无机材料的烧结
二氧化硅粉末烧结
二氧化硅粉末烧结二氧化硅是一种常见的无机化合物,其粉末在工业上常用于制备陶瓷、玻璃和光纤等材料。
而二氧化硅粉末烧结则是一种常用的加工方法,可以将二氧化硅粉末通过高温处理,使其颗粒结合成坚固的块体材料。
本文将详细介绍二氧化硅粉末烧结的过程和应用。
一、烧结工艺二氧化硅粉末烧结是通过加热和压缩的方式实现的。
首先,将二氧化硅粉末放入烧结模具中,然后施加一定的压力,使粉末颗粒之间产生接触。
接着,将模具放入烧结炉中,升温至合适的温度,使粉末颗粒发生烧结反应。
在烧结过程中,二氧化硅颗粒之间发生结合,形成致密的结构。
最后,冷却模具并取出烧结体,即可得到二氧化硅烧结块体。
二、烧结特点二氧化硅粉末烧结具有以下特点。
1.致密性:通过烧结,二氧化硅颗粒之间形成结合,使得烧结体具有较高的致密性。
这种致密性使得烧结体具有较好的力学性能和化学稳定性。
2.高温稳定性:二氧化硅烧结体具有较高的耐高温能力,可以在高温环境下长时间稳定工作。
这使得二氧化硅烧结体在高温装备、热工业等领域得到广泛应用。
3.良好的机械性能:二氧化硅烧结体具有较高的硬度和强度,可以承受较大的外力和压力。
这使得二氧化硅烧结体在结构材料、磨料工具等领域有广泛的应用。
三、应用领域二氧化硅粉末烧结体在工业领域有着广泛的应用。
1.陶瓷制造:二氧化硅烧结体可以作为陶瓷制品的原料,用于制造各种陶瓷制品,如陶瓷瓷砖、陶瓷器皿等。
2.玻璃制造:二氧化硅烧结体可以作为玻璃制造过程中的助剂,用于提升玻璃的硬度和透明度。
3.光纤制造:二氧化硅烧结体可以作为光纤的主要原料,用于制造光纤通信设备。
4.高温装备:二氧化硅烧结体具有较高的耐高温能力,可以用于制造高温装备,如炉窑、耐火材料等。
5.磨料工具:二氧化硅烧结体具有较高的硬度和强度,可以用于制造磨料工具,如砂纸、砂轮等。
总结:二氧化硅粉末烧结是一种常用的加工方法,可以将二氧化硅粉末制备成坚固的块体材料。
烧结体具有致密性、高温稳定性和良好的机械性能等特点,在陶瓷制造、玻璃制造、光纤制造、高温装备和磨料工具等领域有广泛的应用。
数学建模在材料科学研究中的运用
数学建模在材料科学研究中的运用例一 探讨热膨胀系数同弹性模量关系的数学模型1、问题现代科技水平的不断发展,机械,航空等领域中对设备精度要求也越来越高。
材料科学中的热物性随着设备中机械精度的提高温度对设备精度的影响得到各国科研性工程技术人员的重视。
热物性理论研究日益加强,材料的热膨胀理论、热容理论、导热性、热稳定性等理论,都是研究的热点。
材料的热膨胀同弹性模量本质上都同材料晶体结构和原子间作用力有着密切的关系,两者之间有着必然的联系。
为了深入了解材料热膨胀机理,就需要建立热膨胀系数和弹性模量的模型。
2、建立模型固体材料的热膨胀本质归结为晶体原点间平均距离随温度升高而增大。
温度越高,质点振动越大,质点间距也相应增加,宏观上晶体就发生了膨胀。
现以较为典型的双原子模型解释。
如图示,设r 0 为双原子平衡时位置,横坐标为原子间距,纵坐标为原子间势能U ( r) 。
当温度升高后,原子由于振动加剧而使间距变为r = r o + x ,则原子势能变为U ( r) = U ( r o + x) 。
将函数U ( r o + x ) 在r = r o 处展开成泰勒级数: (1) 因为0d o =⎥⎦⎤⎢⎣⎡r dr U 略去x 3 及以后的高次项,则(1) 式成为2o22d d !21x r r U ) U ( r U ( r) o ⎥⎦⎤⎢⎣⎡+=。
........r d !31d d !213332o22+⎥⎦⎤⎢⎣⎡+⎥⎦⎤⎢⎣⎡+⎥⎦⎤⎢⎣⎡+=x d U x r r U x r dr dU ) U ( r U ( r) o o此时U ( r) 代表一条抛物线, 如图示虚线。
温度升高,原子在平衡位置r 0 处振幅增大, 但不会产生膨胀, 这与膨胀事实相反。
故考虑进x 3项,则由(1) 式得(2)(2) 式图形如图1实线所示。
由图可见,其原子振动平衡位置随温度升高(平行横坐标的平行线1 ,2 ,3 , ⋯代表升高的温度T1 , T2 ,T3 , ⋯) 将扩大,如图AB 点线所示,引起晶体膨胀。
碳化硅烧结工艺技术
碳化硅烧结工艺技术简介碳化硅是一种重要的无机非金属材料,具有优异的高温、高硬度、高强度、高导热性和耐腐蚀性能。
碳化硅烧结工艺技术是将粉末形式的碳化硅材料在高温下进行烧结,使其形成致密的块状材料。
这种工艺技术广泛应用于高温、耐腐蚀等领域。
工艺步骤1. 原料制备碳化硅烧结工艺的第一步是制备碳化硅粉末。
一般采用高纯度的硅和石墨粉作为原料,在高温下进行反应生成碳化硅。
得到的碳化硅粉末需要进行粒度分级,以保证烧结后的坯体质量。
2. 造粒将得到的碳化硅粉末进行造粒,目的是提高粉末的流动性和绿坯的成型性。
造粒方法包括湿法造粒和干法造粒两种。
湿法造粒一般采用喷雾干燥法,将碳化硅粉末悬浮在溶液中,通过喷雾干燥使其形成颗粒状。
干法造粒则采用机械化方法,通过辊压或压片等方式将碳化硅粉末压制成颗粒。
