性能件。
3、优势：
电子束蒸发镀膜技术比其他镀膜技术具有更高的表面性能，如光泽度、耐蚀性、耐磨性等等，同时也可以产生较厚的镀层，此外，这种镀膜技术对金属蒸发源的
要求低，可以使用少量金属材料，并能够产生良好的附着力和均匀性。
4、操作方式：
电子束蒸发镀膜需要一台蒸发源，采用放电的方式加热蒸发源，使金属材料汽化，然后以精确的电子束缩短端部，使金属以无定形溅射的方式投射到次底面上，通过调整放电情况及电子束形成状态，使投射金属材料以薄层沉积在基体上，建立起人为制造的金属镀膜。
5、应用场景：
电子束蒸发镀膜的应用场景比较广泛，可以用于汽车用品、交通设施及装备的防腐防护；用于摩托车、船舶及飞机等运输工具的防腐涂层；用于电子器件、保险
丝及其他电子精密件的钝化防腐涂层；在厨具行业、医疗器械行业和汽车制造等行业也有着广泛应用。
蒸镀-电子束蒸镀原理及透明导电膜沉积介绍
ITO透明导电膜沉积分类
种类 方法 喷射法 化学方法 涂敷法 CVD(化学气相沉积) 热 CVD , 化学气相沉积) 具体方法 等离子 CVD , MOCVD(有机金属
真空蒸镀法 物理方法 A R E 法 ( 活性 反应离子镀) 溅射法
电阻加热蒸发,
EB 蒸发 ( 电子束蒸发) 微波, H CD
R F ( 高频离子镀) , ( 空心阴极离子镀) 高频二极, ( 液相溅射) ,பைடு நூலகம்直流磁控, 对向靶溅射
ITO蒸镀机 可置2"片 坩埚数
离子蒸镀机 载片方式 作用
金属蒸镀机
电子束蒸发
210pcs
40cc*4
公自转正放式
？
ITO蒸镀机
电子束蒸发 电子束+离子 源蒸发
180pcs
40cc*4
公自转正放式
？
离子蒸镀机
141pcs
40cc*10
公转背方式
？
第二节
ITO透明导电膜介绍
ITO膜定义
ITO膜 (即掺 SnO2的In2O3膜)具有优良的 导电性、较高的可见光区透过率，同时对 衬底具有很好的附着性和稳定性, 且容易 刻蚀形成透明电极图形；目前,ITO 靶是 制造高性能透明导电膜的最好材料，还没 有其他材料可代替。
电子束蒸发和离子源实物图和模拟图
电阻加热蒸发原理介绍
电阻加热用难熔的金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热 在它上方或置于坩埚中的蒸发物质电阻加热源，主要用于蒸发 Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料；
目前公司使用的蒸镀设备
金属蒸镀机 机台 腔体大小 ψ 1200 * 1000 mm H ψ 850 * 950 mm H ψ 1200 * 1000 mm H 镀膜方式
镀膜机工作原理
镀膜机工作原理
镀膜机是一种用于在材料表面镀覆一层薄膜的设备，其工作原理主要包括蒸发镀膜、溅射镀膜和化学气相沉积三种方式。
下面将分别介绍这三种镀膜机的工作原理。
蒸发镀膜是利用电子束、阴极电弧、离子束等能量源，将金属或非金属材料加热至其蒸发温度，使其蒸发成蒸汽，然后在基材表面沉积成薄膜的一种方法。
在蒸发镀膜过程中，材料被加热至蒸发温度后，蒸汽在真空环境中沉积到基材表面，形成一层薄膜。
这种方法适用于金属、氧化物、氮化物、碳化物等材料的镀膜。
溅射镀膜是利用离子轰击的方式，使靶材表面的原子或分子脱落，并沉积到基材表面形成薄膜的一种方法。
在溅射镀膜过程中，靶材表面被离子轰击后，部分原子或分子脱落并沉积到基材表面，形成一层薄膜。
这种方法适用于金属、半导体、绝缘体等材料的镀膜。
化学气相沉积是利用气相反应将气体中的原子或分子沉积到基材表面形成薄膜的一种方法。
在化学气相沉积过程中，反应气体通过化学反应生成活性物种，然后在基材表面沉积成薄膜。
这种方法
适用于金属、氧化物、氮化物、碳化物等材料的镀膜。
总的来说，镀膜机工作原理是利用不同的方法将材料蒸发、溅
射或化学反应后沉积到基材表面形成薄膜。
不同的工作原理适用于
不同的材料和要求，可以实现对材料表面性能的改善和功能的增强。
通过了解镀膜机的工作原理，可以更好地选择合适的镀膜方法和参数，从而实现对材料的有效镀膜，提高材料的性能和附加值。
