等离子体特性及其应用技术
等离子体及其应用
等离子体及其应用
等离子体是一种高温、高能量的物质状态，由高能电子和离子组成，具有极强的化学反应性和电学性质。
它广泛应用于照明、激光、半导体加工、医学和环境污染控制等领域。
在照明方面，等离子体灯具可以产生高亮度、高色温和高色彩还原指数的光线，被用于城市照明、汽车照明和影视拍摄等领域。
此外，等离子体激发的荧光也可以应用于指示灯、标志和广告等。
在激光方面，等离子体可以产生强烈的激光束，被用于材料切割、钻孔、焊接和表面处理等领域。
等离子体还可以用于制造半导体和太阳能电池等高科技产业。
在医学方面，等离子体可以用于皮肤和牙齿的治疗和美容，以及细胞和组织的研究。
等离子体还可以用于消毒和除臭等卫生领域。
在环境污染控制方面，等离子体可以用于废气、废水和固体废弃物的处理。
等离子体处理技术可以高效地去除有机物、重金属和臭味等污染物，达到环保和资源化的目的。
综上所述，等离子体在各个领域都有广泛的应用前景，是一种极具潜力的高科技产业。
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等离子体应用技术
等离子体应用技术等离子体（Plasma）是一种高度激发的物质态，由相等数量的正离子和自由电子组成。
等离子体应用技术是指利用等离子体的性质和特点，在各个领域中进行应用的一项技术。
它不仅在科学研究和实验室中有广泛的应用，也在工业、能源、医疗等领域发挥着独特的作用。
本文将分析等离子体应用技术在不同领域中的应用情况，并探讨其潜在的未来发展前景。
一、工业应用1. 等离子体切割技术等离子体切割技术是一种高精度、高效率的金属切割方法。
通过在金属表面产生高能量的等离子体来融化和气化材料，实现金属的切割和雕刻。
这种技术在汽车制造、航空航天等工业领域有广泛的应用。
它不仅可以提高生产效率，还可以减少废料产生，降低能源消耗。
2. 等离子体喷涂技术等离子体喷涂技术是一种表面涂层处理方法。
通过将材料的粉末形式置于高能量等离子体中，使其在金属表面形成坚固的涂层。
这种涂层具有耐磨、耐腐蚀、绝缘等性能，可以用于改善材料的表面性能，延长使用寿命。
在航空航天、电子电器等领域，等离子体喷涂技术已被广泛应用。
二、能源应用1. 核聚变技术等离子体在能源领域中最具代表性的应用就是核聚变技术。
核聚变是指将两个轻核聚变成较重的核，释放出巨大的能量。
在核聚变反应中，需要使用等离子体维持高温和高压环境，这使得等离子体成为核聚变的理想燃料。
未来，核聚变技术有望成为一种清洁、高效的能源来源，解决人类能源需求和环境问题。
2. 太阳能利用太阳是一个由等离子体组成的巨大等离子体球体。
利用太阳等离子体的性质，可以实现太阳能的收集和利用。
目前，太阳能电池板是最常见的太阳能利用技术，它将光能转化为电能。
此外，等离子体的磁场控制技术也被用于太阳观测和太阳风预警等领域。
三、医疗应用1. 医疗灭菌等离子体可以产生高能量的电子，具有良好的杀菌和灭菌效果。
在医疗设备消毒和手术器械灭菌中，等离子体技术广泛应用。
相比传统的消毒方法，如高温蒸汽或化学消毒剂，等离子体灭菌具有更高的效率和更低的污染风险。
等离子体特性论文应用技术论文
等离子体特性论文应用技术论文摘要：等离子体技术的应用领域非常广泛，人们对等离子体技术的研究还在深入进行，了解、掌握这方面的技术有非常重要的作用。
本文限于篇幅，只对等离子体特性和技术作了简要介绍。
随着低温等离子体技术在许多科学领域、工程项目中的广泛使用，“等离子体”这个新名词已经与高新科技紧密相连，但许多人对此比较陌生。
本文对等离子体的特性和应用技术进行简单介绍，以使人们对等离子体技术有一个初步认识和了解。
一、等离子体特性介绍1.等离子体的概念等离子体作为一种高新技术，人们通俗地称其为“物质的第四态”。
等离子体是由许多能够流动并且带电的粒子构成的物质系统。
人们对等离子体比较陌生，是因为在平时人们很难接触到等离子体，因为一般情况下，大多数物质以固态、液态及气态三种形式存在。
