RENA设备培训教材
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rena清洗制绒设备培训
Button bar / 按钮栏
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Operation modes of the machine / 机器的操作模式 1.Mode Off / Off 模式 The background color of the status display is blue. The module is switched off and no outputs are switched on./该模式下状态的背景颜色是蓝 色，所有模块是关闭的，没有任何输出。 2. Mode Manual / 手动模式 The background color of the status display is yellow. The module is in the manual mode. /该模式下状态的背景颜色是黄色，模块处 于手动模式。 3.Mode Service / 维护模式 The background color of the status display is red. The module is in the service mode. /该模式下状态的背景颜色是红色，模块处 于维护模式。 4.Mode Auto / 自动模式 The background color of the status display is green . The module is in the automatic operation mode. /该模式下状态的背景颜色是绿色，模块处于自 动模式。
Software interface of RENA InTex RENA InTex 的软件界面
Software interface of RENA InOxSide RENA InOxSide 的软件界面
Status boxes and info box 状态框和信息框
RENA前后清洗工艺培训教材(PPT 65页)
前清洗到扩散的产品时间: 最长不能超过4小时,时间过长硅片会污染氧化，到扩散污染炉管,从 而影响后面的电性能及效率
工艺卫生
二、RENA InOxSide后清洗工艺培训
后清洗的目的与原理
扩散过程中，虽然采用背靠背扩散，硅片的边缘将不可避免地扩 散上磷。PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域 流到PN结的背面，而造成短路。此短路通道等效于降低并联电阻。
当药液寿命（ Bath lifetime ）到后，需更换整槽药液。
HF酸槽的作用： 1.中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液； 2.去PSG 3.脱水 Rinse 1~3为水洗槽； Dryer 2为风刀；
滚轮分三段设定速度，可根据实际情况对滚轮速度进行修正。 基本的工艺调整原则、设备维护内容，注意事项都同于前清洗设备。
刻蚀槽的作用：
边缘刻蚀，除去边缘PN结，使电流朝同一方向流动。
Alkaline Rinse：碱洗槽 。 所用溶液为KOH，主要工艺参数： Firstfill concentration of chemical:5%; Bath lifetime:250hours; Bath processtemperature:20±10 ℃ 当药液寿命（ Bath lifetime ）到后，需更换整槽药液。
刻蚀槽液面的注意事项： 正常情况下液面均处于绿色，如果一旦在流片过程中颜色改变，立 即通知工艺人员。
产线上没有充足的片源时，工艺要求: 1.停机1小时以上，要将刻蚀槽的药液排到tank，减少药液的挥发。 2.停机15分钟以上要用水枪冲洗碱槽喷淋及风刀，以防酸碱形成的 结晶盐堵塞喷淋口及风刀。 3.停机1h以上，要跑假片，至少一批（400片）且要在生产前半小时 用水枪冲洗风刀处的滚轮，杜绝制绒后的片子有滚轮印。
工艺卫生
二、RENA InOxSide后清洗工艺培训
后清洗的目的与原理
扩散过程中，虽然采用背靠背扩散，硅片的边缘将不可避免地扩 散上磷。PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域 流到PN结的背面，而造成短路。此短路通道等效于降低并联电阻。
当药液寿命（ Bath lifetime ）到后，需更换整槽药液。
HF酸槽的作用： 1.中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液； 2.去PSG 3.脱水 Rinse 1~3为水洗槽； Dryer 2为风刀；
滚轮分三段设定速度，可根据实际情况对滚轮速度进行修正。 基本的工艺调整原则、设备维护内容，注意事项都同于前清洗设备。
刻蚀槽的作用：
边缘刻蚀，除去边缘PN结，使电流朝同一方向流动。