Ebeam500电子束蒸发镀膜仪操作规程
Ebeam500电子束蒸发镀膜仪操作规程Ebeam500电子束蒸发镀膜仪操作规程一、操作规程1.开启循环冷却水两个水管开关与水管打到平行位置，冷却水箱电源开关打开。
2.样品取放电子束蒸发镀膜设备总电源打开，根据操作面板上的各指示灯信号检查设备状态；检查镀膜舱室是否打开，若上次镀完后未打开,样品室处于负压状态，需先放N2至样品室至常压，再打开样品室柜门送样。
放气：先打开放气阀开关（控制面板上有一个放气阀开的按钮），N2运输开关旋转向下至镀膜仪样品室，再打开N2瓶。
根据样品室声音判断状态，直至阀门栓自动松开，然后立刻关闭N2瓶总阀及运输开关转回到N2枪方向，再关闭放气阀开关（控制面板上放气阀关闭按钮））；取样：打开挡板（控制面板上挡板打开按钮），单手水平托住托盘轻轻旋转至脱离样品架卡口，将已经镀好的样品取出。
送样：将新硅片放在托盘上并将托盘的四个豁口卡在样品架支柱上。
然后关闭挡板（控制面板上挡板关闭按钮）。
检查坩埚靶材：面板膜厚控制仪区域power按钮打开，按start/begin，坩埚挡板自动打开，检查坩埚，如果正常，关闭power 键（挡板自动关闭）。
关闭样品室柜门：首先拧紧柜门两个紧固件，然后依次打开机械泵和电磁阀I，继续拧紧柜门两个紧固件直至柜门被紧紧吸住，等待柜门边缘上的漏气声音先变大后变小至消失，然后紧固件会自动松开，再进一步手动彻底松开两个紧固件。
3.抽真空打开控制面板真空计开关，等待右边真空计示数达到6Pa以下，关闭电磁阀I，依次打开电磁阀II，按控制面板下方分子泵控制器运行键，再去打开闸板阀，朝打开方向快速旋转直至听到“噹”声，之后继续开至最大（有阻力感），再返回一点。
此时分子泵控制器显示屏提示“转速追踪中…”，在转速达到10000转/分后，分子子泵显示屏将显示其转速、频率、电流和电压（分子泵满转速率是27000转/分；）。
然后再打开电离规真空计（真空计左边显示器：依次按功能、置数按钮打开）。
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄膜实验材料与方
较直观但是误差也是比较大的,不能定性的检测出镀铝膜的附着力大小,所以又使用 划痕仪对其进行附着力定性测试。最后对其进行耐腐
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
蚀性测试,使用的腐蚀剂是浓度为10%的NaOH溶液。 相关文章： 有机玻璃基材表面电子束蒸镀铬-铝-二氧化硅薄膜实验
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
膜的应用非常普遍,它已被广泛地应用于食品、医药、化工等产品的包装。镀铝膜 具有极佳的金属光泽和良好的反射性,具有优良的阻气
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
性、阻湿性、遮光性和保香性,而且还可以在一定程度上替代铝箔,不但节省了能源 和材料,还降低了商品包装成本。
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
(或升华),以原子、分子或原子团离开熔体表面,凝聚在具有一定温度的基片或工件 表面,并冷凝成薄膜的过程。电子束蒸发镀膜技术
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
就是其中一种比较成熟的工艺, 它主要有以下优点: (1) 电子束轰击热源的束流密度高,能获得远比电阻加热
牌610号压敏胶粘带,宽度为2.5cm,把大约15cm长的胶粘带贴在镀铝面上并用手指 压平,然后用一只手压住样品,另一只手
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
以180°匀速剥离胶粘带,用带强光的灯箱检验铝层脱落转移情况,剥离面积不大于 15%为合格。
虽然此方法比
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
演讲完毕，谢谢听讲!