3. 成型将造粒得到的碳化硅粉末进行成型。
常用的成型方法有压制成型、注浆成型和挤出成型等。
其中,最常用的是压制成型。
将碳化硅粉末放入模具中,在一定的温度和压力下进行压制,使其成型成绿坯。
4. 烧结将成型的绿坯进行烧结。
碳化硅烧结工艺中一般采用高温烧结的方法,常用的烧结设备有电炉和高频炉。
烧结过程中,绿坯在高温下进行结晶和致密化,使其形成致密块状的碳化硅材料。
烧结温度和时间根据需求进行调控,以获得理想的材料性能。
5. 加工和表面处理经过烧结的碳化硅块材料需要进行加工和表面处理,以满足特定的工程要求。
加工包括切割、研磨、钻孔等,表面处理包括抛光、涂层等。
这些步骤的目的是给碳化硅材料提供最终的形状和表面质量,以便于后续的应用。
工艺优势1.高温性能优异:碳化硅具有高熔点和高热导率,能够在高温下长时间稳定工作,因此在高温领域有广泛的应用,如高温炉、轻质隔热材料等。
2.高硬度和高强度:碳化硅具有极高的硬度和强度,能够耐受大部分物理和化学侵蚀,因此在耐磨、耐腐蚀的工作环境中具有广泛的应用,如磨具、切削工具等。
3.优良的导热性:碳化硅具有高导热性能,能够快速传导和散热,因此在散热器等应用中具有重要作用。
无机材料制备、工艺流程及检测的相关知识
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无机材料科学基础复习重点
第二章、晶体结构缺陷1缺陷的概念2、热缺陷(弗伦克尔缺陷、肖特基缺陷)热缺陷是一种本征缺陷、高于0K就存在,热缺陷浓度的计算影响热缺陷浓度的因数:温度和热缺陷形成能(晶体结构)弗伦克尔缺陷肖特基缺陷3、杂质缺陷、固溶体4、非化学计量化合物结构缺陷(半导体)种类、形成条件、缺陷的计算等5、连续置换型固溶体的形成条件6、影响形成间隙型固溶体的因素7、组分缺陷(补偿缺陷):不等价离子取代形成条件、特点(浓度取决于掺杂量和固溶度)缺陷浓度的计算、与热缺陷的比较幻灯片68、缺陷反应方程和固溶式9、固溶体的研究与计算写出缺陷反应方程T固溶式、算出晶胞的体积和重量T理论密度(间隙型、置换型)T和实测密度比较10、位错概念刃位错:滑移方向与位错线垂直,伯格斯矢量b与位错线垂直螺位错:滑移方向与位错线平行,伯格斯矢量b与位错线平行混合位错:滑移方向与位错线既不平行,又不垂直。
幻灯片7第三章、非晶态固体1熔体的结构:不同聚合程度的各种聚合物的混合物硅酸盐熔体的粘度与组成的关系2、非晶态物质的特点3、玻璃的通性4、Tg、Tf ,相对应的粘度和特点5、网络形成体、网络改变(变性)体、网络中间体玻璃形成的结晶化学观点:键强,键能6、玻璃形成的动力学条件(相变),3T图7、玻璃的结构学说(二种玻璃结构学说的共同之处和不同之处)8、玻璃的结构参数Z可根据玻璃类型定,先计算R,再计算X、Y 注意网络中间体在其中的作用。
9、硅酸盐晶体与硅酸盐玻璃的区别10、硼的反常现象幻灯片8第四章、表面与界面1表面能和表面张力,表面的特征2、润湿的概念、定义、计算;槽角、二面角的计算改善润湿的方法:去除表面吸附膜(提高固体表面能)、改变表面粗糙度、降低固液界面能3、表面粗糙度对润湿的影响4、吸附膜对润湿的影响5、弯曲表面的效应(开尔文公式的应用)6、界面的分类与特点7、多晶体组织8、粘土荷电的原因,阳离子交换序9、粘土与水的作用,电动电位及对泥浆性能的影响流动性,稳定性,悬浮性,触变性,可塑性10、瘠性料的悬浮与塑化泥浆发生触变的原因,改善方法幻灯片9第五章、相平衡1、相律以及相图中的一些基本概念相、独立组分、自由度等2、水型物质相图的特点(固液界线的斜率为负)3、单元系统相图中可逆与不可逆多晶转变的特点4、S iO2相图中的多晶转变(重建型转变、位移型转变)5、一致熔化合物和不一致熔化合物的特点6、形成连续固溶体的二元相图的特点(没有二元无变量点)7、相图应用幻灯片108、界线、连线的概念,以及他们的关系9、等含量规则、等比例规则、背向规则、杠杆规则、连线规则、切线规则、重心规则。
无机材料科学基础名词解释
名词解释肖特基缺陷:正常格点上的原子,热起伏过程中获得能量离开平衡位置迁移到晶体表面,晶体内正常格点上留下空位弗伦克尔缺陷:晶格热振动时,能量足够大的原子离开平衡位置,挤到晶格间隙中,形成间隙原子,原来位置上形成空位空间群:晶体结构中一切对称要素的集合称为空间群。
本征扩散:指空位来源于晶体结构中本征热缺陷而引起质点的迁移的扩散方式;非本征扩散是由不等价杂质离子取代造成晶格空位,由此而引起的质点迁移。
固溶体:在固态条件下,一种组分(溶剂)内“溶解”了其它组分(溶质)而形成的单一、均匀的晶态固体称为固溶体。
烧结与熔融:烧结是在远低于固态物质的熔融温度下进行的,熔融时全部组元都转变为液相,而烧结时至少有一组元是固态的。