但实事上，地球上99%的物质都是以等离子体状态存在的，因为地球被电离层所包围。
在实验室中运用不同的气体放电方式也能产生等离子体。
一般情况下用于新材料表面改性或合成新材料的等离子体，通常是由低气压放电产生的。
2.等离子体的描述等离子体的存在状态一般决定于它的粒子密度、粒子温度和化学成分等物理化学参数，一般常用粒子密度与温度两个基本参数来描述等离子体的存在状态。
而我们在实验室条件下利用气体放电产生的等离子体，是由离子、电子、中性粒子或粒子团组成的。
所以，描述等离子体的密度参数和温度参数时，主要使用：温度Te与电子密度ne、离子密度ni与温度Ti以及中性粒子密度ng与温度Tg。
通常情况下，要使等离子体呈现宏观上的电中性，就必须使等离子体处在一个平衡状态，即电子密度与离子密度基本相等，ne≈ni=n0。
3.等离子体的特性一是等离子体宏观上呈电中性。
通常情况下，等离子体呈现的是电中性，但是其如果受到某种扰动，它的内部就会出现局部电荷分离，就会产生电场。
比如，在等离子体中放入一个带正电荷的小球，它就会吸引等离子体中的电子，排斥离子，从而在小球周围形成一个带负电的球状“电子云”。
等离子体的物理特性及其在能源控制中的应用
等离子体的物理特性及其在能源控制中的应用等离子体是一种被高温激发而电离产生的状态，是物质存在的第四种状态，分子和原子之外的等离子体。
它由带正电荷的离子和带负电荷的电子组成，其物理特性使之在能源控制中具有广泛的应用。
等离子体的物理特性主要包括高温、电磁性和等离子体流动性。
首先，等离子体的高温是其最本质的特性之一，它能够激活原子和分子内部的能级，使电子跳跃到较高的能量状态，形成高度电离的带电粒子。
其次，等离子体对电磁场具有响应性，当电场或磁场作用于等离子体中的离子和电子时，会发生移动和回旋，从而引发一系列电磁现象。
最后，等离子体由带电粒子组成，使得它具有流动性，可以传导电流和携带能量。
等离子体在能源控制中有着广泛的应用。
首先，等离子体技术被广泛应用于聚变能源研究领域。
聚变是模拟太阳能源释放过程的一种方式，通过将氢等离子体加热到极高温度和密度，使其发生核融合反应，释放出巨大的能量。
这种技术有望成为可持续的清洁能源，因为它只产生非常少量的有害废物，并且燃料源取自海水中丰富的氘和氚。
其次，等离子体技术在等离子体喷射和等离子体切割中得到应用。
等离子体喷射是利用高温等离子体产生的气流来清洁材料表面，去除污垢和涂层。
这种喷射不仅能够高效清洁，还能够改善材料表面的粗糙度和附着力，使其在后续加工过程中具有更好的性能。
等离子体切割则是利用等离子体的高能量和流动性，将材料切割成所需的形状。
相比传统切割方法，等离子体切割速度更快，切割面更平整，能够应用于多种材料。
此外，等离子体技术在光电显示器件和太阳能电池中也有着重要的应用。
等离子体处理可以改善材料表面的电子能级分布和结晶性，提高材料的电子传导性和光吸收性能，从而提高光电器件的性能。
在光电显示器件中，等离子体处理可以改善显示屏的亮度、色彩和对比度。
而在太阳能电池中，等离子体处理能够提高光吸收层的能量转换效率，从而提高电池的光电转换效率和功率输出。
最后，等离子体技术还被应用于液体金属冷却堆等核能领域。
等离子体特性
等离子体特性等离子体（Plasma）是自然界中最常见的物质状态之一，它在宇宙中广泛存在，也在地球上出现。
本文将探讨等离子体的特性，包括其定义、形成、性质以及应用。
首先，我们来了解等离子体的定义。
等离子体是一种高度激发的气体，其中的电子和正离子存在自由运动。
在等离子体中，一部分电子从原子或分子中解离出来，并且以自由状态存在。
由于电子带有负电荷，而正离子带有正电荷，所以等离子体具有整体的电中性。
等离子体的电中性保持是通过电子和正离子之间的碰撞来维持的。
等离子体的形成可以通过多种方式实现。
最常见的是加热气体，使电子从原子或者分子中脱离出来形成等离子体。
这种加热可以通过电磁辐射、电子束或者高温等方式实现。