再见，see you again
2020/11/11
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
电子束蒸发镀膜机安全操作及保养规程
电子束蒸发镀膜机安全操作及保养规程前言电子束蒸发镀膜机是用电子束热源蒸发待镀膜物质并在基底上形成薄膜的设备。
在使用过程中需要特别注意安全操作，同时加强设备的保养维护。
安全操作规程1.在使用前，需要对设备进行全面检查，检查相关部件是否齐全，是否有畸变损坏等情况，再进行操作。
2.在使用设备的过程中，注意关注设备运行状况，避免出现异常现象。
3.在使用设备时，要按照设备正常使用条件下的工作范围来进行操作。
不要超过设备限制的工作电压和电流，以及温度等范围，注意避免起火爆炸等危险。
4.在设备运行时，需要定期清除设备内的气体及杂质，保证设备的无菌环境。
定期清理设备内部杂质。
5.在设备中添加材料时，必须要严格检查材料本身的质量和化学成分，避免使用出现质量问题的材料。
设备保养规程1.设备需要定期进行清洗维护，保证设备的整体清洁度，便于使用与管理。
2.定期检查设备的各项性能指标，以及清洗设备内部各种零件，比如光源、反射器、转盘等，保证设备顺畅运行。
3.对于需要更换部件的设备，比如离心机、电机等，需要及时更换，不要拖延时间，否则可能会影响设备的使用效果。
4.针对设备操作人员，需要定期基础培训和进阶培训，保证操作人员能够熟练掌握操作技巧。
总结电子束蒸发镀膜机在实际生产和生活中，有着重要的应用价值。
尤其在机械加工、航空、电子产品等领域。
因此，对于使用这类设备时，安全和保养就显得尤为重要。
以上规程就是对于电子束蒸发镀膜机使用这方面的完善规范，建议大家都应该仔细阅读使用。
电子束蒸发镀膜
电子束蒸发镀膜
电子束蒸发镀膜是一种利用电子束技术进行表面调节的新型技术。
主要包括电子束沉积技术、电子的自由集束技术、固体分子束蒸发技术和蒸发镀技术等。
其最常见的应用是将金属材料蒸发后镀在特定表面，例如制造硬件零部件、半导体芯片、内部壁板绝缘子护套等。
电子束蒸发镀膜使用一种类似于电子枪的装置对材料进行蒸发，通过电子束的蒸发加热，调整表面的结构和表面物性，使其更加符合要求。
电子束蒸发镀膜技术的蒸发可以调节的参数比传统的蒸发镀技术要多，能产生覆盖更加均匀的薄膜。
其蒸发速率可以从千分之一米到千分之一米之间调整，并且可以控制密度和厚度，甚至可以获得不同部位具有不同厚度的带型折叠膜。
电子束蒸发镀膜技术可以应用于塑料表面、陶瓷表面、金属表面、玻璃表面等，也可以与聚合物表面相结合，以已有的表面调节技术来获得更高的耐磨性、耐腐蚀性和高荷重痛定力。
具有比其他技术更低的成本和更高的效率，因此受到广泛应用于汽车行业、家具配件行业和电子产品行业等。
电子束蒸发镀膜技术可以将金属蒸发膜覆盖在表面，具有抗腐蚀、耐磨、耐油污、坚韧度高、光滑度好等优点，有助于提高工件的使用年限。
此外，电子束蒸发镀膜技术的表面形貌精密，可以在膜层不太厚的情况下达到较高的耐磨强度，从而满足表面质量要求。
电子束蒸镀系统 技术指标
电子束蒸镀系统技术指标
1.电380V+/-10% 50Hz，5线制，每线电流小于50A
2.真空腔体和加载互锁真空室材质304不锈钢
3.真空计测量范围ATM to 5E-10 Torr
4.真空计精度10-9to 10-3Torr ±20% of reading 10-3to 100 Torr ±5% of
reading 真空计寿命3年以上
5.本底真空2E-7torr，工作真空5E-7torr
6.开机到工作真空所需时间< 35分钟
7.膜厚仪品牌INFICON，要求水冷，兼容八种材料（Ni Au Ti Ge Pt Pd Cr/Ni
Au/Sn）测量范围和精度速率0.1 Å/sec 膜厚0.1 Å
8.样品台尺寸2英寸以上，需兼容两英寸样品样品台旋转速度0-20rpm 八种
材料（Ni Au Ti Ge Pt Pd Cr/Ni Au/Sn）的薄膜均匀性对两英寸样品要求≦±3% 9.坩埚个数八，材料（Ni Au Ti Ge Pt Pd Cr/Ni Au/Sn）坩埚材质、Al2O3，Mo，
Graphite；尺寸7cc
10.电子枪美国TLI HCR/ Temescal CV-6，自动导位，6KW
11.样品清洁RF射频清洗13.56 MHz RF power 300W Ar气体
12.计算机一台，PC 软件：厂家配套镀膜控制软件控制系统功能全自动控制（含
手动选项），安全互锁，多级密码，人机界面。
电子束蒸镀MCP超薄防离子反馈膜及膜层特性分析