等同点:在晶体结构中占据相同的位置和具有相同的环境的点点阵(空间点阵):空间点阵,一系列在三维空间按周期性排列的几何点结点间距:行列中两个相邻结点间的距离晶体:内部质点在三维空间按周期性重复排列的固体,具有格子构造的固体基本性质:结晶均一性、各向异性、自限性、对称性、最小内能性对称:物体中相同部分之间的有规律的重复宏观晶体的对称要素:对称轴、对称中心、对称面、倒转轴对称变换(对称操作):使对称物体中各相同部分作有规律重复的变换动作对称型(点群):宏观晶体中对称要素的集合,包含了宏观晶体中全部对称要素的总和以及它们相互间的组合关系晶胞:晶体结构中的平行六面体单位,其形状大小与对应的空间格子中的平行六面体一致。
单位晶胞:能够充分反映整个晶体结构特征的最小结构单位,其形状大小与对应的单位平行六面体完全一致。
配位数:晶体结构中,原子或离子的周围,与它直接相邻结合的原子个数或所有异号离子的个数。
固相反应:广义:固相参与的化学反应;狭义:固体与固体发生化学反应生成新的固体。
固相反应速度较慢、需要高温烧结:一种或多种固体粉末经过成型,在加热到一定温度后开始收缩,在低于熔点的温度下变成致密、坚硬的烧结体的过程,包括粉末颗粒表面的粘结和粉末内部物质的传递与迁移。
材料科学基础--第九章-烧结
中心距L缩短 坯体收缩
适用: 蒸发-凝聚传质
扩散传质
球体-平板模型
扩散传质
烧结会引起体积的收缩和致密度增加,常用线收缩率或密度值来评
价烧结的程度。对模型(B),烧结收缩是因颈部长大,两球心距离 缩短所引起的。故可用球心距离的缩短率 L 来表示线收缩率(L0烧结前两球心距离,L-烧结后缩短值): L0
烧结后期:传质继续进行,粒子长大,气孔变成孤立闭气孔,密 度达到95%以上,制品强度提高。
(二)烧结推动力
能量差(具体表现为:压力差、空位浓度差、溶解度差)
1、能量差 粉状物料的表面能大于多晶烧结体的晶界能,即能量差是烧结的 推动力,但较小。烧结不能自发进行,必须对粉料加以高温,才 能促使粉末体转变为烧结体
2、颈部空位浓度分析
1)无应力区(晶体内部)的空位浓度:
c0
n0 N
exp
EV kT
2)应力区的空位浓度:
受压应力时,形成体积为Ω空位所做的附加功为:
En
受张应力时,形成体积为Ω空位所做的附加功为:
Et
所以,在接触点或颈部区域形成一个空位所做的功为:
3)温度的影响
T↑,D*=D0exp(-Q/RT)↑↑, x/r、△L/L↑↑。
温度升高,加快烧结。温度在烧 结中往往起决定性作用。
在扩散为主的烧结中,除体积扩
散外,质点还可以沿表面、界面或
位错等处进行多种途径的扩散。库
津斯基综合各种烧结过程,得出烧
结动力学典型方程为:
( x)n r
F(T ) rm
多相反应和熔融、溶解、烧结等,其包括范围较宽。 烧结:仅是粉料经加热而致密化的简单过程,是烧成过程的一个
cvd碳化硅和烧结碳化硅
cvd碳化硅和烧结碳化硅
碳化硅(SiC)是一种无机化合物,具有多种形式,其中包括CVD碳化硅和烧结碳化硅。
CVD碳化硅是通过化学气相沉积(CVD)工艺制备的碳化硅薄膜或涂层。
在CVD过程中,将气态前体物质通过化学反应沉积在基底表面,形成薄膜或涂层。
CVD碳化硅通常具有良好的致密性、均匀性和化学纯度,可以用于涂层、薄膜或其他应用领域。
烧结碳化硅是一种通过高温烧结碳化硅粉末制备的材料。
烧结过程中,碳化硅粉末在高温下结合成致密的块状材料。
烧结碳化硅通常具有高强度、高硬度、耐高温、耐腐蚀等优良性能,因此被广泛应用于陶瓷工业、耐火材料、磨料、工具材料等领域。
从材料制备的角度来看,CVD碳化硅主要是通过化学气相沉积技术制备而成,具有薄膜或涂层的特点;而烧结碳化硅则是通过高温烧结碳化硅粉末得到块状材料,具有高强度和耐磨损性能。
从应用角度来看,CVD碳化硅常用于涂层、光学薄膜、半导体器件等领域,而烧结碳化硅则常用于制造耐火材料、陶瓷制品、磨具和工具等领域。
总的来说,CVD碳化硅和烧结碳化硅是碳化硅材料的两种常见形式,它们在制备方法、结构特点和应用领域上有着明显的区别,但都具有优异的性能,在不同的领域都有着重要的应用前景。
烧结剂对耐火材料的影响
水玻璃结合剂(water glass binder)一种无机材料的胶结剂。
又称泡花碱。
在工业上呗广泛用作无机材料胶结剂,在耐火材料工业作为结合剂用相当广泛,也广泛用于造纸及纺织等工业。
添加剂对耐火材料烧结的影响在固相烧结时,少量的添加剂(烧结助剂)可与主晶相形成固溶体促进缺陷增加;在液相烧结时,添加剂能够改变液相的性质(如粘度、组成等),因而能起促进烧结的作用。
添加剂的作用可能在于以下几个方面。
形成固溶体。
当添加物与烧结物形成固溶体时,可以增加晶格缺陷,活化晶格,从而促进烧结。
一般来说,他们之间形成有限置换固溶体更有助于促进烧结。
添加剂离子的电价、半径与主晶格离子的电价、半径相差越大,晶格畸变程序也越大,促进烧结的作用也越明显。
如Al2O3烧结时,加入3%的Cr2O3形成连续固溶体可在1860℃烧结,而加入1%~2%只需在1600℃左右就能致密化。
阻止晶型转变。
有些氧化物在烧结时发生晶型转变并伴有较大的体积效应,这就难以实现烧结致密化,并容易引起坯体开裂。
这时若能选用适宜的添加剂加以抑制,即可促进烧结。
ZrO2烧结时添加一定量的CaO、MgO就属这一机理。
约在1200℃,m- ZrO2转变为t- ZrO2,并伴有约10%的体积收缩,使制品稳定性变坏。