Alkaline Rinse：碱洗槽 。 所用溶液为KOH，主要工艺参数： Firstfill concentration of chemical:5%; Bath lifetime:250hours; Bath processtemperature:20±10 ℃ 当药液寿命（ Bath lifetime ）到后，需更换整槽药液。
刻蚀槽液面的注意事项： 正常情况下液面均处于绿色，如果一旦在流片过程中颜色改变，立 即通知工艺人员。
产线上没有充足的片源时，工艺要求: 1.停机1小时以上，要将刻蚀槽的药液排到tank，减少药液的挥发。 2.停机15分钟以上要用水枪冲洗碱槽喷淋及风刀，以防酸碱形成的 结晶盐堵塞喷淋口及风刀。 3.停机1h以上，要跑假片，至少一批（400片）且要在生产前半小时 用水枪冲洗风刀处的滚轮，杜绝制绒后的片子有滚轮印。
特种设备作业人员安全培训教材
特种设备作业人员安全培训教材第一章介绍特种设备特种设备是指在使用过程中可能对人身安全造成威胁或引起重大财产损失的设备。
根据《特种设备安全法》，特种设备包括压力容器、电梯、起重机械、客运索道、大型游乐设施、汽车运输危险物品、爆炸物品、危险化学品和锅炉等。
这些设备在使用过程中，必须由经过特种设备作业人员的安全培训，确保其运行安全。
第二章特种设备作业人员的管理2.1 特种设备作业人员的职责特种设备作业人员是指在特种设备的操作、维护、检修和日常管理等环节中从事工作的人员。
他们必须具备丰富的工作经验和相应的专业知识，并且要遵守相关法律法规，履行好自己的职责。
2.2 特种设备作业人员的分类特种设备作业人员根据其工作性质和专业要求，分为操作人员、检修人员和管理人员。
操作人员负责特种设备的正常运行和使用，检修人员负责特种设备的维护和检修，管理人员则负责特种设备的日常管理和安全监督。
2.3 特种设备作业人员的安全培训与评定为了保证特种设备作业人员的安全生产能力，需要进行安全培训和评定。
安全培训内容包括特种设备的相关法律法规、操作规程、安全预防措施等。
特种设备作业人员必须通过考试评定，取得相应的操作证书，方可从事相关工作。
第三章特种设备的安全操作3.1 操作前的准备工作在进行特种设备的操作前，特种设备作业人员必须做好以下准备工作：仔细阅读操作手册，了解设备的结构和使用方法；检查设备的安全设施和保护装置是否完好；确保设备周围无阻碍物，良好的通风和照明条件。
3.2 特种设备的正常操作特种设备作业人员在进行设备操作时，必须遵循以下原则：根据操作手册的要求进行正确的操作；严格遵守设备的安全操作规程；保持良好的工作状态，不得饮酒、吸烟或其他影响操作安全的行为。
3.3 特种设备的故障处理在设备操作过程中，如果发生故障或异常情况，特种设备作业人员需要迅速采取措施，确保人员安全。
发生故障时，应立即停止设备运行，切勿擅自修理，必要时及时报警，由专业维修人员进行处理。
rena技术员培训-精选文档
DI water
1.3.2 InOxSIde操作系统主界面
KOH DI water
蚀刻槽 HF+HNO3+H2SO4+DI
HF
CDA
DI water
1.3.3 RENA主界面详细说明
程序内 的日期 和时间 模式、与PLC的 连接情况及登陆 的用户名
灯塔状 态
机器名称
目 的 ：
a）去除硅片表面的磷硅玻璃；b）去掉硅片背面及
周边p-n结。
1.2.2 工作流程
Intex
上料台 制绒槽 吹 干 漂洗 1# 碱 洗
下料台
干 燥
漂洗 3#
酸 洗
漂洗 2#
InOxSide
上料台 刻蚀槽 漂洗 1# 碱 洗 漂洗 2#
下料台
干 燥
漂洗 3#
酸 洗
1.2.3 RENA一次清洗工艺
1.1.1 RENA整机
1.1.1 RENA整机
注：公司一般会根据需要在RENA前后加装上料台、下料台用来代替人工手工放片。 在下料台也会安装吸片装置，用以挑出损坏，破碎的片子。
6
1.1.2 冷却器
1.1.3 电控柜外部
1.1.4 电控柜内部
1.1.5 化学品输送及排风管道
1.1.6 气、水输送管道
KOH溶液，主要去除多孔硅和中和硅表面残余的酸。
反应如下：
Si+2KOH+H2O
K2SiO3+2H2
22
酸洗(HF)的目的及机理
酸洗槽（去PSG）： 氢氟酸能够溶解二氧化硅是因为氢氟酸能与二氧化硅 作用生成易挥发的四氟化硅气体。
SiO 4HF SiF 2H O
2 4 2
特种设备作业人员培训教材课件
（2）、受理：负责具体许可、核准工作的安全监察机 构接到申请书和相关资料后，应当在接到申请书后的 15日内完成初步审查。符合条件的受理。不符合条件 的，书面说明不受理的理由。
（3）、审查：申请单位被正式受理许可、核准后，应 当约请评审机构进行鉴定评审。需进行型式试验的，应 当约请有资格的检验检测机构进行型式试验，并取得型 式试验报告。鉴定评审机构接到约请后，应当及时安排 鉴定评审工作，鉴定评审结束后30日内，向安全监察 机构提交鉴定评审报告。
特种设备行政许可
一、特种设备行政许可的定义：特种设备安全监督管 理部门根据公民、法人或者其他组织的申请，经依法 审查，准予其从事特种设备特定活动的行为。