电子束蒸镀MCP超薄防离子反馈膜及膜层特性分析张太民;石峰;朱宇峰;李敏;聂晶;张妮;刘晓健;贺英萍【摘要】In order to study the properties of the ion barrier film of microchannel plate(MCP), the A12O3 ion barrier film was successfully fabricated on the input-face of MCP by the e-beam evaporating method. The optimal thickness of the ion barrier film was 2 nm. After measurement, the electron transmittance characteristics through the ion barrier film for unfilmed and filmed MCPs were shown. The relationship between the thickness of the ion barrier film and the dead voltage was given, the dead voltage of A12O3 ion barrier film with the thickness of 2 nm and 4 nm was 150 V and 200 V, respectively. The stopping function on incident ions was analyzed by Monte-Carlo method, the barrier rate for 2 nm and 4 nmA12O3 ion film was above 40% and 86% > respectively . Besides, the electrical characteristics of unfilmed MCP were tested, and the results showed that with the A12O3 ion barrier film of 2 nm and 4 nm, the electron gain of MCP reduced by 51% and 81% respectively.%为了进行MCP超薄防离子反馈膜的性能评价研究,并使这种膜层具有良好离子阻挡能力,利用电子束蒸发方法,在微通道板(MCP)输入面上制备一种超薄Al2O3防离子反馈膜,其膜层厚度为2 nm时仍连续致密.通过对Al2O3防离子反馈膜的电子透过特性测试,给出2 nm及4 nm厚防离子反馈膜对应的死区电压分别约为150 V及200 V；利用Monte-Carlo法模拟分析了Al2O3防离子反馈膜的离子阻挡特性,2 nm及4 nm厚Al2O3防离子反馈膜对碳离子等的阻挡率分别高于40％及86％,另外对有无膜的MCP电特性进行测试,可以看出镀2 nm及4 nm厚的膜后,MCP电子增益分别降低了51％及81％.【期刊名称】《应用光学》【年(卷),期】2012(033)006【总页数】5页(P1113-1117)【关键词】微通道板(MCP);Al2O3;防离子反馈膜;电子束蒸发【作者】张太民;石峰;朱宇峰;李敏;聂晶;张妮;刘晓健;贺英萍【作者单位】微光夜视技术重点实验室,陕西西安710065;北方夜视科技集团股份有限公司,云南昆明650223;微光夜视技术重点实验室,陕西西安710065;北方夜视科技集团股份有限公司,云南昆明650223;微光夜视技术重点实验室,陕西西安710065;北方夜视科技集团股份有限公司,云南昆明650223;微光夜视技术重点实验室,陕西西安710065;北方夜视科技集团股份有限公司,云南昆明650223;微光夜视技术重点实验室,陕西西安710065;北方夜视科技集团股份有限公司,云南昆明650223;微光夜视技术重点实验室,陕西西安710065;北方夜视科技集团股份有限公司,云南昆明650223;微光夜视技术重点实验室,陕西西安710065;北方夜视科技集团股份有限公司,云南昆明650223;微光夜视技术重点实验室,陕西西安710065;北方夜视科技集团股份有限公司,云南昆明650223【正文语种】中文【中图分类】TN146引言微通道板（MCP）是微光像增强器件中的核心部分，其信噪比、增益等性能决定着像增强器的相应性能［1－2］。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
8、调节调节光斑的位置和镀膜厚度（本实验设置为0.7kÅ，镀膜速度在4~5Å之间），打开挡板。