引入电价比Zr4+低的Ca2+(或Mg2+),可形成稳定的立方萤石结构的固溶体。
这样,既防止了制品的开裂,又增加了晶体中缺陷浓度,使烧结加快。
抑制晶粒长大。
烧结后期晶粒长大,对促进烧结致密化有重要作用。
但若二次再结晶或间断性晶粒长大过快,会使晶粒变粗、晶界变宽而出现反致密化现象并影响制品的显微结构。
这时,可通过加入能抑制晶粒异常长大的添加剂来促进烧结。
在烧结透明Al2O3制品时,为抑制二次再结晶,消除晶界上的气孔,一般加入MgO或MgF2,高温下形成镁铝尖晶石包裹在Al2O3晶粒表面,抑制了晶界迁移的速度,并促使气孔的排出,对促进坯体的烧结具有显著的作用。
陆佩文版无机材料科学基础习题及解答第八章烧结
第八章烧结过程8-1 名词解释:烧结烧结温度泰曼温度液相烧结固相烧结初次再结晶晶粒长大二次再结晶(1)烧结:粉末或压坯在低于主要组分熔点的温度下的热处理,目的在于通过颗粒间的冶金结合以提高其强度。
(2)烧结温度:坯体在高温作用下,发生一系列物理化学反应,最后显气孔率接近于零,达到致密程度最大值时,工艺上称此种状态为"烧结",达到烧结时相应的温度,称为"烧结温度"。
(3)泰曼温度:固体晶格开始明显流动的温度,一般在固体熔点(绝对温度)的2/3处的温度。
在煅烧时,固体粒子在塔曼温度之前主要是离子或分子沿晶体表面迁移,在晶格内部空间扩散(容积扩散)和再结晶。
而在塔曼温度以上,主要为烧结,结晶黏结长大。
(4)液相烧结:烧结温度高于被烧结体中熔点低的组分从而有液相出现的烧结。
(5)固相烧结:在固态状态下进行的烧结。
(6)初次再结晶:初次再结晶是在已发生塑性变形的基质中出现新生的无应变晶粒的成核和长大过程。
(7)晶粒长大:是指多晶体材料在高温保温过程中系统平均晶粒尺寸逐步上升的现象.(8)二次再结晶:再结晶结束后正常长大被抑制而发生的少数晶粒异常长大的现象。
8-2 烧结推动力是什么?它可凭哪些方式推动物质的迁移,各适用于何种烧结机理?解:推动力有:(1)粉状物料的表面能与多晶烧结体的晶界能的差值,烧结推动力与相变和化学反应的能量相比很小,因而不能自发进行,必须加热!!(2)颗粒堆积后,有很多细小气孔弯曲表面由于表面张力而产生压力差,(3)表面能与颗粒之间形成的毛细管力。
传质方式:(1)扩散(表面扩散、界面扩散、体积扩散);(2)蒸发与凝聚;(3)溶解与沉淀;(4)黏滞流动和塑性流动等,一般烧结过程中各不同阶段有不同的传质机理,即烧结过程中往往有几种传质机理在起作用。
8-3 下列过程中,哪一个能使烧结体强度增大,而不产生坯体宏观上的收缩? 试说明理由。
(1)蒸发-冷凝;(2)体积扩散;(3)粘性流动;(4)晶界扩散;(5)表面扩散;(6)溶解-沉淀解:蒸发-凝聚机理(凝聚速率=颈部体积增加)烧结时颈部扩大,气孔形状改变,但双球之间中心距不变,因此坯体不发生收缩,密度不变。
无机材料科学基础名词解释
名词解释弗伦克尔缺陷:在晶格热振动时,一些能量足够大的原子离开平衡位置后,挤到晶格点的间隙中,形成间隙原子,而原来位置上形成空位。
这种缺陷称为弗伦克尔缺陷。
肖特基缺陷:如果正常格点上的原子,热起伏过程中活的能量离开平衡位置迁移到晶体的表面,在晶体内正常格点上留下空位,这即是肖特基缺陷。
刃型位错:伯格斯矢量b与位错线垂直的位错称为刃型位错。
螺形位错:位错线和滑移方向(伯格斯矢量b)平行,由于位错线垂直的平行面不是水平的,而是像螺旋形的,故称螺旋位错。
类质同晶:物质结晶时,其晶体结构中原有离子或原子的配位位置被介质中部分类质类似的它种离子或原子占存,共同结晶成均匀的,单一的混合晶体,但不引起键性。
同质多晶:化学组成相同的物质,在不同的热力学条件下结晶或结构不同的晶体。
正尖晶石:二价阳离子分布在1/8四面体空隙中,三价阳离子分布在1/2八面体空隙的尖晶石。
反尖晶石:如果二价阳离子分布在八面体空隙中,而三价阳离子一半在四面体空隙中,另一半在八面体空隙中的尖晶石。
晶子学说:硅酸盐玻璃是由无数“晶子”组成,“晶子”的化学性质取决于玻璃的化学组成。
所谓“晶子”不同于一般微晶,而是带有晶格变形的有序区域,在“晶子”中心质点排列较有规律,愈远离中心则变形程度愈大。
“晶子”分散在无定形部分的过渡是逐步完成的,两者之间无明显界线。
晶子学说的核心是结构的不均匀性及进程有序性。
无规则网络学说:凡是成为玻璃态的物质和相应的晶体结构一样,也是由一个三度空间网络所构成。
这种网络是由离子多面体(三角体或四面体)构筑起来的。
晶体结构网是由多面体无数次有规律重复构成,而玻璃中结构多面体的重复没有规律性。
分化过程:架状[SiO4]断裂称为熔融石英的分化过程。
缩聚过程:分化过程产生的低聚化合物相互发生作用,形成级次较高的聚合物,次过程为缩聚过程。
网络形成剂:正离子是网络形成离子,单键强度大于335 kJ/mol,能单独形成玻璃的氧化物。
无机材料科学基础《烧结》知识点
(1)常压烧结:又称无压烧结。
属于在大气压条件下坯体自由烧结的过程。
在无外加动力下材料开始烧结,温度一般达到材料的熔点0.5-0.8即可。
