【CN110057543A】基于同轴干涉的波面测量装置【专利】

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双波长光纤干涉大量程高分辨率位移测量系统[发明专利]

专利名称：双波长光纤干涉大量程高分辨率位移测量系统专利类型：发明专利
发明人：谢芳,宋丁,孙金岭,张涛,王颖
申请号：CN201010137593.8
申请日：20100401
公开号：CN101825432A
公开日：
20100908
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明公开了一种双波长光纤干涉大量程高分辨率位移测量系统，属于光学测量技术领域。

所述系统由波长分别为λ和λ的两个激光器、两个3dB-耦合器、两个环行器、光纤光栅、两个探测器、自准直透镜、测量反射镜、参考反射镜、压电陶瓷、信号处理电路、A/D转换卡、信号发生器、计算机和结果输出组成；本发明利用合成波干涉信号决定测量系统的测量量程，使得测量量程为合成波波长的二分之一，远远大于现有技术的二分之一光波波长的测量量程，利用单波长干涉信号决定测量系统的测量分辨率，使得测量系统在具有大测量量程的同时仍然具有波长干涉量程的高分辨率的优点。

申请人：北京交通大学
地址：100044 北京市海淀区西直门外上园村3号
国籍：CN
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干涉测量的测量装置[发明专利]

专利名称：干涉测量的测量装置专利类型：发明专利
发明人：S·弗朗兹,M·弗莱斯彻申请号：CN200680035993.X 申请日：20060915
公开号：CN101278170A
公开日：
20081001
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明涉及一种用于具有第一干涉仪和第二干涉仪的干涉测量的测量装置的设备，其中通过辐射源向所述第一干涉仪输送短相干的辐射，所述辐射通过第一辐射分配器分为两个部分辐射，并且其中光程长度在一个部分辐射中长于在另一个部分辐射中，使得光程差大于所述辐射的相干长度，其中所述两个部分辐射在所述第一干涉仪的出口之前再度汇合并且输送给所述第二干涉仪，该第二干涉仪将所述辐射分为另外两个部分辐射，其中这两个部分辐射的光程长度不同，从而再度对在第一干涉仪中写入的光程差进行补偿，其中可以通过至少一个活动的光学元件来对在所述第一和第二干涉仪中的相应的部分辐射的光程长度进行调节，并且所述活动的光学元件以机械方式彼此相耦合。

此外，本发明涉及一种用于在这样的干涉测量的测量装置中对光程差进行补偿的方法，其中通过以机械方式相耦合的活动的光学元件同时并且以相同的数值改变在所述两个干涉仪中的部分辐射之间的光程差。

由此可以在一个工作步骤中改变在所述干涉仪的部分辐射中的光程差，其中保持遵守形成干涉的条件。

申请人：罗伯特·博世有限公司
地址：德国斯图加特
国籍：DE
代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
代理人：曹若
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光波干涉测量装置[发明专利]

专利名称：光波干涉测量装置专利类型：发明专利
发明人：葛宗涛
申请号：CN200810185513.9申请日：20081212
公开号：CN101469976A
公开日：
20090701
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明提供一种光波干涉测量装置，由透射/反射分离面(13a)分成两部分的来自光源(11)的光束，通过分别对应的球面基准透镜(15)、(25)，以担持与被验非球面透镜(17)和参照非球面透镜(27)的表面形状对应的波阵面信息的状态再次被合波，被验非球面透镜(17)相对于参照非球面透镜(27)的波阵面误差成为干涉条纹信息而形成在干涉仪CCD摄像机(31)的摄像面上。

球面基准透镜(15)、(25)具有互相相同的曲率的基准球面(15a)、(25a)，基于来自各透镜(17)、(27)的反射光的波阵面信息是基于各透镜(17)、(27)的表面形状和基准球面(15a)、(25a)的表面形状之差的波阵面信息，因此，即使是非球面，也可以同时获得关于整个有效区域的干涉条纹信息。

申请人：富士能株式会社
地址：日本国埼玉县
国籍：JP
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：李香兰
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微波同轴转换装置[发明专利]

专利名称：微波同轴转换装置专利类型：发明专利
发明人：杨阳,朱铧丞
申请号：CN202010302346.2申请日：20200416
公开号：CN111653463A
公开日：
20200911
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明涉及微波传输领域，是微波同轴转换装置，解决了现有技术中磁控管输出依赖波导输出结构、体积大、输出效率低的问题；本发明连接分别磁控管和同轴腔，包括用于连接磁控管的输出天线、用于连接同轴腔的同轴接头、用于能量馈入的转换腔；所述输出天线和同轴接头相对设置于转换腔两端所述输出天线和同轴接头相对设置于转换腔两端。

本发明公开的微波同轴转换装置通过设置可连接磁控管的输出天线和连接同轴腔的同轴接头，使之在转换腔内进行微波能的输出，不但结构简单、小巧，方便磁控管系统的集成，且微波输出效率高，不容易受负载的影响；通过设置钉帽部，有效防止尖端效应。

申请人：四川大学
地址：610000 四川省成都市一环路南一段24号
国籍：CN
代理机构：昆明合众智信知识产权事务所
代理人：刘静怡
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一种基于同轴全息自聚焦技术测量激光波长的装置及方法[发明专利]

专利名称：一种基于同轴全息自聚焦技术测量激光波长的装置及方法
专利类型：发明专利
发明人：张明明,张凤,庄境坤,刘亚龙,窦健泰,胡友友
申请号：CN202111376230.4
申请日：20211119
公开号：CN114061769A
公开日：
20220218
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明公开了一种基于同轴全息自聚焦技术测量激光波长的装置及方法，包括依次设置的激光输入端、准直扩束系统、分辨率板和CCD，采用激光照射分辨率板，产生包含物体信息的物光，并由CCD记录采集到的光强分布并产生全息图，利用分辨率板的同轴全息自聚焦技术，并结合波长与纪录距离或最佳再现距离的函数关系测量未知激光波长。