电子束加热蒸镀的特点是能获得极高的能量密度，最高可达l09w/cm2，加热温度可达3000～6000℃，可以蒸发难熔金属或化合物;被蒸发材料置于水冷的坩埚中，可避免坩埚材料的污染，制备高纯薄膜;另外，由于蒸发物加热面积小，因而热辐射损失减少，热效率高。但结构较复杂，且对较多的化合物，由于电子的轰击有可能分解，故不适合多数化合物的蒸镀。
三、仪器及设备
DZD500A电子束蒸发镀膜机玻璃片靶材橡胶球手套
四、实验操作步骤（括号里的时间为该操作所对应的时间）
1、打开冷水机的电源控制开关（空气开关），检查电源指示灯是否正常发光，如果正常正启动冷水机，注意能否听到水流声；
2、打开空气压缩机，将空气作为放气阀向真空室放气时的气源；该实验所用空气压缩机的最大气压可达0.7MPa，本实验中该空气压缩机提供的气压为，0.54MPa.注意打开空气压缩机后听是否有压缩机运转的声音。
海南大学材料与化工学院
专业实验报告
课程:材料表面工程学院：材料与化工年级/专业：10材料2班日期：2013年5月12日
实验名称
电子束蒸镀
教师签名
成绩
姓名、学号
同组人姓名、学号
实验报告包含以下7项内容：4、实验操作步骤；
1、实验目的；5、实验数据记录；
2、实验基本原理；6、实验结果与讨论
3、仪器及设备；7、存在的问题/收获；
9、镀膜结束后，减小束流电流至最小，关闭高压和挡板。关闭枪灯丝电流，偏转电源，电子枪总电源。
10、关闭分子泵（若出现短时报警为正常现象）、真空计（9:25:12）、机械泵。当分子泵完全停止工作时（9:37:17），打开放气阀向真空室放气，打开真空室，取出样品。
11、关闭真空室，用机械泵将真空室抽至低真空，关闭其他相关设备。
本实验要求在真空度为6.7x10-3pa以下进行，实际试验时的真空度为2.0x10-3pa，分子泵的转速为27000rad/min，通过控制x偏转电流和y偏转电流的大小，可以控制电子束扫描区域的大小，从而控制靶材蒸发的快慢，进一步控制镀膜速率。控制速率的大小能明显增大或者减小镀膜速率。束流大则镀膜速率大，束流小则镀膜速率小。
一、实验目的
1、了解电子束度镀膜的工作原理
2、了解电子束镀膜的操作规程
3、观察基体镀膜前后的外观
二、实验基本原理
电子束蒸镀是利用加速电子轰击镀膜材料，电子的动能转换成热能使镀膜材料加热蒸发，并成膜。电子束蒸发源由发射电子的热阴极、电子加速极和作为阳极的的镀膜材料组成。电子束蒸发源的能量可高度集中，使镀膜材料局部达到高温而蒸发。通过调节电子束的功率，可以方便地控制镀膜材料的蒸发速率，特别是有利于高熔点金属和化合物材料。
五、实验数据
室温：30.8°C膜厚：0.75
机械泵
时刻
用时
机械泵
Hale Waihona Puke 开始8:52:070
达到
8:57:08
5’01”
分子泵
启动
8:58:28
0
结束
9:04:53
6’25’’
高压
6.2kv
X-偏转电流
0.9A
Y-偏转电流
0.2A
枪灯丝电压
58V
枪灯丝电流
0.5A
六、实验结果
图2实验结果（黑线圈出的为实验所得样品）
七、存在的问题与收获
1、存在的问题：
个人觉得该真空镀膜机的靶台安装在真空室顶部，需要螺母固定的方法较为复杂，可以简化。可以在该位置制作一个弹性“└┘”槽，使用时可直接将镀靶台面朝下按放上去，并利用槽口的弹性卡住镀靶台，可以简便操作。
2、收获：
通过本次实验，我们初步了解了DZD500A电子束热蒸发镀膜机的构造以及工作原理，并初步掌握了其操作步骤以及镀膜的方法。同时，在实验中我们也提高了实践操作的能力，并为将来的实验室工作提供了宝贵的经验与教训。
3、打开电子蒸发镀膜机的电源（空气开关），可得到图1所示的操作界面。
4、点击放气阀对真空室放气，放弃完毕，关闭放气阀，打开电子蒸发镀膜机的真空室。
5、在真空室的正确位置安放玻璃（实验中的镀件）和不锈钢（实验中所镀的金属），点击操作界面的样品转架，后点击电子枪，将样品转架转至正确位置。
6、关闭真空室。点击机械泵（8:52:07），然后点击旁抽阀进行初步的抽真空至5Pa时（8:57:08），打开真空计，然后依次开前级阀，分子泵，和翻板阀。如气压不足，系统会发出警报，若3秒内停止报警，则属于正常现象，否则，应停止运行分子泵，检查机器的故障（8:58:28）。观察分子泵面板，此时显示转速8430r/s，频率130Hz，转速和频率稳定后，显示转速2700r/s，频率450Hz（即正常转速）（9:04:53）。
电子枪有直射式、环型和e型枪之分。本实验所用的电子枪为e型枪。对比与直射式的电子枪可节省距离，减小蒸镀设备的体积。
本实验所用e型电子枪结构如图所示。这种电子枪的优点之一就是可以通过对偏转磁场的控制来控制电子束轰击靶材的位置和蒸发速率，避免材料挖孔现象，而能均匀消耗材料。并且此种结构的电子枪，阴极灯丝设于结构体内，受到良好的屏蔽不易被污染，使其工作寿命较长。