在此温度下固相烧结能引起足够原子扩散,液相烧结可促使液相形成或由化学反应产生液相促进扩散和粘滞流动的发生。
常压烧结中准确制定烧成曲线至关重要。
合适的升温制度方能保证制品减少开裂与结构缺陷现象,提高成品率。
(2)热压烧结与热等静压烧结:热压烧结指在烧成过程中施加一定的压力(在10~40MPa),促使材料加速流动、重排与致密化。
采用热压烧结方法一般比常压烧结温度低100ºC左右,主要根据不同制品及有无液相生成而异。
热压烧结采用预成型或将粉料直接装在模内,工艺方法较简单。
该烧结法制品密度高,理论密度可达99%,制品性能优良。
不过此烧结法不易生产形状复杂制品,烧结生产规模较小,成本高。
作为陶瓷烧结手段,利用来自于表面能的表面应力而达到致密化的常压烧结法虽是一般常用的方法,但是,不依赖于表面应力,而在高温下借助于外压的方法,也是可以采用的。
这就是称为热压法的烧结方法。
广义来说,在加压下进行烧结的方法包括所有这类方法,超高压烧结和热等静压(HIP)烧结也属于这类方法。
不过,一般都作为在高温下施加单轴压力进行烧结的方法来理解。
其基本结构示于图1。
首先,制备粉体试料,置于模型中,在规定温度下加热、加压,获得烧结体。
由于下述原因而采用这种方法:(1)烧结温度降低;(2)烧结速度提高;(3)使难烧结物质达到致密化。
因为能够在颗粒成长或重新结晶不大可能进行的温度范围达到致密化,所以,可获得由微小晶粒构成的高强度、高密度烧结体。
图2所示,是热压对陶瓷致密化影响效果之一例。
将热压作为制造制品的手段而加以利用的实例有:氧化铝、铁氧体、碳化硼、氮化硼等工程陶瓷。
连续热压烧结生产效率高,但设备与模具费用较高,又不利于过高过厚制品的烧制。
热等静压烧结可克服上述弊缺,适合形状复杂制品生产。
碳化硅生产工艺流程
碳化硅生产工艺流程
碳化硅是一种重要的无机材料,具有许多优异的性能,如高熔点、高硬度、高耐化学性等。
碳化硅广泛应用于陶瓷工业、电子工业、化工工业等领域。
下面是碳化硅的常见生产工艺流程。
1.原料准备:碳化硅的主要原料包括硅石和石墨。
硅石经过破碎、磨碎等处理后,得到粒径合适的硅石粉末。
石墨则经过分级、筛选等工艺,得到符合要求的石墨粉末。
2.混合:将硅石粉末和石墨粉末按一定比例混合均匀,以提高碳化硅的均匀性和稳定性。
3.烧结:将混合好的粉末放入热处理设备,进行烧结。
烧结工艺中,主要有以下几个步骤:
-预烧处理:将混合物加热到一定温度,通过预烧处理除去其中的杂质和挥发物,提高材料的纯度和稳定性。
-热压烧结:将预烧处理后的材料进行热压烧结。
在一定的温度和压力条件下,通过固相反应使硅石和石墨发生化学变化,形成碳化硅。
-冷却处理:烧结结束后,将样品迅速冷却,以加速碳化硅结晶的形成,并减小颗粒的尺寸。
4.成型加工:烧结好的碳化硅材料通过机械加工、模压等方式进行成型。
如将材料制成砖块、片状或特定形状的模具。
5.表面处理:为了改善碳化硅的表面性能,可进行表面处理,如涂覆保护剂、镀层等。
6.检测:对成品进行物理性能检测,如硬度、密度、尺寸精度等。
7.包装与存储:将成品进行包装和标识,以便储存和运输。
需要注意的是,以上是碳化硅常见的生产工艺流程,具体工艺流程因不同厂商、不同产品而有所差异。
在碳化硅生产过程中,需要严格控制各个环节的工艺参数,确保产品的质量和性能。
《无机材料科学基础》第九章复习题及答案
12.陶瓷的显微结构主要由哪些基本因子构成?
答:陶瓷是由晶体、玻璃体和气孔组成的多晶多相材料,其显 微结构包括晶体的种类和含量,晶粒尺寸和形状,玻璃相的含 量和分布情况,晶粒之间、晶粒与玻璃相之间的界面,气孔的 数量、尺寸、分布等。
13.氧化铝烧结到接近理论密度时,可使可见光几乎透过100%, 用它来装钠蒸气(在超过大气压的压力下)作为路灯。为通过 烧结实现这一点,请你列出研究方案。
2. 烧结的推动力和晶粒生长的推动力。并比较两者的大小?
解:烧结推动力是粉状物料的表面能(γsv)大于多晶烧结体 的晶界能(γgb),即γsv>γgb。 晶粒生长的推动力是晶界两侧物质的自由焓差,使界面向晶 界曲率半径小的晶粒中心推进。烧结的推动力较大,约为 4~20J/g。晶粒生长的推动力较小,约为0.4~2J/g,因而烧结推 动力比晶粒生长推动力约大十倍。
无机材料科学基础
第断题:(正确的打,错误的打)
1. 烧结中始终可以只有一相是固态。
(×)
2. 液相烧结与固相烧结的推动力都是表面能。
(√)
3. 二次再结晶对坯体致密化有利。
(×)
4. 扩散传质中压应力区空位浓度<无应力区空位浓度<张应力
区空位浓度。
(√)
5. 晶粒长大源于小晶体的相互粘结。
答:制备透明氧化铝陶瓷的主要技术措施是:(1)采用高纯 氧化铝原料,Al2O3>99.9%,无杂质和玻璃相;(2)添加 0.1~0.5%MgO,在晶粒表面生成镁铝尖晶石,降低晶界移动 速度,抑制晶粒生长;(3)在氢气或真空中烧结,促进气孔 扩散;(4)采用热压烧结,提高制品致密度。
6.试说明晶界能总是小于相邻二个晶粒表面能之和?