此外，当气体经过强电场或激光辐射时，也可形成等离子体。
等离子体具有一些与常规固体、液体和气体不同的性质，这些性质使其具备了广泛的应用价值。
首先，等离子体是导电性最强的物质，因此被广泛应用于制造电子设备、发电站以及离子推进系统等中。
此外，等离子体还具有高温、高密度和高能量的特点，这使得等离子体在核融合、聚变研究以及燃气动力研究中发挥重要作用。
等离子体还被用于研究星际介质以及在太阳、恒星和星际空间中的现象。
除了这些应用，等离子体还在医学、环境和材料科学等领域发挥作用。
等离子体技术被广泛应用于医学消毒、净化和癌症治疗。
等离子体反应器可以有效地降解有机废物和有毒物质，以及清洗污染空气和水。
此外，等离子体还可以用于材料表面处理，如改善涂层的附着性、增强材料的耐磨性和硬度等。
然而，尽管等离子体在各个领域都发挥了巨大作用，但研究和应用等离子体仍然面临着一些挑战。
首先，由于等离子体的高温和高能量特性，研究和驾驭等离子体的过程需要巨大的能量投入，这限制了等离子体技术的进一步发展。
其次，等离子体的高温和高能量也带来了较高的安全风险，因此需要专业知识和严格的操作控制。
此外，等离子体技术的成本也是一个问题，限制了其在某些领域的广泛应用。
等离子体原理及应用
等离子体原理及应用
等离子体是一种由高能电子和正离子构成的电离气体，它通常具有高温和高电导率的特性。
等离子体原理基于原子或分子的电离过程，其中电子从原子或分子中脱离并形成电子云，使得液体或气体成为导电介质。
等离子体可以通过不同的方法产生，包括电弧放电、激光激发、高频电磁场等。
等离子体有许多重要的应用。
其中最常见的应用是在照明和显示技术中，如氖灯和等离子电视。
氖灯利用电弧放电产生的氖等离子体发出可见光。
等离子电视则是利用气体放电透明化的特性，通过控制电子束在像素区域的激发和发射来显示图像，具有高亮度和高对比度。
等离子体还广泛应用于材料处理和表面改性。
等离子体处理技术可以实现表面的清洁、改性和涂覆等。
通过控制等离子体参数，可以获得不同形貌和功能的材料表面，例如增加粘附性、提高耐磨性和改善生物相容性。
此外，等离子体还可以用于陶瓷、纳米材料和纤维制备等领域。
等离子体的应用还包括环境治理。
等离子体技术可以用于废气处理、污水处理和水净化等方面。
例如，在废气处理中，等离子体可以将有害气体转化为无害物质，达到净化废气的目的。
此外，等离子体还可以通过电解水产生活性氧，用于杀灭水中的细菌和病毒，从而净化水质。
总而言之，等离子体作为一种新型的物质形态和物理状态，具
有广泛的应用前景。
通过进一步研究和发展，等离子体技术将在能源、材料、环境等多个领域发挥重要作用。
等离子体的原理和应用
等离子体的原理和应用
等离子体是一种由离子和自由电子组成的气体状态，它具有高温、高能、易导电、易感应磁场等特性。
等离子体的产生主要有放电、热力学等方法，其中最常见的放电方式有电弧放电、辉光放电等。
等离子体的应用十分广泛，其中一些重要的应用包括：
1. 等离子体显示技术：利用等离子体的高亮度和色彩鲜艳的特性制造高清晰度的电视和显示器。
2. 等离子体刻蚀技术：利用等离子体的高能和易导电的特性，在半导体微电子加工中进行精准加工。
3. 等离子体医学：利用等离子体的激励光谱技术，对人体组织进行检测和分析，也用于手术切割、消毒等。
4. 等离子体清洗技术：利用等离子体的高能和高密度，清除污垢和杂质，广泛应用于半导体、LCD面板等领域。
5. 等离子体推进技术：利用等离子体的离子推进精度高、效率高、速度快的特性，研发了等离子体推进器，用于航天器的推进。
总之，等离子体的原理和应用在现代科技中扮演着重要的角色，其研究和应用将会继续推动科技的发展。
等离子体技术的应用及其优势
等离子体技术的应用及其优势等离子体技术是指通过激发气体原子或分子，令其电离形成等离子体的一种技术。
等离子体的应用领域非常广泛，基本上涵盖了所有种类的制造、工艺、科学和医疗领域。
