厂务系统概述简单中文介绍PPT课件
电子工厂晶圆厂TFT厂面板厂厂务系统概述
Chemical
化学品 供应槽车
化学品 储槽
传送系统
供应槽
废液 回收槽
回收管线
使用点
VMB/P
分配系统 化学管路
3.10废水收集系统简略流程
Drain Pipe
机台 排放点
收集 管线
废水 处理厂
3.11废水处理系统简略流程
Waste Water Treatment
废水 收集槽
PH 调整槽
曝气槽
生物 接触槽
2.厂务系统使用材质
2.1水系统使用材质
PCW 制程冷却水
UPW/DIW 超纯水
Chill Water 冰水
RW 回收水
CW 自来水
SUS 304禁油处理/高压软管 CPVC/PVDF/PFA Tube SUS 304 SUS 304 SUS 304
2.2气体系统使用材质-(除特气外机台端都可能用Teflon软管)
污泥 脱水机
污泥 收集槽
沉淀槽
澄清槽
污泥饼 储槽
运弃
PH 反应槽 胶羽 凝结槽 Polymer
厂务系统概述
0.电子厂名言
0.电子厂名言
唯一的不变就是永远在变 唯一确定的就是还没决定
所以~接下来介绍的在现场都不是绝对的~
1.厂务系统功能
1.1水系统在制程中的功能
PCW 制程冷却水
UPW/DIW 超纯水
Chill Water 冰水
RW 回收水
CW 自来水
制程机台冷却 补水/清洗/稀释 冷却用冷源/空调用冰水 DI回收/冷凝回收/再生使用 原水/一般用水
DCC
板热
3.3纯水系统简略流程
City Water 自来水
厂务电力系统运行简介一期PPT课件
.
10
1 2 34 56
# # ## ##
变 变 变变 变变
.
压 压 压 压 压 压2
器 器 器器 器器
分合闸开关
小车操作孔 接地刀闸操作孔
10KV高压 配电柜
.
3
断电操作程序
高压柜的操作程序
1.操作仪表上合、分闸转换开关合断路器处于分闸位置，同时仪表板上的红灯灭， 绿灯亮，分闸成功。
2.将断路器手车摇柄插入摇柄插口，逆时针转动摇柄约二十圈，摇柄明显受阻并伴有 “咔嗒”声时取下摇柄，此时手车处于断开位置，二次插头锁定解锁。
6#变压器 ①B栋1F西侧无尘室、包装区用电。②B栋1F东侧仓库用电
.
9
配电设备运行中主要巡查事项
1、定时填写运行记录表、记录配馈电运行中的负载电流是否平衡，电压是否正常。
2、定时记录无功补偿柜功力因数表显示数值是否在设定范围，小于设定值时应及时查明原因。
3、检查电容柜运行中的各接线端、保险座、接触器是否正常，电容器外形膨胀、漏油。 4、检查变压器运行声响及绕组温度是否正常。 5、检查高压电压指示器及各配电柜开关状态指示灯是否正常指示。 6、仔细巡查运行电气是否有异常声响或异常气味，防止各种紧固螺丝松动造成电气故障。 7、检查运行中各开关接触点、电缆接线端子表面温度是否正常，有无过热及打火现象。
2.将接地开关操作手柄插入右下侧六角孔内，逆时针旋转，使接地处于分闸位置， 此时操作孔面板自动弹回遮住操作孔，柜下门被闭锁。
3.推服务小车使其定位,把手推车推入柜内使其在隔离位置,手动合上二次插头,关上手 车室门. 4.将断路器手车摇柄插入摇柄插口,顺时针转动摇柄约二十圈,摇柄明显受阻并伴有 “咔嗒”声时取下摇柄，此时手车处于工作位置，二次插被锁定，断路器手车主回路 接通，查看相关信号. 5.操作仪表上合、分闸转换开关使断路器合闸送电，同时仪表上绿灯灭，红灯亮， 此时合闸成功.
