；
平板反应器的两种刻蚀模式PE模式RIE模式
下电极（硅片）＋腔壁→接地
上电极→RF
下电极-Plasma电压差小，离子轰击弱 上电极＋腔壁→接地
下电极（硅片）→RF
下电极-Plasma电压差大，离子轰击强