等离子体可以通过其自身高温、高能量、高速度、高密度等特性，实现对材料和生物体的精细处理、改性和诊疗，具有很多优势。
一、等离子体技术在材料制造领域的应用等离子体技术在材料制造领域的应用非常广泛，主要包括表面涂覆、改性、清洗和纳米材料制备等方面。
表面涂覆是等离子体技术的一种主要应用之一。
经过等离子体处理后的材料表面能够形成一层具有特定性能的薄膜，如防腐、耐磨、低摩擦、抗氧化、光学透明等。
这种技术被广泛应用于食品包装、汽车涂装、建筑材料、纺织品和电子元器件等领域。
改性是等离子体技术的另一大应用。
等离子体处理后的材料能够增强材料的某些性能，如硬度、强度、耐蚀性、抗磨性、防腐性和电性能等。
这种技术被广泛应用于金属、塑料、陶瓷、玻璃和纤维等材料的改性和强化。
清洗是等离子体技术在制造领域中的另一个主要应用。
等离子体处理后的材料表面能够去除污染物、油脂、细胞和细菌等，同时能够对表面进行解脱、氧化和破坏杂质。
这种技术被广泛应用于半导体制造、食品加工、医疗器械消毒和玻璃清洗等领域。
纳米材料制备是等离子体技术的研究热点之一。
通过等离子体处理，可以获得具有纳米级结构的材料，并且能够精确控制其形貌、尺寸和组分。
这种技术被广泛应用于纳米材料合成、催化材料制备、生物传感和能源存储等领域。
二、等离子体技术在生物医学领域的应用等离子体技术在生物医学领域有着广泛的应用，主要包括抗菌、诊疗、生物芯片和药物输送等方面。
抗菌是等离子体技术在生物医学领域中的一大优势。
经过等离子体处理后，生物体表面的菌群能够被破坏，从而起到杀菌消毒的作用。
这种技术被广泛应用于医疗器械消毒、口腔卫生和污染物净化等领域。
诊疗是等离子体技术在生物医学领域的另一个主要应用。
通过等离子体处理，生物体组织表面能够形成特殊的化学和物理性质，从而提高针对性治疗的效果。
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Cyclotron Resonance, 简称 ECR ) 放电装置。这种放电装置分为两部分， 即放电室和工
进气阀
微波
线圈
图 1.4 ECR 微 波 等 离 子 体 放 电 装 置
作室。在放电室中，工作气体中的初始电子在由电流线圈产生的稳恒磁场的作用下，绕
磁力线做回旋运动。电子的回旋频率为
ω ce
直流辉光放电装置的优点是结构较简单，造价较低。但缺点是电离度较低，且电极 易受到等离子体中的带电粒子的轰击。电极受到带电粒子的轰击后，将产生表面原子溅 射，这样一来，不仅电极的使用寿命被缩短，同时溅射出来的原子将对等离子体造成污 染。 (2) 射频辉光放电 (Radio-Frequency Glow Discharge)
有数百 K，基本上等于中性粒子的温度)。有时称这种等离子体为冷等离子体（Cold
Plasma）。
等离子体在宏观上是呈电中性的。但如果受到某种扰动，其内部将会出现局域电荷
空间分离，产生电场。如在等离子体中放入一带正电量 q 的小球，由于该电荷的静电场
的作用，它将对等离子体中的电子进行吸引，而对离子进行排斥。这样，在它的周围将
(3) 微波放电（Microwave Discharges） 微波放电是将微波能量转换为气体分子的内能，使之激发、电离以产生等离子体的
一种放电方式。这种放电虽然与射频放电有许多相似之处，但能量的传输方式却不相同。 在微波放电中，通常采用波导管或天线将由微波电源产生的微波耦合到放电管内，放电 气体存在的少量初始电子被微波电场加速后，与气体分子发生非弹性碰撞并使之电离。 若微波的输出的功率适当，便可以使气体击穿，实现持续放电。这样产生的等离子体称 为微波等离子体。由于这种放电无需在放电管中设置电极而输出的微波功率可以局域地 集中，因此能获得高密度的等离子体。 图 1.4 是一种微波电子回旋共振 ( Electron
等离子体另一个特性是其振荡性。一般地，处于平衡状态的等离子体在宏观上其密
度分布是均匀的，但从微观上看，其密度分布是有涨落的，且这种密度涨落具有振荡性。