电子工厂-晶圆厂-TFT-厂-面板厂--厂务系统概述
板热
3.3纯水系统简略流程
City Water 自来水
DM Filter 去除钙镁
Decarbonator
去除CO2
WA Tower 去除碳酸钙
SA Tower 去除碳酸钙
RO Tank RO进水槽
Mixed Bed 去除SiO2
Permeate Pit
逆渗透底槽
RO Unit 逆渗透膜
Safety Filter 过滤器
GEX
机台出口 Damper
风管
Exhaust
风管
风机
大气
Others Exhaust
机台出口 Damper
风管
风机
Scrubber
大气
3.8真空系统简略流程
PV
制程机台 使用点
一/二次管 二次盘
真空管路
真空储槽
真空 Pump
HV
配置需求 使用点
开关盒
真空管路
真空 清洁储槽
真空 Pump
3.9化学系统简略流程
2.厂务系统使用材质
2.1水系统使用材质
PCW 制程冷却水
UPW/DIW 超纯水
Chill Water 冰水
RW 回收水
CW 自来水
SUS 304禁油处理/高压软管 CPVC/PVDF/PFA Tube SUS 304 SUS 304 SUS 304
2.2气体系统使用材质-(除特气外机台端都可能用Teflon软管)
冷冻式 干燥机
吸附式 干燥机
精密 过滤器
GN2/PN2
大气
氮气 产生器
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
液氮槽
蒸发器
使用点 减压站
一/二次管 二次盘
厂务系统概述简单中文介绍
清洁清洗/制程需求
1.4 真空系统在制程中的功能
PV 制程真空
HV 清洁真空
吸引搬移 尘屑吸引清洁
1.5 排气/排水系统在制程中的功能
Pump Line 制程高真空
Exhaust 排气系统
Drain 排水系统
制程转换之高真空建立 制程转换之废气排除 制程使用之废DI/Chemical排放
二、厂务系统使用材质
PN2 纯化氮气
SUS 316L EP
其他B-GAS 大宗气体
SUS 316L EP/PH2有时用双套管(EP/AP)
S-GAS 特殊气体
SUS 316L EP/双套管/加热套
2.3 化学系统使用材质
有机类 化学药品
一般酸碱 化学药品
其他 化学药品
溶剂类→SUS 316 BA H2SO4/NaOH→PVC/CPVC CPVC/PFA/PVDF/PTFE
厂务系统概述
目录 一、厂务系统功能 二、厂务系统使用材质 三、厂务系统流程
一、厂务系统功能
1.1 水系统在制程中的功能
PCW 制程冷却水
UPW/DIW 超纯水
制程机台冷却 补水/清洗/稀释
Chill Water 冰水
RW 回收水
冷却用冷源/空调用冰水 DI回收/冷凝回收/再生使用
CW 自来水
原水/一般用水
化学品 供应槽车
化学品 储槽
传送系统
供应槽
废液 回收槽
回收管线
使用点
VMB/P
分配系统 化学管路
3.10 废水收集系统简略流程
Drain Pipe
机台 排放点
收集 管线
废水 处理厂
3.11 废水处理系统简略流程
厂务系统：DC BANK系统简介
系統運作說明介紹 (HIM 控制面板)
HIM控制面板
1.運轉狀態指示燈
2.電流錶
PS:目前運轉狀態為(8) INV/AUTO BYPASS/SMC
1.當壓降系統時，會自動切至DC BANK運轉
3.頻率指示器
2.當INV系統故障時，會自動切至 SMC運轉
4.手動頻率調整器 人機介面
5.手動/自動切換鈕
系統運作說明介紹 (HIM 控制面板)
• 可作顯示單位更改設定 • D IS P L A Y顯 示P R O C E S S程序控制模式選擇架構圖
• 主參數群架構說明按 • 按E S C • *可修改各參數值內容程式參數設定
• PROGRAAM • 記憶模式
• EEPROM • 記 憶可改變密碼內容
Powerfully positioned ....