二、特种设备行政许可设定的合法性：《行政许可法》 第十二条第6款规定：“直接关系公共安全、人身健 康、生命财产安全的重要设备、设施、产品、物品， 需要按照技术标准、技术规范，通过检验、检测、检 疫等方式进行审定的事项”可以设定行政许可。特种 设备就是涉及生命安全、危险性较大的重要设备，其 有关事项需要通过检验、检测等方式进行审定。特种 设备行政许可的设定符合《行政许可法》的规定。
4、部门规章：可以在法律、行政法规规定的给 予行政处罚的行为、种类和幅度的范围内作出具 体规定。尚未制定法律、行政法规的，可以设定 警告或者一定数量罚款的行政处罚。罚款限额由 国务院规定。
5、政府规章：可以在法律、行政法规规定的给 予行政处罚的行为、种类和幅度的范围内作出具 体规定。尚未制定法律、行政法规的，可以设定 警告或者一定数量罚款的行政处罚。罚款限额由 省、自治区、直辖市人大常委会规定。
三、特种设备行政许可设定的法律依据：行政法规 和国务院的决定。行政法规：《特种设备安全监察 条例》（以下简称《条例》）和《危险化学品安全 管理条例》。
RENA清洗区域机台培训
开关机步骤
• 开机：
1 确认外围设施已经就绪（电已接通、纯水压力在4Bar， 温度在20度、气压在6Bar）。 2 打开电源总开关，开启制冷装置开关。 3 打开电脑主机开关，打开显示屏开关。 4 启动软件，设置成手动状态。 5 根据工艺要求调整机器状态。 6 检查是否有报警现象并根据实际情况予以解决。
调整风刀角度 调整水刀角度 按图纸安装 重新按要求安装到位 更换新滚轮 重新把橡胶圈装回槽内 更换支架 调节盖子高度，调整喷淋方向
3
冷却机报警常见原因
13. WAFER 的质量如何 1. 水压是否正常 2. 水温是否正常 3. 滤芯是否堵塞
进水和回水的压力差在 3-6bar 冷却水温度在 15 至 18 度之间 滤芯上无杂质
6 关于overfilled（溶液过满）报警
出现此类报警时，设备检查液位传感器是否正常工作。如果确实 过满，则需要手动排掉部分药液，直到达到生产液位要求。
7 关于 tank empty（储药罐空）报警
出现此类报警时，说明外围相应储药罐中的药品已空，需及时通 知外围人员添加药液。
8 关于 valve blocked（阀门被堵）报警
水洗槽：清 洗片子表面 残留化学品
储液 罐 碱槽
碱槽：中和前 道残留酸；去 除多孔硅
储液罐
酸 槽
酸槽：去除氧化层， 形成疏水面更易吹干 表面。
滚轴可以单独控制，也可以全部一起控制
Recipe界面
填补量 溶液寿命
循环流量
刻蚀槽温度
填补量
碱槽温度
配槽浓度 碱槽寿命
配槽浓度
配槽浓度
酸槽寿命
其余副反应：
1.1: NO2 + H2O = HNO3 + HNO2 1.2: Si + HNO2 = SiO2 + NO +H2O 1.3: HNO3 + NO + H2O = HNO2
rena-技术员培训
MODE MAN&MODE AUTO----自动运行时单 个槽的自动手动切换 FILLING----给冷水机加自来水（冷水机上有 液位显示） DRAINING----冷水机排水（自来水）‘
冷水机状态
9）RENA传动功能
RENA传动功能
传动状态(3个)
同时控制3 个传动
10）RENA剂量瓶
下图为刻蚀槽添加桶画面 三个液位传感 器,低于低液位 传感器或高于 高液位传感器 机器都会报警, 低于中液位传 感器并且高于 低液位传感器 系统开始加液, 加液时添加桶 上方的气动阀 打开(颜色变为 绿色)。
刻蚀槽(HF、HNO3、H2SO4)刻蚀目的： 1. 去除硅片周边及背面P-N结，减少漏电流。 2. 去除在扩形成的磷硅玻璃，较少光的反射，降低
接触电阻。
扩散中磷硅玻璃的形成： 4 POCl3 + 3 O2 = 2 P2O5 + 6 Cl2 在较高的温度的时候， P2O5作为磷源与Si发生了如下反应： 2 P2O5 +5 Si = 5 SiO2 + 4 P 所以去磷硅玻璃清洗实质上就是去除硅片表面的SiO2。
清洗设备培训
目录
• 第一部分：RENA清洗机设备概况 • 第二部分：单晶清洗机设备概况 • 第三部分：RENA管路图 • 第四部分：RENA电路图 • 第五部分：RENA机械原理 • 第六部分：西门子 PLC
第一部分 RENA清洗机设备概况
1.1 RENA清洗机的组件 • • • •
• • •
1.1.1 RENA整机
1.1.1 RENA整机
注：公司一般会根据需要在RENA前后加装上料台、下料台用来代替人工手工放片。 在下料台也会安装吸片装置，用以挑出损坏，破碎的片子。
冷水机状态
9）RENA传动功能
RENA传动功能
传动状态(3个)
同时控制3 个传动
10）RENA剂量瓶
下图为刻蚀槽添加桶画面 三个液位传感 器,低于低液位 传感器或高于 高液位传感器 机器都会报警, 低于中液位传 感器并且高于 低液位传感器 系统开始加液, 加液时添加桶 上方的气动阀 打开(颜色变为 绿色)。
刻蚀槽(HF、HNO3、H2SO4)刻蚀目的： 1. 去除硅片周边及背面P-N结，减少漏电流。 2. 去除在扩形成的磷硅玻璃，较少光的反射，降低
接触电阻。
扩散中磷硅玻璃的形成： 4 POCl3 + 3 O2 = 2 P2O5 + 6 Cl2 在较高的温度的时候， P2O5作为磷源与Si发生了如下反应： 2 P2O5 +5 Si = 5 SiO2 + 4 P 所以去磷硅玻璃清洗实质上就是去除硅片表面的SiO2。