为了说明等离子体密度涨落的振荡性，不妨可以假设等离子体是仅由电子和离子组成的。
由于离子的质量较重，可以看成离子是不动的，构成一均匀分布的正电荷的本底。如果
a 电容耦合
b 电感耦合
图 1.3 外电极式射 频 放 电 装 置 示 意 图
式放电来说，对于外电极式放电来说，电容耦合是将两环形电极以适当间隔匹配在放电 管上，或者把电极分别放置在圆筒形放电管的两侧。加在电极上的高频电场能透过玻璃 管壁使管内的气体放电形成等离子体。而电感耦合则用绕在放电管上的线圈代替电极， 借助于高频磁场在放电管中产生的涡流电场来电离气体。无极放电的最大优点是避免了 由电极的溅射而造成的污染，可以产生均匀而纯净的等离子体。这对采用等离子体技术 制备高纯度的薄膜材料非常重要。对于内电极式放电来说，大多采用平行板型。由于平 行板型放电稳定性好、效率高，且易获得大面积的均匀等离子体，因此这种形式的放电 装置特别适用于等离子体化学气相沉积制备薄膜的工艺。
在某点电子的密度突然受到扰动，相对正电荷的离子本底有一个移动，造成电荷空间分 离。但这种电荷空间分离不能继续进行下去，因为库仑力的作用将试图把电子拉回到其 原来的平衡位置，以保持等离子体的电中性。然而，由于电子具有惯性，它们到达平衡 位置时并不能停止下来，而是朝另一个方向继续运动，造成新的电荷空间分离。这样一 来，库仑力又要试图把它们拉回到平衡位置，依此下去…。 这种现象即称为等离子体的 振荡 ( Plasma Oscillation )。等离子体的振荡频率为
=
eB me
(1.2-1)
其中 B 是磁感应强度。通过适当地调整磁场的空间分布，使得电子回旋频率在沿放电室
的轴向上某一位置与微波的圆频率 ω 一致，那么就会产生共振现象，称为电子回旋共振。
对于这种类型的放电装置，微波的频率一般为 2.45GHz，那么发生共振的磁感应强度为
形成一个带负电的球状“电子云”。这时，带电小球在等离子体中产生的静电势不再是
一简单的裸库仑势，而是一屏蔽的库仑势，如：
V(r)
=
q r
exp(−r/λD
)
其中
（1.1-2）
λD =
k BTe 4π n 0e2
（1.1-3）
为德拜屏蔽长度（Debye Shielding Length）.可见电子云对带电小球产生的库仑势（或
射频放电是在薄膜合成工艺和集成电路制备工艺中最常采用的一种放电类型。放电 的频率一般在兆赫以上，目前国际上常用的射频放电频率为 13.56MHz 。这种放电可以 产生大体积的稳态等离子体。根据电源的耦合方式的不同，射频放电可以分为电容耦合
型和电感耦合型；根据电极放置的位置，又可以分为外电极式和内电极式，外电极式又 称无极式。图 1.3 为外电极式的电容耦合型和电感耦合型放电装置示意图。对于外电极
比 于 粒 子 的 热 速 度 。 由 于 电 子 的 热 速 度 vTe = kBTe me 远 大 于 离 子 的 热 速 度 vTi = kBTi mi ，因此单位时间内到达基板上的电子数要远大于离子的个数。到达表面
上的电子除一部分与离子复合外，还将剩余一部分，从而在基板上出现净负电荷积累，
即基板表面相对等离子体区呈负电势。该负电势将排斥向表面运动的后续电子，同时吸
引正离子。直到基体表面的负电势达到某个确定的值使离子流与电子流相等时为止。显
然，由于基体表面呈负电势，那么在基体表面与等离子体交界处形成一个由正离子构成
的空间电荷层，也就是离子鞘层。可以证明：在这种情况下，基板上的电势为
V0 = (kBTe 2e) ln[2π me (1 + Ti / Te ) / mi ]
1.1 等离子体特性
通常称等离子体是“物质的第四态”，它是由许多可流动的带电粒子组成的体系。 通 常我们在日常生活中很难接触到等离子体，其原因是在正常情况下物质是以固态、液态 及气态形式存在的。实际上，在自然界中 99%的物质是以等离子体状态存在的。我们的 地球就是被一弱电离的等离子体（即电离层）所包围。在太空中的一些星体及星系就是 由等离子体构成的，如太阳就是一氢等离子体球。当然，人们也可以在实验室中采用不 同的气体放电方法来产生等离子体。用于材料表面改性或合成新材料的等离子体，一般 都是由低气压放电产生的。