Volts / Hertz
Frequency Control w / Slip Compensation
Frequency / Speed Control Open or Closed Loop
High Torque Production
Speed / Torque Regulation Open or Closed Loop Dynamic Performance
• PAASSWORD ( 密碼模式) • 選擇此模式，是為了保護設定之參數，以防被修改設定值，除正確密碼外，不接受程
式設定，密碼從０－６５５３５可任意設定。（ＭＯＤＩＦＹ）修改密碼內容。（Ｌ ＯＧＩＮ）密碼模式接受進入程式修改設定模式和記憶模式。（ＬＯＧＯＵＴ）密碼 模式出來由程式修改設定模式和記憶模式。
DC BANK 之原理
(CHARGER&RTM)單線圖(如附圖,一)
IC FAB 厂务系统简介
IC FAB 廠務系統簡介2. Electrical power supply condition :2-1. Voltage & Loading :480V : 60Hz ±0.5Hz, 3 phase 4 wire（R,S,T,G）208V : 60Hz ±0.5Hz, 3 phase 4 wire（R,S,T,G）208V : 60Hz ±0.5Hz, 3 phase 5 wire（R,S,T,N,G）120V : 60Hz ±0.5Hz, 1 phase 3 wire（L,N,G）※If tool loading of 208V is greater than 400A, we suggest to use480V power source.※Process tool should follow IEEE standard 466 -electrical power voltage requirement.As attachment-1.2-2. Type :Normal Power : without supply when power outageEmergency Power : can sustain power failure more than 10 minutesDynamic UPS : continuously supply even thought power outage3. EMI：＜10mG dc &＜1mG ac, and maximum 0.2 mG variation over 5 minutes nearsensitive equipment.4. ESD：4-1. Raised floor and concrete floor = 10E6~5×10E8Ω/□4-2. Clean room wall = 10E6~5×10E8Ω/□4-3. Voltage : ＜100 V level4-4. Photo area : discharge time: +1000V to +100V under emitter＜40 sec.5. Grounding : ≦1Ω6. Noise : ≦60 NC7. Illumination : 750 ~ 800 lux for C/R；but photo area 500 ~ 600 lux with yellow light10. Drain :10-1.『HF-S Drain』: the waste water contain fluorine ion, [F-] ＞200 mg/l10-2.『HF-W Drain』: the waste water contain fluorine ion, [F-] ＜200 mg/l10-3.『IPA Waste』: the waste liquid contain IPA and concentration [IPA]＞80%10-4.『Solvent Waste』: the waste liquid contain solvent and concentration [Solvent] ＞80% 10-5.『DA（Waste Drain）』: DA is dedicated to followed condition.A. The waste water contain TOC and concentration [TOC]＞2mg/lB. The waste water contain acid or alkali but not first acid rinse waterC. Conductivity＞800μs/㎝but not first acid rinse water10-6.『FDA Drain』: is dedicated to first acid rinse water10-7.『DG（general drain）』: DG is dedicated to followed condition.A. The waste water doesn't contain fluorine ion.B. [TOC]＜2mg/lC. Conductivity＜800μs/㎝but not hot water10-8.『DAH Drain』: hot drain water with [TOC]＜2mg/l and conductivity＜800μs/㎝and without fluorine ion.10-9.『Oxide Slurry Drain』: is dedicated to CMP oxide waste water10-10.『Metal Slurry Drain』: is dedicated to CMP metal waste water10-11.