清洗设备培训
目录
• 第一部分：RENA清洗机设备概况 • 第二部分：单晶清洗机设备概况 • 第三部分：RENA管路图 • 第四部分：RENA电路图 • 第五部分：RENA机械原理 • 第六部分：西门子 PLC
第一部分 RENA清洗机设备概况
1.1 RENA清洗机的组件 • • • •
• • •
1.1.1 RENA整机
1.1.1 RENA整机
注：公司一般会根据需要在RENA前后加装上料台、下料台用来代替人工手工放片。 在下料台也会安装吸片装置，用以挑出损坏，破碎的片子。
设备安全培训教材(50页)2
23
常用机械设备操作安全
►用砂轮打磨工件表面时，应把刀具移到安全位置，不要让衣服和手接触工件表面。 加工内孔时，不可用手指支撑砂轮，应用木棍支撑，同时速度不宜太快。 ►为防止切削崩碎伤人，应在合适的位置上安装透明挡板。 ►持工件的卡盘、拨盘、鸡心夹的凸出部分最好使用防护罩，以免绞住衣服及身体的 其他部位。如无防护罩，操作时应注意安全距离，不要靠近。 ►用顶尖装夹工件时，顶尖与中心孔应完全一致，不能用破损或歪斜的顶尖。使用前 应将顶尖和中心孔擦净，后尾座顶尖要顶牢。 ►禁止把工具、夹具或工件放在车床床身上和主轴变速箱上。
12
操作人员的培训及管理
第1水准 第2水准 第3水准 第4水准
☆ 不合理发现的能力 ☆ 防止劣化的能力 ☆ 不合理改善的能力 ☆ 设备的构造.机能的理解能力 ☆ 准确快速点检的能力 ☆ 发现异常原因的能力 ☆ 设备-品质关系的理解能力
☆ 预知品质异常与发现原因的能力
☆ 准确快速简易修理设备的能力
13
20
常用机械设备操作安全
☆安全操作压力机 ►每日作业前，检查冲压机（离合器、制动器、安全装置），出现问题应立即进行修 补，保证完好。 ►整理好工作空间，将一切不必要的物件清理干净，以防工作时震落到开关上，造成 冲床突然启动发生事故。 ►依照安全操作规程进行作业。 ►整理好机器周围空间，地上杂物冲洗清理干净，以防工作时滑跌或绊倒。 ►停机检修或因其他原因停机时，应使用安全片或安全塞防止意外滑动事故，并在明 显处挂牌警告。 ►绝对不能私自拆除安全装置或使其功能失效。 ►服装要整齐，使用指定的作业工具和劳保用品（安全帽、手套、工夹具等）。 ►两人以上共同作业时，需设置两个以上开关，同时启动时才能有效。 ►身体不适、疲惫时，禁止作业。 ►定期检修安全装置。
常用机械设备操作安全
►用砂轮打磨工件表面时，应把刀具移到安全位置，不要让衣服和手接触工件表面。 加工内孔时，不可用手指支撑砂轮，应用木棍支撑，同时速度不宜太快。 ►为防止切削崩碎伤人，应在合适的位置上安装透明挡板。 ►持工件的卡盘、拨盘、鸡心夹的凸出部分最好使用防护罩，以免绞住衣服及身体的 其他部位。如无防护罩，操作时应注意安全距离，不要靠近。 ►用顶尖装夹工件时，顶尖与中心孔应完全一致，不能用破损或歪斜的顶尖。使用前 应将顶尖和中心孔擦净，后尾座顶尖要顶牢。 ►禁止把工具、夹具或工件放在车床床身上和主轴变速箱上。
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操作人员的培训及管理
第1水准 第2水准 第3水准 第4水准
☆ 不合理发现的能力 ☆ 防止劣化的能力 ☆ 不合理改善的能力 ☆ 设备的构造.机能的理解能力 ☆ 准确快速点检的能力 ☆ 发现异常原因的能力 ☆ 设备-品质关系的理解能力
☆ 预知品质异常与发现原因的能力
☆ 准确快速简易修理设备的能力
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常用机械设备操作安全
☆安全操作压力机 ►每日作业前，检查冲压机（离合器、制动器、安全装置），出现问题应立即进行修 补，保证完好。 ►整理好工作空间，将一切不必要的物件清理干净，以防工作时震落到开关上，造成 冲床突然启动发生事故。 ►依照安全操作规程进行作业。 ►整理好机器周围空间，地上杂物冲洗清理干净，以防工作时滑跌或绊倒。 ►停机检修或因其他原因停机时，应使用安全片或安全塞防止意外滑动事故，并在明 显处挂牌警告。 ►绝对不能私自拆除安全装置或使其功能失效。 ►服装要整齐，使用指定的作业工具和劳保用品（安全帽、手套、工夹具等）。 ►两人以上共同作业时，需设置两个以上开关，同时启动时才能有效。 ►身体不适、疲惫时，禁止作业。 ►定期检修安全装置。
rena
Status
C（cleared) （ P (present) A (acknowledged)
Ack-System
Rena 一般报警信息中文注释
8
功能单元
冷却单元 冷却单元 冷却单元 冷却单元 1#碱液供给 碱液供给 1#碱液供给 碱液供给 1#氢氟酸供给 氢氟酸供给 1#氢氟酸供给 氢氟酸供给 1#氢氟酸供给 氢氟酸供给 1#碱洗槽 碱洗槽 2#洗槽 洗槽 常规 常规 常规 常规 常规
当前状况765432
1
11
Rena水平刻蚀 清洗机各槽分 布图
1.Etch bath； 2.Rinse 1； 3.Alkaline rinse； 4.Rinse 2；