等离子体的状态主要取决于它的化学成分、粒子密度和粒子温度等物理化学参量， 其中粒子的密度和温度是等离子体的两个最基本的参量。对于实验室中采用气体放电方 式产生的等离子体主要是由电子、离子、中性粒子或粒子团组成的。因此，描述等离子 体的密度参数和温度参数主要有：电子的密度 n e 和温度 T e 、离子的密度 n i 和温度 T i 以 及中性粒子的密度 n g 和温度 T g 。在一般情况下，为了保证等离子体的宏观电中性，要 求等离子体处在平衡状态时，电子密度近似地等于离子密度 n e ≈ n i = n 0 。可以用电
等离子体特性及其应用技术
目前，低温等离子体技术已在材料、微电子、化工、机械及环保等众多学科领域中
得到较广泛地应用，并已初步形成一个崭新的工业-等离子体工业。例如，在材料学科中， 采用等离子体物理气相沉积技术和化学气相沉积技术可以合成一些新型功能薄膜材料； 在微电子工业中，采用等离子体刻蚀技术可以对超大规模集成电路进行加工；在化工学 科中，采用等离子体聚合技术，可以制备出一些高分子薄膜材料。可以说，“等离子体” 这个名词与现在的高新技术领域已联系在一起。低温等离子体技术之所以得到如此广泛 地应用，在很大的程度上得益于人们对低温等离子体的物理过程以及等离子体与固体材 料表面相互作用机理等方面的研究。本章在具体讨论等离子体与固体表面的相互作用过 程之前，先对等离子体的概念﹑特性及其应用技术做以简单介绍。
典型的直流辉光放电实验如图 1.2 所示。在一密封的石英玻璃中充满待要放电的气 体，气压约为 0.1- 10 Torr，并插入两个金属电极。当管内气压处于上述气压范围某一固
定值，且当电源电压 V 高于气体的击穿电压 VB 时，气体开始电离，形成辉光放电。这种
放电的电压约为几百伏，电流约为几百个毫安培。
等离子体
阴极
阳极
直流电源
图 1.2 直 流 辉 光 放 电 装 置 示 意 图
在直流辉光放电管中，从阴极到阳极基本上可以划分八个区域，即阿斯顿暗区、阴 极辉光区、阴极暗区、负辉区、法拉第暗区、正柱区、阳极暗区和阳极辉光区。其中， 前三个区总称为阴极位降区。大部分源电压是在该区域下降，主要是由于从阴极发射出 来的电子在阴极位降区被加速。阴极位降区较暗，不发光。从阴极位降区出来的电子将 与负辉区中的原子或分子发生碰撞，使其激发或电离。因此，负辉区发出的光较明亮。 经过负辉区后，电子的能量变得较低，以至没有足够的能量再去激发原子或分子，因此 在法拉第暗区，发光较暗。在正柱区，电场基本上是均匀的，且电子的密度与离子的密 度近似相等。因此该区域就是等离子体区。接近阳极，电子被吸引且受到加速，而离子 则被排斥。被加速的电子仍能激发原子或分子，形成发光的阳极辉光区。
ωp =
4π n 0e2 me
（1.1-4）
实际上，上面我们讨论的是等离子体中的电子密度的振荡性。由于离子的质量远大于电
子的质量，因此离子的振荡频率相对很小。所以，通常讲等离子体的振荡实际上就是指
电子的振荡。ω p 是等离子体的另一个重要的物理量。等离子体电中性条件要求：等离子
体放电的特征时间尺度 t 要远大于等离子体的振荡周期τ = 1/ ω p 。
工艺过程起着重要的影响，它直接决定着入射到工件表面上的带电粒子的能量分布和角
度分布。
1.2 等离子体的产生
在实验室中，有很多方法和途径可以产生等离子体，如气体放电、激光压缩、射线 辐照及热电离等，但最常见和最主要的还是气体放电法。在气体放电实验中，根据放电 条件（如气压、电流等）的不同，可以将气体放电分为电晕放电、辉光放电和电弧放电。 对于等离子体材料表面改性和合成薄膜材料的工艺，所使用的等离子体通常都是由辉光 放电产生的。在辉光放电实验中，气压一般要小于 100 Torr、 施加的电场强度在 50 ~