『Cu-W Drain』: is dedicated to CMP copper waste water10-12.『Cu-S Drain』: is dedicated to electroplating waste for Cu process10-13.『H2SO4-S』: the waste liquid contain H2SO4 and concentration [H2SO4]＞80%10-14.『H3PO4-S』: the waste liquid contain H3PO4 and concentration [H3PO4]＞80%10-15. Other waste collection systems are dedicated to specialty chemical waste such as EKC, coater, T-12…etc.Typical Power Design Goals for Semiconductor Process Equipment Voltage: 120/208, 277/480 variations as defined by CEBMA curve (IEEE Standard 446)RCFSUB-FABExhaustMUAoutdoor airULPA ChamberEQ-2Clean RoomHc\潔淨室air 品質管理f2.PPT, @2002/01/08.Fab Air Quality ManagementSMIF FOUPEQ-1Local Chemical FilterRCFChemical Filtermicro-environment Chemical FilterMUA Chemical Filter23511. Wafer Operation Area.2. RCF CF 前.3. RCF CF 後.4. MUA CF 前.5. MUA CF 後.儀器與方法1. IMS. (HF,Cl2,NH4OH,VOC/ppb)2. TLD-1. (Cl2 / ppb)3. CCT/ERM. (Å/hr, Å/day)4. Cu/Silver Coupon. (Å/day, Å/week)5. Metal Wafer Queue Time.6. Others. (CD, Defect, Lens,…)1FFUChemical Filter11. Air Velocity.2. Temp./Humidity.333功能與應用1. 晶片保護. (Alarm, OCAP/MRB,…), [ERT]2. Chemical Filter 之Lifetime 管理. [治標]3. 污染洩漏源管理.(Pattern,Map,...) [治本]4. CR 微污染有效管理. (計劃實驗), [持續改善]5. MUA 空氣品質管理. [提昇品質]6. 人員衛生品質管理. [特殊應用]杜絕漏源人人有責4WwaferSMIF/FOUP: Standard Mechanical Inter-Face, Front Opening Unified Pod.Fab Layout (air quality monitor)15112552434323Hc\潔淨室air 品質管理5.ppt1. Wafer Operation Area.2. RCF/FFU CF 前.3. RCF/FFU CF 後.4. MUA CF 前.5. MUA CF 後.RCFSUB-FABExhaustMUAoutdoor airULPA ChamberEQ-2Clean RoomHc\潔淨室particl e 理f2.PPT, @2002/05/13.Fab Particle ManagementSMIF FOUPEQ-1231. Wafer Exposure Area.2. ULPA 後.3. Mfg Working Area4. MUA 後.儀器與方法1. Particle Counter. (.1um)2. Particle monitor. (.3um)3. Air Velocity Meter. (0.1-1m/sec.)4. Flow pattern monitor5. Smog Generator.6. De-bug Tool. (Item1,2 + CCTV)111. Air Velocity.2. Flow Pattern23功能與應用1. 晶片保護. (Alarm, OCAP/MRB,…), [ERT]2. Filter 之Lifetime 管理. [治標]3. Particle 來源管理.(Pattern,Map,...) [治本]4. CR 微塵有效管理. (計劃實驗), [持續改善]5. MUA Particle 品質管理. [提昇品質]微塵控管人人有責4Class 1@0.1um Class 0.1@0.1umClass 100T @0.3umClass 100, @0.3umWClass 10@0.1umWafer SMIF/FOUP: Standard Mechanical Inter-Face, Front Opening Unified Pod.Gerneral Fab Layout (particle monitor)15112523323Hc\潔淨室particl e 管理5.ppt1. Wafer Operation Area.2. Mfg Working Area.3. ULPA 前.4. ULPA 後.5. MUA 前.444。
厂务系统概述简单中文介绍课件
能源管理
通过节能技术和设备，降低工 厂能源消耗，提高能源利用效