5.Hf bath； 6.rinse 3（DI-Water spray）； 7.dryer 2。
Rena设备管路图 设备管路图
12
Status
Rena 一般报警信息中文注释
10
功能单元
常规 常规 常规 常规 氢氟酸-硝酸槽 氢氟酸 硝酸槽 氢氟酸-硝酸槽 氢氟酸 硝酸槽 氢氟酸-硝酸槽 氢氟酸 硝酸槽 氢氟酸-硝酸槽 氢氟酸 硝酸槽 氢氟酸-硝酸槽 氢氟酸 硝酸槽 氢氟酸-硝酸槽 氢氟酸 硝酸槽 氢氟酸-硝酸槽 氢氟酸 硝酸槽 氢氟酸-硝酸槽 氢氟酸 硝酸槽 氢氟酸-硝酸槽 氢氟酸 硝酸槽 氢氟酸-硝酸槽 氢氟酸 硝酸槽 氢氟酸-硝酸槽 氢氟酸 硝酸槽
Message text
15 Front door 1 and 2 area rinse (process) not closed 80 Input (Output) wafer jam trace 1 8 Leakage HF/HNO3 safety pan 10 Leakage acidic (alkaline) safety pan 257 Maximum temperature circulation exceeded 225 Exceeding the time when filling chemistry 216 Not accurate filled with chemistry 304 Minimum flow not reached 352 External supply not ready 225 Sensor combination 272 check analog sensor temperature （bath,return pipe) 272 Overflow bath overfilled 240 Error at the frequency static frequency changer 229 Dry protection pump 224 Overfilled
RENA设备电气培训教材
组织块 主循环扫描 日期时间中断 时间延时中断 看门狗中断 硬件中断 多处理器中断 启动 故障 , 异步 故障 , 同步
局部数据区
块的最大长度 块的最大嵌套深度
MPI 和 K 总线上 在线激活的最大节点数
MPI 和 K 总线上最大节点数
每个 GD组的数据大小
S7-400: CPU 技术参数（2）
CPU 412-1 CPU 413-1 CPU 413-2
CPU 414-1
OB 1 OB 10,11 OB 20,21 OB 32,35 OB 40OB 121,122
4 KB
64 KB 16
OB 1 OB 10,11 OB 20,21 OB 32,35
OB 40,41 OB 60 OB 100,101 OB 80-87 OB 121,122
200 nsec 200 nsec 200 nsec 1200 nsec
100 nsec 100 nsec 100 nsec 600 nsec
100 nsec 100 nsec 100 nsec 600 nsec
80 nsec 80 nsec 80 nsec 480 nsec
48 KB 8 KB 16 MB
p. 512 Byte
p. 2 KByte *) p. 2 KByte *) p. 2 KByte *) p. 8 KByte *)
p. 8 KByte *)
p. 16 KByte *)
MPI
MPI,
MPI, DP
MPI
MPI, DP
MPI
*) 1 Byte = 8 数字量输入/输出 2 Byte = 1 模拟量输入/输出
OB 1 OB 10,11 OB 20,21 OB 32,35 OB 40,41 OB 60 OB 100,101 OB 80-87 OB 121,122
RENA培训
调节挡板 和滚轮之 间的距离
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调整喷淋管的位置，至滚轮能够光滑的运行． 调整风管和水管的位置，使得片子在通过的时候，不会影响片子的运行．
48
检查所有滚轮和O-ring的位置是正确的，确保上下滚轮在同一条线上． 调节滚轮的高度和水洗管的位置保证片子在传送过程中无偏移．如果发生 偏移会产生碎片．
49
调节滚轮１的速度小于滚轮２的速度，如果生产不赶产量，则尽量让 生产人员放片子不要太急，拉大片间距，这样片子进出设备较均匀，不 易产生叠片等现象．
片子之 间距离 2cm
50
周维护
1.检查供排酸管路有无泄漏。 2.循环泵是否正常工作，有无噪音。 3.检查各槽体排液过滤筛有无堵塞情况，并清理槽内碎片 4.检查风刀，水刀有无堵塞状况，并及时清理。 5.确认滚轮水平状况，并根据生产情况进行调整。
去PSG工序检验方法： 当硅片从HF槽出来时，观察其表面是否脱水，如果脱水，则表 明磷硅玻璃已去除干净；如果表面还沾有水珠，则表明磷硅玻璃 未被去除干净，可在HF槽中适当补些HF。
5.刻蚀设备构造
工艺步骤： 边缘刻蚀→碱洗 →酸洗→吹干 RENA InOxSide刻蚀设备的主体分为以下七个槽，此外还有滚轮、排 风系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。