解:在恒温恒压条件下增加单位表面积时体系自由能的增量称 为表面能,而形成单位新界面所需要的能量称为界面能。表面 能和界面能的本质是处在表面或界面上的质点受到不对称力场 作用,与晶体内部质点相比具有较高的能量。晶粒的表面能指 晶粒与气相接触,界面能通常指两个晶粒相接触。显然,晶粒 与气相接触时,表面质点受到力场的不对称性远远大于两个晶 粒相接触时。因此,界面能总是小于相邻二个晶粒表面能之和。
无机材料的制备与表征方法
无机材料的制备与表征方法无机材料是指在化学成分上不包含碳元素的材料,广泛应用于电子、光电子、能源、医药等领域。
无机材料的制备与表征方法是研究无机材料的重要基础,本文将介绍一些常见的无机材料制备与表征方法。
一、无机材料的制备方法1. 溶液法:溶液法是一种常见的无机材料制备方法。
通过将金属盐或金属氧化物溶解在溶剂中,再通过溶液中的化学反应或物理过程,使溶液中的金属离子或金属氧化物发生沉淀或结晶,得到所需的无机材料。
溶液法制备的无机材料具有纯度高、晶体尺寸可控等优点。
2. 气相法:气相法是一种通过气体反应制备无机材料的方法。
常见的气相法有化学气相沉积法(CVD)、物理气相沉积法(PVD)等。
在气相法中,通过将气体反应物引入反应室中,通过热解、氧化还原等反应,使气体反应物在反应室中沉积或结晶形成所需的无机材料。
3. 固相法:固相法是一种通过固体反应制备无机材料的方法。
常见的固相法有固相烧结法、固相反应法等。
在固相法中,通过将反应物粉末混合均匀,然后在高温条件下进行烧结或反应,使反应物发生化学反应,生成所需的无机材料。
二、无机材料的表征方法1. X射线衍射(XRD):XRD是一种常用的无机材料表征方法。
通过照射样品的X射线,利用样品中晶体的衍射现象,测定样品的晶体结构、晶体尺寸、晶体缺陷等信息。
XRD可以帮助研究人员确定无机材料的晶体结构和相变行为,对材料的性能和应用具有重要意义。
2. 扫描电子显微镜(SEM):SEM是一种常见的无机材料表征方法。
通过扫描电子束照射样品表面,利用样品表面反射、散射的电子信号,观察样品的形貌、表面形态等信息。
SEM可以提供高分辨率的图像,对材料的表面形貌和微观结构进行观察和分析。
3. 透射电子显微镜(TEM):TEM是一种高分辨率的无机材料表征方法。
通过透射电子束照射样品,观察样品的透射电子图像,可以获得材料的晶格结构、晶体缺陷、晶体尺寸等信息。
TEM具有高分辨率和高灵敏度的优点,对材料的微观结构和性能研究具有重要意义。
液相烧结机制
液相烧结机制一、液相烧结的定义及其分类定义:凡有液相参加的烧结过程称为液相烧结。
由于粉末中总含有少量杂质,因而大多数材料在烧结中都会或多或少地出现液相,即使在没有杂质的纯固相系统中,高温下还会出现“接触"熔融现象因而纯粹的固态烧结实际上不易实现,在无机材料制造过程中,液相烧结的应用范围很广泛,如长石质瓷,水泥熟料、高温材料(如氮化物,碳化物等都采用液相烧结原理。
液相烧结与固态烧结的共同之点是烧结的推动力都是表面能,烧结过程也是由颗粒重排、气孔充填和晶粒生长等阶段组成。
不同点是由于流动传质速率比扩散传质快,因而液相烧结致密化速率高,可使坯体在比固相烧结温度低得多的情况下获得致密的烧结体,此外液相烧:结过程的速率与液相数量.液相性质(粘度和表面张力等)液相与固相润湿情况,固相在液相中的溶解度等等有密切的关系,因此影响液相烧结的因素比固相烧结更为复杂,为定量研究带来困难。
分类:1.瞬时液相烧结(transient liquid phase sintering) 在烧结中、初期存在液相,后期液相消失的烧结过程特点:烧结中初期为液相烧结,后期为固相烧结。
液相数量取决于成分(低熔点组分的含量)、升温速度、粉末颗粒的粒度。
提高瞬时液相烧结过程中的液相数量可采用提高低熔点组分含量升温速度快,高熔点组分颗(与液相接触面积小,减小扩散面积)。
3 熔浸(infiltration) 多孔骨架的固相烧结和低熔点金属渗入骨架后的液相烧结过程前期为固相烧结,后期为液相烧结。
4.超固相线液相烧结:液相在粉末颗粒内形成,是一种在微区范围内较普通液相烧结更为均匀的烧结过程。
二、液相烧结技术的优缺点优点:1)加快烧结速度:a 液相的形成加快了原子迁移速度。
b 在无外压的情况下,毛细管力的作用加快坯体的收缩c 液相的存在降低颗粒间的摩擦有利于颗粒重排列。
2) 晶粒尺寸可以通过调节液相烧结工艺参数加以控制,便于优化显微结构和性能 3) 可制得全致密的P/M材料或制品,延伸率高。
氧化钪的烧结温度
氧化钪的烧结温度以氧化钪的烧结温度为标题,我将为您编写一篇关于氧化钪烧结温度的文章。
氧化钪是一种重要的无机材料,具有许多优异的性能和广泛的应用。
烧结是氧化钪制备中的关键工艺,其烧结温度对材料的性能和品质具有重要影响。
烧结是将粉末颗粒通过加热使其结合成致密的块状材料的过程。
在氧化钪的烧结过程中,粉末颗粒在高温下发生颗粒间的相互结合,形成致密的结构。
烧结温度是影响烧结效果的关键参数之一。
氧化钪的烧结温度通常在1900°C到2100°C之间。
烧结温度的选择要综合考虑材料的烧结性能、成本和能源消耗等因素。
温度过高会导致能源浪费和材料的过度烧结,而温度过低则会影响材料的致密性和力学性能。
在烧结过程中,氧化钪粉末颗粒会发生表面扩散、颗粒结合和晶粒长大等过程。
烧结温度的选择会直接影响这些过程的进行速率和程度,从而影响材料的致密性和晶粒尺寸。
通常情况下,较高的烧结温度可以促进颗粒间的结合和晶粒的长大,得到更致密和晶粒尺寸较大的材料。
然而,烧结温度过高也会导致材料的过度烧结和晶粒长大过快,造成晶粒界面的结构破坏和性能下降。