率。
安全监控
通过视频监控、报警系统和安 全检查等手段，确保工厂的安 全生产和员工的人身安全。
厂务系统的重要性
提高生产效率
通过优化环境条件和设施管理 ，减少生产过程中的干扰因素
，提高生产效率。
降低运成本。
物联网技术
物联网技术的应用，实现了设备间的 互联互通，提高了数据共享和协同作 业的效率。
大数据分析技术
大数据分析技术的应用，对海量数据 进行挖掘和处理，为企业决策提供有 力支持。
云计算技术
云计算技术的应用，实现了数据的集 中存储和处理，提高了数据处理能力 和运营效率。
厂务系统的未来展望
更高效的生产管理
辅助设施系统
包括环保、安全、卫生等设施，保障工厂的正 常运行和员工的健康安全。
工业用厂务系统
服务于工业生产，要求高效率、低成本、可靠稳 定。
民用厂务系统
服务于居民生活，注重舒适、安全、环保等方面。
集中式厂务系统
将所有设施集中管理，便于统一调度和维护。
分布式厂务系统
将设施分散设置，便于灵活调整和扩展。
05
厂务系统的挑战与解决方案
厂务系统面临的挑战
技术更新快速
随着科技的不断进步，厂务系 统需要不断更新以适应新的需 求和技术。
高能耗与环境影响
许多厂务系统运行需要大量的能源 ，同时也会产生一定的环境影响， 如何实现节能减排是亟待解决的问 题。
数据安全问题
随着信息化程度的提高，数据安全 问题越来越突出，如何保障数据的 安全性和完整性成为一大挑战。
员工培训与素质提升
厂务系统的升级和变革需要员 工的支持和配合，如何提高员 工的技能和素质成为关键。
厂务系统介绍
FFU系统
在线显示FFU运行状态，可任意选择启停设置转速
14
排风系统
酸碱无机废气处理设备 有机废气处理设备
中康 中康
1 1
SEX-01 处理风量20000CMH，,电机功率18.5KW VEX-01 处理风量10000CMH，,电机功率11KW
15
P3 更衣间排风，P4气体间事故排风，后期与GDS系统联动，可根 据压差设置自动调整风机频率
6
空调系统
F5楼工程
7
空调系统
8
空调系统
9
空调系统
根据露点控制， 冬天 热水+加湿 运行需要尽量减少电加热开启
夏天 冷冻水+三维热管+电加热
10
空调系统
F5楼工程
11
FCU系统
显示各区域FCU运行状态，温湿度、房间压差情况
12
空调系统
可以看到这个区域的压差设定值及控制的风阀开度、温度设定及控制的水阀的开 度、风机的手自动状态及故障状态，在此界面里面可以设定所需的压差及温度、 13 可以切换成手动直接输入风阀及水阀的开度、可以启停风机；
PCW系统
设计水流量 20m3/H ,换热量 105KW
16
厂务节能
压差设定，自动调整水泵频率，实现低液位停泵保护
17
N2、CDA系统
N2引自B楼氮气站 CDA引自A楼地下空压机；每个房间预留接口
18
超纯水系统
19
3T/H超纯水，最大供应量可达6T/H ;
致谢
谢 谢！
20
F5超净厂务系统介绍
1
提 纲
空调系统
FFU系统
排风系统 PCW系统
CDA、N2系统
电子工厂 晶圆厂 TFT 厂 面板厂 厂务系统概述
2.1水系统使用材质 2.1水系统使用材质
PCW 制程冷却水 UPW/DIW 超纯水 Chill Water 冰水 RW 回收水 CW 自来水
SUS 304禁油处理/高压软管 CPVC/PVDF/PFA Tube
SUS 304
SUS 304
SUS 304
2.2气体系统使用材质-(除特气外机台端都可能用Teflon软管) 2.2气体系统使用材质
厂务系统概述
0.电子厂名言 0.电子厂名言
0.电子厂名言 0.电子厂名言
唯一的不变就是永远在变 唯一确定的就是还没决定
接下来介绍的在现场都不是绝对的~ 所以~接下来介绍的在现场都不是绝对的~
1.厂务系统功能 1.厂务系统功能
1.1水系统在制程中的功能 1.1水系统在制程中的功能
PCW 制程冷却水 UPW/DIW 超纯水 Chill Water 冰水 RW 回收水 CW 自来水
Pumping Line
机台制程 Chamber 高真空 管路 Vacuum Pump
Exhaust
高真空 管路
Scrubber
GEX
机台出口 Damper 风管
风管
风机
大气
Others Exhaust
机台出口 Damper 风管 风机 Scrubber 大气
3.8真空系统简略流程 3.8真空系统简略流程
H2 Cooler H2冷却器 H2冷却器
纯水储槽
H2 UPW Tank
回水
3.4自来水/回收水系统简略流程 3.4自来水/ 自来水
自来水
自来水外管
回收水
空气中水份
水表/隔离 阀
冷盘/空调 箱
回收管线 供应管线 回收水槽 使用点 使用点
IC_FAB_厂务系统简介
H2SO4 回收 有機溶劑
氮氣供應商 氣体供應商
供 應 商
供 應 商
有機溶劑 供應站
酸 鹼 廢 水
IPA 再生系 統
特殊氣體供應站
CDA 濃縮污泥 衛生排水
科管局 廢水/污水 處理站
外氣
空保 外氣 土保 水保
3. EMI：＜10mG dc &＜1mG ac, and maximum 0.2 mG variation over 5 minutes near
sensitive equipment.
4. ESD：
4-1. Raised floor and concrete floor = 10E6~5×10E8Ω/□ 4-2. Clean room wall = 10E6~5×10E8Ω/□ 4-3. Voltage : ＜100 V level 4-4. Photo area : discharge time: +1000V to +100V under emitter ＜40 sec.