Etch bath：刻蚀槽，用于制绒。 所用溶液为HF+HNO3 ，作用： 1.去除硅片表面的机械损伤层； 2.形成无规则绒面。 Alkaline Rinse：碱洗槽 。 所用溶液为KOH，作用： 1. 对形成的多孔硅表面进行清洗； 2.中和前道刻蚀后残留在硅片表面的酸液。
Acidic Rinse：酸洗槽 。 所用溶液为HCl+HF，作用： 1.中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液； 2.HF可去除硅片表面氧化层（SiO2），形成疏水表面，便于吹干； 3.HCl中的Cl-有携带金属离子的能力，可以用于去除硅片表面金属 离子。
RENA培训
RENA培训
来XXXX已经一周了，非常高兴加入这个大家庭。
报到的第一天，X课长安排跟魏华师傅学习RENA站设备。
通过一周时间的学习，大致对RENA站INTEX有了一些了解。
下面把学到INTEX的整个走片流程和机器保养流程做一个记录。
INTEX流程分为三个大步骤，进料、蚀刻清洗、传送装盒。
1.进料
wafer拆包装→wafer装入片盒→拆堆机分片到传送带上
下图中片盒周围有几个sensor和2个吹气嘴。
sensor A感应判断片盒位置以及给片盒定位，sensor B感应片盒里wafer位置给信号电机来微调摇篮架片盒的位置，当片盒里无wafer时，摇篮自动跟换到下一个有wafer的片盒。
吹气嘴负责吸盘吸片时分离叠在一起的wafer。
sensor C感应吸起的wafer是否完好，如果破损就放入后面的废料盒，没有就放入传送带，一般sensor C只能感应缺损比较大的wafer。
传送带传送→
片盒
吸盘
A B
C。
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2．F8 Rinse1：水清洗1。下图是在自动状态下 抓拍的。 • • • • • • • 2.1 Mode man：手 动操作模式 2.2 Fill DI： 充水 2.3 Draining: 排放 2.4 Star process: 循环开始 2.5 Stop :停止 2.6 Auto：自动模式 充水时注意，是先 从Rinse 3充，然后 通过溢流管道到 Rinse 2，再到 Rinse 1.
调用补液模式下的子菜单
调用温度曲线下的子菜单 调用过程监控下的子菜单 调用诊断模式下的子菜单 关闭报警声音 调出报警详情和提示
• •
F9 service服务模式： 1.F9 inputs digital 数字量输入
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2.F8 inputs analog 模拟量输入
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3.F7 outputs digital 数字量输出
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3. F7 Alkaline: 碱槽
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– –
Mode Manual 手动模式 Filling Di 充纯 水 Filling chemie 充碱液 Rinsing 水清 洗 Draining 排放 Star circulation 循环启动 Star Etching 刻蚀开始（当有 片子走过时， RENA会自动按 照设定值补液） Stop 停止 Mode Auto 自 动模式
密码：Administrator 密码：process 密码：service
• • •
功能键介绍
Mode off 轻易不要点，模式关闭后，药液会自动排掉
•
模式关闭
。
• • •
手动模式 服务模式 自动模式
•
导航键
• • •
调用服务模式下的子菜单 调用手动模式下的子菜单 调用工艺模式下的子菜单
•
• • • • •
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碱槽(4) • 碱槽循环泵及过滤器 装置
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HF槽（1） • • HF反应槽 内外槽溢流式循环
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HF酸槽（2） 左图HF酸槽循环泵与过滤装置 右图HF酸槽喷淋流量调节阀
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无橡胶圈与风刀摩擦力小
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干燥槽 左图为干燥槽两对风刀 右图为吹风量调节阀
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RENA电气控制介绍