因此,在选择烧结温度时需要进行合理的权衡。
烧结温度过程中,还需要控制烧结时间和气氛等参数,以获得理想的烧结效果。
不同的氧化钪材料可能对烧结温度有不同的要求。
纯度较高的氧化钪材料通常需要较高的烧结温度,而添加了其他元素或掺杂物的氧化钪材料可能在较低的烧结温度下就能获得较好的烧结效果。
在实际应用中,选择合适的烧结温度对于提高氧化钪材料的性能和品质至关重要。
高温烧结可以提高材料的致密性和晶粒尺寸,从而提高材料的力学性能和热导率等。
但是,过高的烧结温度也会增加烧结成本和能源消耗。
因此,需要根据具体应用需求和经济效益进行合理的选择。
氧化钪的烧结温度是影响材料性能和品质的重要参数。
合理选择烧结温度可以获得致密的材料结构和适当的晶粒尺寸,从而提高材料的性能。
在实际应用中,需要综合考虑材料的性质、成本和能源消耗等因素,选择合适的烧结温度,以满足不同应用领域的需求。
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γδ c′ = exp[− + ] kT ρkT
3
∆G f
在颈部表面的过剩空位浓度为
c'−c0 ∆c γδ = = exp −1 c0 c0 ρ
3
一般烧结温度下, 一般烧结温度下, 于是 ∆c
γδ 3 1 ≈ c0 kT ρ
γδ ∆c = c0 ρkT
3
从式可见,在一定温度下空位浓度差是与表面张力成比例的, 从式可见,在一定温度下空位浓度差是与表面张力成比例的, 因此由扩散机理进行的烧结过程,其推动力也是表面张力。 因此由扩散机理进行的烧结过程,其推动力也是表面张力。 由于空位扩散既可以沿颗粒表面或界面进行, 由于空位扩散既可以沿颗粒表面或界面进行,也可能通过颗 粒内部进行,并在颗粒表面或颗粒间界上消失。为了区别, 粒内部进行,并在颗粒表面或颗粒间界上消失。为了区别, 通常分别称为表面扩散,界面扩散和体积扩散。 通常分别称为表面扩散,界面扩散和体积扩散。有时在晶体 内部缺陷处也可能出现空位, 内部缺陷处也可能出现空位,这时则可以通过质点向缺陷处 扩散,而该空位迁移到界面上消失,此称为从缺陷开始的扩 扩散,而该空位迁移到界面上消失, 散。
一、初次再结晶
初次再结晶是指从塑性变形的、具有应变的基质中, 初次再结晶是指从塑性变形的、具有应变的基质中, 生长出新的无应变晶粒的成核和长大过程。 生长出新的无应变晶粒的成核和长大过程。 初次再结晶常发生在金属中, 初次再结晶常发生在金属中,无机非金属材料特别 些软性材料NaCl、CaF2等,由于较易发生 是—些软性材料 些软性材料 、 塑性变形,所以也会发生初次再结晶过程。另外, 塑性变形,所以也会发生初次再结晶过程。另外, 由于无机非金属材料烧结前都要破碎研磨成粉料, 由于无机非金属材料烧结前都要破碎研磨成粉料, 这时颗粒内常有残余应变, 这时颗粒内常有残余应变,烧结时也会出现初次 再结晶现象。 是有应变的NaCl退火时晶粒长 再结晶现象。图5是有应变的 是有应变的 退火时晶粒长 大情况。 大情况。
∆G f n0 C0 = = exp(− ) N kT
倘若Байду номын сангаас点(原子或离子 的直径为 倘若质点 原子或离子)的直径为 ,并近似地令空位体积为 原子或离子 的直径为δ, δ3,则在颈部区域每形成一个空位时,毛细孔引力所做 则在颈部区域每形成一个空位时, 的功△ 的功△W=γδ3/ρ。故在颈部表面形成一个空位所需的能 。 量应为△ 量应为△Gf=-γδ3/ρ,相应的空位浓度为 ,
二、烧结过程推动力
粉体颗料尺寸很小,比表面积大,具有较高的表面熊,即 粉体颗料尺寸很小,比表面积大,具有较高的表面熊, 使在加压成型体中,颗料间接面积也很小, 使在加压成型体中,颗料间接面积也很小,总表面积很 大而处于较高能量状态。根据最低能量原理, 大而处于较高能量状态。根据最低能量原理,它将自发 地向最低能量状态变化,使系统的表面能减少。可见, 地向最低能量状态变化,使系统的表面能减少。可见, 烧结是一个自发的不可逆过程, 烧结是一个自发的不可逆过程,系统表面能降低是推动 烧结进行的基本动力。 烧结进行的基本动力。 表面张力能使凹、凸表面处的蒸气压P分别低于和高于平 表面张力能使凹、凸表面处的蒸气压 分别低于和高于平 面表面处的蒸气压Po,并可以用开尔文本公式表达: 面表面处的蒸气压 ,并可以用开尔文本公式表达: P 2 M γ = ln 对于球形表面 P0 dRTr 对于非球形表面 ln P = M γ ( 1 + 1 )
与烧结有关的一些概念 A.烧结与烧成(firing): .烧结与烧成( ) 烧成: 包括多种物理和化学变化。 例如脱水、 烧成 : 包括多种物理和化学变化 。 例如脱水 、 坯体内气体 分解、多相反应和熔融、溶解、烧结等。 分解 、 多相反应和熔融 、 溶解 、 烧结等 。 而烧结仅仅指 粉料经加热而致密化的简单物理过程, 粉料经加热而致密化的简单物理过程 , 烧结仅仅是烧成 过程的一个重要部分。 过程的一个重要部分。 B.烧结和熔融 .烧结和熔融(Melt): : 烧结是在远低于固态物质的熔融温度进行的。 烧结是在远低于固态物质的熔融温度进行的 。 烧结和熔融 这两个过程都是由原子热振动而引起的, 这两个过程都是由原子热振动而引起的 , 但熔融时全部 组元都为液相,而烧结时至少有一组元是处于固态。 组元都为液相,而烧结时至少有一组元是处于固态。
三、烧结模型