FA B 1F U tility fa b 2F L e v e l 1 s u b -fa b 3F L e v e l 1 C /R 4F L e v e l 2 s u b -fa b 5F L e v e l 2 C /R 5F CL + /- 4 .8 m 6F U p p e r tr u ss 7F O ffic e R oof M UA p e n th o u se R oof of p e n th o u se S u p p o r t in g B u ild in g （ S B ） 1F W a re h o u se 2F R a w m a te r ia l sto r a g e 3F C le a n s u p p o r t ro o m 4F P ro d u c tio n s u p p ly ro o m
电子工厂-晶圆厂-TFT-厂-面板厂--厂务系统概述31页PPT
23、一切节省，归根到底都归结为时间的节省。——马克思 24、意志命运往往背道而驰，决心到最后会全部推倒。——莎士比亚
电子工厂-晶圆厂-TFT-厂-面板厂--厂 务系统概述
16、人民应该为法律而战斗，就像为 了城墙 而战斗 一样。 ——赫 拉克利 特 17、人类对于不公正的行为加以指责 ，并非 因为他 们愿意 做出这 种行为 ，而是 惟恐自 己会成 为这种 行为的 牺牲者 。—— 柏拉图 18、制定法律法令，就是为了不让强 者做什 么事都 横行霸 道。— —奥维 德 19、法律是社会的习惯和思想的结晶 。—— 托·伍·威尔逊 20、人们嘴上挂着的法律，其真实含 义是财 富。— —爱献 生
厂务系统(FMCS)
工厂自动化/厂务系统(FMCS)日期: 2009-11-6 15:00:48 作者: Admin 来源: 上海存在自动化控制设备有限公司浏览: 3588FMCS(Facility Management and Control System)其中文意思是厂务监控系统，它是目前半导体厂内制程中所使用的监控系统，用途是将厂区内特定的，有危害的，影响制程状态或系统资料于此的监控，并将其记录，以供问题即时处理及日后问题分析。
目前的制造业已经向信息化工厂逐渐过度，整个工厂作为一个有机的整体来协调运转就需要一个有效的监控和管理，通过监控可以知道工厂所有设备所有人员所有材料的具体情况，通过管理，可以使以上各个生产环节紧密结合，协调运转。
这样，就需要一个整体的全厂自动化系统。
上海存在自动化控制设备有限公司的FMCS系统就是针对以上这些具体需求提出的完美解决方案。
存在自动化根据客户的具体设备要求和工程规范，结合我们在工厂FMCS方面的多年实践经验，运用当今主流的计算机技术和自动控制技术而进行的方案设计和工程实施设计，而量身定造完整的FMCS系统。
此监控系统，具有友善的监控界面，采用Windows作业环境，只需要使用鼠标及简单的键盘，就可以进行操作，具安全性及可扩充性。
FMCS设计目标将设施供应系统、环境系统、废弃物处理系统等监控资料利用Ethernet、PLC或RS232等通讯协议连接至不同监控计算机，形成一整合网络监控系统，以达到如下目的：1.整合各单一网络为以整体，实现信息可互通。
2.提升整体管理绩效3.简化运转维护困难度4.降低安装、运转及扩充成本5.多台电脑可相互监看、控制6.可共享磁盘资源7.可达到相互备份效果8.监控报警电话Call出及邮件功能9.历史数据查询及曲线查询10.自动生成报表11.监控系统网络管理FMCS价值所在1.大量节省管理人员：传统的仪表控制系统是通过工厂操作管理人员楼上楼下来回奔走，对分布于工厂各处的设备进行开关和调节。
厂务系统概述简单中文介绍PPT课件
2.4 真空系统使用材质
PV 制程真空
HV 清洁真空
PVC SCH80/SUS 304 PVC SCH80/SUS 304
2.5 排气系统使用材质
Pump Line 制程高真空
GEX 一般排气
Solvent 有机排气
Acid/Ak 酸硷排气
SUS 316 BA/EP 镀锌螺旋风管 SUS 304全焊式不锈钢风管 不锈钢Teflon Coating风管
1.2 气体系统在制程中的功能