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4.F6 outputs analog 模拟量输出
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F8 Manua 1.点击F8 Manual后，就进入了Etch bath手动操作 界面，如下图
– – Mode man： Etch bath手动 操作 PT Fill Di ：Etch bath充水， 一般是在维修刻蚀槽或者调试 的时候才选择。 PT Fill Chemie: Etch bath 工 艺配液时使用。选择后，刻蚀 槽将按照工艺设定值配各种化 学药品。 System rinsing：系统清洗， 先将刻蚀液排放后，充水进行 清洗。没有工艺的允许不要进 行此项的操作。 System draining：系统排放， 是将刻蚀液排放，在没有工艺 的允许下不要进行操作。 Mode Auto: 刻蚀槽自动模式 Rinse bath star :水清洗刻蚀槽， 在刻蚀液排到储备槽以后，用 水枪冲洗刻蚀槽时使用，选择 此项功能后，V810/5阀会打开。 冲洗过的水会通过此阀排至外 围。 Rinse bath stop: 水清洗停止。 Fill bath: 刻蚀液从储备槽打到 刻蚀槽。 Drain bath: 刻蚀液从刻蚀槽打 到储备槽。
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6.1 conveyor1 上料台 6.2 conveyor2 刻蚀槽，水洗1，碱槽，水洗2 6.3 conveyor3 HF槽， 水洗3，风干，下料
对上料台单独操作时，可以电击conveyor1图标，会弹 出一个窗口。如图
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6.4 对所有的传送机构进行操作，点击 ALL Conveyor弹出窗口，可以进行所 以驱动的操作如图：
RENA设备培训教材
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RENA软件操作说明
点击logoff，在弹出的对话框内输入用户名和密码。Login name处会显示当前的 点击
• • • • 用户 RENA的用户名及密码 RENA设备用户名：Administrator RENA工艺用户名：process RENA 管理员用户名：service
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前槽液位溢流挡板(可手 动调整)一般要求60%70%的液体往次出流出
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刻蚀槽(3) • 刻蚀槽后段部分
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刻蚀槽后溢流挡板(可手 动调节)一般调整为30%40%的液从这里流出
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滚轮露出液面在3毫米左 右
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液位传感器
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流量计
• 补液阀并控制流量
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刻蚀槽(4) 刻蚀槽配液补液部分. 配槽过程中HNO3,DI,H2SO4通过外围直接打到储备槽中.HF由于配液量小,直接通过储备箱中打到 储备槽配液. 在线补液中HNOS,HF,则通过储备箱中直接补到储备槽内.
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设备5S工作（槽内，门窗，滚轮，机台 内部，排液部分箱体，沾污器件）每月
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机台内部
排液部分箱体及排液器件
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更换过滤器或清洗过滤器和清洗腔体 （每月）
• 过滤器放置腔体
清洗排液手动阀（用于排放过滤器内液体）
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检查各启动阀是否损坏
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检查各隔膜泵排液是否正常,效准传感器
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检查各循环泵运行发 热情况
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刻蚀槽(4） • 刻蚀槽循环电机（私 服电机）