G.C.Kuczynski提出粉末压块是由等径球体作为模型。 随着 提出粉末压块是由等径球体作为模型。 提出粉末压块是由等径球体作为模型 烧结的进行, 各接触点处开始形成颈部, 并逐渐扩大, 烧结的进行 , 各接触点处开始形成颈部 , 并逐渐扩大 , 最后烧结成一个整体。 最后烧结成一个整体。 在烧结时,由于传质机理各异而引起颈部增长的方式不同, 在烧结时,由于传质机理各异而引起颈部增长的方式不同, 因此双球模型的中心距可以有二种情况: 因此双球模型的中心距可以有二种情况 : 一种是颈部增 长而两球中心距离不变,如图( ) 长而两球中心距离不变,如图(a)一种是随着颈部增长 两球中心距离缩短。如图( ) 两球中心距离缩短。如图(b)。 双球模型对烧结初期一般是适用的,但随着烧结的进行, 双球模型对烧结初期一般是适用的,但随着烧结的进行,球 形颗粒逐渐变形,因此在烧结中、后期采用其它模型。 形颗粒逐渐变形,因此在烧结中、后期采用其它模型。
这种通过液相传质的机理称溶解—沉淀机理。
结果与讨论
烧结的机理是复杂和多样的, 烧结的机理是复杂和多样的, 但都是以表面张力为动力的。 但都是以表面张力为动力的。 应该指出, 应该指出,对于不同物料和 烧结条件, 烧结条件,这些过程并不是 并重的, 并重的,往往是某一种或几 种机理起主导作用。 种机理起主导作用。当条件 改变时可能取决于另一种机 理。
F ∂v −τ = η S ∂x
式中,τ是极限剪切力。
二、溶解—沉淀 溶解 沉淀
在有液相参与的烧结中,若液相能润湿和溶解固相, 在有液相参与的烧结中,若液相能润湿和溶解固相,由于 小颗粒的表面能较大其溶解度 也就比大颗粒的大。 也就比大颗粒的大。其间存在类似于上式的关系
c 2γ SL M ln = c0 ρRTr
液相烧结传质机理: 液相烧结传质机理:
一、流动传质
这是指在表面张力作用下通过变形、流动引起的物质迁移。 这是指在表面张力作用下通过变形、流动引起的物质迁移。 属于这类机理的有粘性流动和塑性流动。 属于这类机理的有粘性流动和塑性流动。 粘性流动传质 : 若存在着某种外力场,如表面张力作用时,则质点(或空 若存在着某种外力场,如表面张力作用时,则质点 或空 就会优先沿此表面张力作用的方向移动, 位)就会优先沿此表面张力作用的方向移动,并呈现相应 就会优先沿此表面张力作用的方向移动 的定向物质流,其迁移量是与表面张力大小成比例的, 的定向物质流,其迁移量是与表面张力大小成比例的,并 服从如下粘性流动的关系: 服从如下粘性流动的关系:
二、扩散传质
扩散传质是指质点(或空位 借助于浓度梯度推动而迁移 扩散传质是指质点 或空位)借助于浓度梯度推动而迁移 或空位 的传质过程。如图3和图 所示, 和图4所示 的传质过程 。 如图 和图 所示 , 烧结初期由于粘附作 用使粒子间的接触界面逐渐扩大并形成具有负曲率的 接触区。 接触区 。 在颈部由于曲面特性所引起的毛细孔引力 △ρ≈γ/ρ。 。 对于一个不受应力的晶体,其空位浓度C 是取决于温度T 对于一个不受应力的晶体,其空位浓度 o是取决于温度 和形成空位所需的能量△ 和形成空位所需的能量△Gf
P0 dRT r1 r2
表面凹凸不平的固体颗粒,其凸处呈正压,凹处呈负压, 表面凹凸不平的固体颗粒,其凸处呈正压,凹处呈负压, 故存在着使物质自凸处向凹处迁移。 故存在着使物质自凸处向凹处迁移。 如果固体在高温下有较高蒸气压, 如果固体在高温下有较高蒸气压,则可以通过气相导致 物质从凸表面向凹表面处传递。 物质从凸表面向凹表面处传递。此外若以固体表面的 空位浓度C或固体溶解度 分别代替上式中的蒸气压P, 或固体溶解度L分别代替上式中的蒸气压 空位浓度 或固体溶解度 分别代替上式中的蒸气压 , 的关系, 则对于空位浓度和溶解度也都有类似于上式 的关系, 并能推动物质的扩散传递。可见, 并能推动物质的扩散传递。可见,作为烧结动力的表 面张力可以通过流动、 面张力可以通过流动、扩散和液相或气相传递等方式 推动物质的迁移
图4 不同烧结机理的传质途径
晶粒长大与二次再结晶: 晶粒长大与二次再结晶:
在烧结中,坯体多数是晶态粉状材料压制 而成,随烧结进行,坯体颗粒间发生再 结晶和晶粒长大,使坯体强度提高。所 以在烧结进程中,高温下还同时进行着 两个过程,再结晶和晶粒长大。尤其是 在烧结后期,这两个和烧结并行的高温 动力学过程是绝不对不能忽视的,它直 接影响着烧结体的显微结构(如晶粒大小, 气孔分布)和强度等性质。
微观定义:由于固态中分子(或原子)的相互吸引,通过 由于固态中分子(或原子)的相互吸引,
加热,使粉末体产生颗粒粘结, 加热,使粉末体产生颗粒粘结,经过物质迁移使粉末 体产生强度并导致致密化和再结晶的过程。 体产生强度并导致致密化和再结晶的过程。
烧结的意义 烧结是粉末冶金、陶瓷、耐火材料、 烧结是粉末冶金、陶瓷、耐火材料、超高温材料等部门的 一个重要工序。烧结的目的是把粉状物料转变为致密体。 一个重要工序。烧结的目的是把粉状物料转变为致密体。 这种烧结致密体是一种多晶材料,其显微结构由晶体、 这种烧结致密体是一种多晶材料,其显微结构由晶体、 玻璃相和气孔组成, 玻璃相和气孔组成,烧结过程直接影响显微结构中晶粒 尺寸和分布,气孔尺寸和分布以及晶界体积分数….。 尺寸和分布,气孔尺寸和分布以及晶界体积分数 。 烧结过程可以通过控制晶界移动而抑制晶粒的异常生长或 通过控制表面扩散、晶界扩散和晶格扩散而充填气孔, 通过控制表面扩散、晶界扩散和晶格扩散而充填气孔, 用改变显微结构方法使材料性能改善。因此,当配方、 用改变显微结构方法使材料性能改善。因此,当配方、 原料粒度、成型等工序完成以后, 原料粒度、成型等工序完成以后,烧结是使材料获得预 期的显微结构以使材料性能充分发挥的关键工序。 期的显微结构以使材料性能充分发挥的关键工序。