CDA 压缩干燥空 气
GN2 一般氮气
搬运器/仪器之气压缸/一般冲吹 Purge/洁净冲吹
PN2 纯化氮气
Purge/空间填充/超洁净冲吹
其他B-GAS 大宗气体
制程需求/空间填充/超洁净冲吹
S-GAS 特殊气体
制程填充需求/制程需求
1.3 化学系统在制程中的功能
Chemical 化学药品
目录 一、厂务系统功能 二、厂务系统使用材质 三、厂务系统流程
一、厂务系统功能
1.1 水系统在制程中的功能
PCW 制程冷却水
UPW/DIW 超纯水
Chill Water 冰水
RW 回收水
CW 自来水
制程机台冷却 补水/清洗/稀释 冷却用冷源/空调用冰水 DI回收/冷凝回收/再生使用 原水/一般用水
减压站
过滤器
使用点 纯化器 CQC
一/二次管 二次盘 一/二次管 二次盘
Specialty Gas
钢瓶
Cabinet 气瓶柜
管线
VMB/P 阀箱
管线
使用点 使用点
3.7 高真空/排气系统简略流程
Pumping Line
机台制程 Chamber
《厂务公开汇报》课件
社会责任
厂务公开展示了公司对社 会的责任感，树立了公司 的良好形象。
纪委监委监督厂务公开工作
1
监督制度建立
纪委监委与公司协调制定监督厂务公开的制度和程序。
2
举报渠道设立
建立举报渠道，确保员工可以匿名举报不正当行为。
3
监督检查
纪委监委定期进行监督检查，确保厂务公开工作的落实。
厂务公开的内容和范围
财务信息
3 员工会议
员工会议是向员工宣布重要厂务公开信息的有效途径。
厂务公开工作中需要注意的问题
1
保护机密信息
在厂务公开中，需要注意保护公司的商业机密信息。
2
Hale Waihona Puke 信息准确性在厂务公开中提供的信息应确保准确性和可靠性，避免误导员工和公众。
3
维护员工隐私
在厂务公开中，需要尊重和维护员工个人隐私的权益。
结语和总结
员工情况
我们有一支充满创造力和活力 的团队，共有200名全职员工。
公司理念
我们致力于提供高质量的产品 和优质的服务，以满足客户的 需求。
厂务公开的意义和作用
透明度和信任
厂务公开建立了公司和员 工之间的透明度，增强了 员工对公司的信任。
员工参与和合作
通过厂务公开，员工可以 更好地参与公司的决策和 规划，促进合作和创新。
《厂务公开汇报》PPT课 件
欢迎大家来参加今天的《厂务公开汇报》PPT课件。我们将介绍公司的基本 情况，厂务公开的意义和作用，纪委监委监督厂务公开工作，厂务公开的内 容和范围，厂务公开的方式和渠道，厂务公开工作中需要注意的问题，以及 结语和总结。
公司基本情况介绍
公司总部
我们的公司总部位于市中心， 是一个现代化的办公环境。
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1.2 气体系统在制程中的功能
CDA 压缩干燥空
气
GN2 一般氮气
搬运器/仪器之气压缸/一般冲吹 Purge/洁净冲吹
PN2 纯化氮气
Purge/空间填充/超洁净冲吹
其他B-GAS 大宗气体
制程需求/空间填充/超洁净冲吹
S-GAS 特殊气体
制程填充需求/制程需求
1.3 化学系统在制程中的功能
Chemical 化学药品
清洁清洗/制程需求
1.4 真空系统在制程中的功能
PV 制程真空
HV 清洁真空
吸引搬移 尘屑吸引清洁
1.5 排气/排水系统在制程中的功能
Pump Line 制程高真空
Exhaust 排气系统
Drain 排水系统
制程转换之高真空建立 制程转换之废气排除 制程使用之废DI/Chemical排放
二、厂务系统使用材质
PN2 纯化氮气
SUS 316L EP
其他B-GAS 大宗气体
SUS 316L EP/PH2有时用双套管(EP/AP)
S-GAS 特殊气体
SUS 316L EP/双套管/加热套
2.3 化学系统使用材质
有机类 化学药品
一般酸碱 化学药品
其他 化学药品
溶剂类→SUS 316 BA H2SO4/NaOH→PVC/CPVC CPVC/PFA/PVDF/PTFE
膨胀水箱
冰水进
板热
冰水出
制程管线
进水
回水
机台冷却
3.2 冰水系统简略流程
大气
冷却水塔 冷却 水