本发明丰富了激光波长的测量方法，具有结构简单、成本低、计算波长自动化等优点，便于推广应用，可以大大缩短全息图采集时间，而且不需要其他的调焦装置，使系统变得简单高效，且测量波长具有较高的精度，可应用于工业测量领域，同时也可以应用到同轴全息和衍射传输等方向的教学实验中。

申请人：江苏科技大学
地址：212008 江苏省镇江市丹徒区长晖路666号
国籍：CN
代理机构：南京苏高专利商标事务所(普通合伙)
代理人：王美丽
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910331365.5
(22)申请日 2019.04.24
(71)申请人暨南大学
地址 510632 广东省广州市天河区黄埔大
道西601号
(72)发明人贾伟　周常河　王津　项长铖　
谢永芳　薄启宇　
(74)专利代理机构广州市华学知识产权代理有
限公司 44245
代理人陈燕娴
(51)Int.Cl.
G01M 11/00(2006.01)
(54)发明名称基于同轴干涉的波面测量装置(57)摘要本发明公开了一种基于同轴干涉的波面测量装置，包括用于产生干涉条纹场的马赫曾德双光束干涉系统、用于产生同轴干涉的合束元件、采集干涉信号的光探测器、以及用于扫描双光束干涉场的二维移动台和测量位移的激光干涉仪系统。

其特点是在传统的马赫曾德双光束干涉仪中引入小尺寸合束元件，使两束相干光产生同轴干涉，通过二维扫描测量该干涉信号的周期变化，实现对马赫曾德双光束干涉场周期的高精度测量，从而推算出双光束波面的分布情况。

利用小尺寸合束元件的扫描测量，该发明可以实现大尺寸波面的测量，而不需要相应尺寸的合束元件
或参考波面。

权利要求书2页说明书8页附图4页CN 110057543 A 2019.07.26
C N 110057543
A
权　利　要　求　书1/2页CN 110057543 A
1.一种基于同轴干涉的波面测量装置，其特征在于，所述的波面测量装置包括：
马赫曾德双光束干涉系统，其为双光束全息干涉光路，用于产生稳定的高密度干涉条纹场，并用于待测光学元件输出波面的测量；
同轴干涉及记录模块，包括合束元件和光探测器，用于产生同轴干涉信号，并记录该信息，其中，所述的合束元件，利用光的反射或衍射特性，使马赫曾德干涉光路的两束光重合，产生同轴干涉，从而形成稳定的干涉场；所述的光探测器，用于接收干涉场的光强信息；
二维移动和位移测量系统，包括二维移动平台和激光干涉仪，用于实现大尺寸光场的二维扫描以及位移的精确测量，其中，所述的二维移动平台，用于承载合束元件与光探测器实现对同轴干涉光场的二维扫描，二维移动平台的一维运动方向与马赫曾德干涉光场的条纹方向垂直，另外一维运动方向与干涉光场的条纹方向平行；所述的激光干涉仪，用于高精度测量二维移动平台垂直于干涉光场方向的位移；
数据采集与处理系统，用于控制光探测器采集同轴干涉强度信息、二维移动平台的二维运动以及激光干涉仪的位移测量，并通过数字计算对采集光强的周期信号进行处理，实现大尺寸波面的测量。

2.根据权利要求1所述的基于同轴干涉的波面测量装置，其特征在于，所述的马赫曾德双光束干涉系统为双光束全息干涉光路，包括：激光器、1×2光纤耦合器、第一单模保偏光纤、第二单模保偏光纤、第一准直透镜、第二准直透镜以及待测光学元件；所述的激光器经1×2光纤耦合器均匀分束并分别进入第一单模保偏光纤和第二单模保偏光纤，光纤输出的球面波分别经对称放置的第一准直透镜和第二准直透镜形成相交的两束平面波，产生高密度的干涉光场，其干涉条纹的密度通过改变两束平面波的夹角进行调节，其中，两束平面波中的一束作为参考光，另外一束作为测量光，当插入待测光学元件后输出的波面会发生变化，并改变高密度干涉条纹的周期。

3.根据权利要求1所述的基于同轴干涉的波面测量装置，其特征在于，所述的第一单模保偏光纤和第二单模保偏光纤的偏振方向与干涉条纹方向一致。

4.根据权利要求1所述的基于同轴干涉的波面测量装置，其特征在于，所述的合束元件是半透半反镜、光栅或分束棱镜。

5.根据权利要求1所述的基于同轴干涉的波面测量装置，其特征在于，所述的光探测器是光电倍增管，CCD阵列或雪崩二极管。

6.根据权利要求1所述的基于同轴干涉的波面测量装置，其特征在于，所述的同轴干涉及记录模块还包括小孔光阑，同轴干涉光场经所述的小孔光阑进入光探测器，通过改变小孔光阑的大小控制光探测器的采集信息为同轴干涉光场的一小部分，并且小于干涉条纹周期的二分之一。

7.根据权利要求1所述的基于同轴干涉的波面测量装置，其特征在于，所述的二维移动平台上同时固定有激光干涉仪的反射镜，激光干涉仪的其他部分放置在与马赫曾德双光束干涉系统同一平台上，所述的反射镜以及激光干涉仪出射的激光与所述的合束元件位于同一水平面。

8.根据权利要求1所述的基于同轴干涉的波面测量装置，其特征在于，所述的数据采集与处理系统由一台计算机实现进行控制，所述的光探测器、激光干涉仪以及二维移动平台通过控制器与计算机连接，并利用计算机指令实现对以上设备的同步控制，该计算机在完
2。