冰水主机 冷媒循环
冰水 回
MAU VAU
冰水
AHU
出 其他空调箱
板热
3.3 纯水系统简略流程
City Water 自来水
多层过滤器
阴/阳离子 交换树脂塔
RO Tank RO进水槽
热交换器
精密滤器 5μM 滤心
Scrubber
GEX
机台出口 Damper
风管
Exhaust
风管
风机
大气
Others Exhaust
机台出口 Damper
风管
风机
Scrubber
大气
3.8 真空系统简略流程
PV
制程机台 使用点
一/二次管 二次盘
真空管路
真空储槽
真空 Pump
HV
配置需求 使用点
开关盒
真空管路
真空 清洁储槽
真空 Pump
厂务系统概述
目录 一、厂务系统功能 二、厂务系统使用材质 三、厂务系统流程
一、厂务系统功能
1.1 水系统在制程中的功能
PCW 制程冷却水
UPW/DIW 超纯水
Chill Water 冰水
RW 回收水
CW 自来水
制程机台冷却 补水/清洗/稀释 冷却用冷源/空调用冰水 DI回收/冷凝回收/再生使用 原水/一般用水
PH 调整槽
曝气槽
生物 接触槽
污泥 脱水机
污泥 收集槽
沉淀槽
澄清槽
污泥饼 储槽
运弃
PH 反应槽 聚合物 凝结槽
英文缩写对照
SUCCESS
THANK YOU
2019/8/6
3.9 化学系统简略流程
Chemical
化学品 供应槽车
化学品 储槽
传送系统
供应槽
废液 回收槽
回收管线
使用点
VMB/P
分配系统 化学管路
3.10 废水收集系统简略流程
Drain Pipe
机台 排放点
收集 管线
废水 处理厂
3.11 废水处理系统简略流程
Waste Water Treatment
废水 收集槽
SUCCESS
THANK YOU
2019/8/6
2.6 排水系统使用材质
Drain 一般排水
Solvent 有机排气水
Acid/Ak 酸硷排气水
PVC/PVC SCH80 SUS 304不锈钢管 PVC SCH80/PVDF/PTFE/PFA
三、厂务系统流程
3.1 制程冷却水系统简略流程
原水补水
紫外线杀 菌灯
纯水储水槽
CEDI
精密滤器 1μM 滤心
RO 储水槽 逆渗透模块
核子级树脂
精密滤器 1μM 滤心
精密滤器 0.2μM 滤心
制程使用点
3.4 自来水/回收水系统简略流程
自来水
自来水外管
回收水
空气中水份
水表/隔离 阀
供应管线
使用点
冷盘/空调 箱
回收管线
回收水槽
使用点
3.5 CDA/GN2/PN2系统简略流程
CDA
大气 空压机
蓄压槽
初级 过滤器
冷冻式 干燥机
吸附式 干燥机
精密 过滤器
GN2/PN2
大气
氮气 产生器
液氮槽
蒸发器
使用点 减压站
一纯化器
使用点
一/二次管 二次盘
CQC
3.6 其他大宗气体/特气系统简略流程
O2
液氧储槽 蒸发器 减压站 过滤器 纯化器
CQC
He/Ar/Kr/H2…
2.4 真空系统使用材质
PV 制程真空
HV 清洁真空
PVC SCH80/SUS 304 PVC SCH80/SUS 304
2.5 排气系统使用材质
Pump Line 制程高真空
GEX 一般排气
Solvent 有机排气
Acid/Ak 酸硷排气
SUS 316 BA/EP 镀锌螺旋风管 SUS 304全焊式不锈钢风管 不锈钢Teflon Coating风管
2.1 水系统使用材质
PCW 制程冷却水
UPW/DIW 超纯水
Chill Water 冰水
RW 回收水
CW 自来水
SUS 304/高压软管 CPVC/PVDF/PFA SUS 304 SUS 304 SUS 304
2.2 气体系统使用材质
CDA 压缩干燥空
气
GN2 一般氮气
SUS 304L AP/BA/316L BA SUS 316L BA/EP
钢瓶/Bundle Trunker
减压站
过滤器
使用点 纯化器 CQC
一/二次管 二次盘
一/二次管 二次盘
Specialty Gas
使用点
钢瓶
Cabinet 气瓶柜
管线
VMB/P 阀箱
管线
使用点
3.7 高真空/排气系统简略流程
Pumping Line
机台制程 Chamber
高真空 管路
真空泵
高真空 管路