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刻蚀槽(5）
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刻蚀槽冷热交换器 （刻蚀液循环恒温）
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刻蚀槽(6） 电导率表,用于检 测刻蚀槽冷热交 换器内刻蚀电导 率,防止冷凝水管 破损泄露造成刻 蚀液的污染
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水清洗槽(1)(RINSE1-RENSE3)
• 水清洗槽1-3基本类似,这 里只拿RINSE1说明.
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两个上水喷淋管
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两个下水喷淋管
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滤水风刀
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水清洗槽(2) • 管路循环部分
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循环泵(离子泵)
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液体过滤器装置
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水清洗槽(3)
• 喷淋调节部分
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]
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RINSE3 加装外接纯水喷淋调 节喷淋流量处
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清洗槽喷淋流量调节处,对应上 下喷淋管进行调节
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充水时注意，是先从Rinse 3充，然后 通过溢流管道到Rinse 2，再到Rinse 1.
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RENA的维修须知
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PLC电池 PLC是采用5号3.6V两节电池备用供电，当外部突然断电或者停机断电以后，电池对PLC存储单 元进行单独供电，防止程序的丢失。正常状态下，BTAAF指示灯不亮。如果指示为黄灯时，说 明电池电压比较弱，应更换电池。通常BATT.INDIC开关应打在2BATT位置 更换电池 更换电池必须是在主电源没有断电的情况下进行。更换电池一时，将BATT.INDIC开关打在 2BATT位置。更换电池二时，则将BATT.INDIC开关打在1BATT位置。 主控柜重启步骤
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水清洗槽(3) • 各水清洗槽共用的排液 泵
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碱槽(1) • 碱槽槽面状况
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碱槽风刀
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碱槽上下喷淋管
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碱槽(2) • 碱槽循环控制部分
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化学品取样口
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喷淋流量调节部分
• 外围冷却水管
• 碱槽加液阀 • 冷凝器拆装口
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碱槽(3) 碱槽通过外围冷却水降温 两个加液阀，V880/25为配槽时补碱用，V880/26为在线补液时用（∮2.5的变径塞，精确 控制补液量）
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刻蚀槽滚轮水平的调整 硅片厚度约0.22mm，是在液体上方，距离刻蚀液越1mm的距离，靠液体的吸附性，进行刻蚀的， 因此片子在刻蚀槽进行刻蚀时。对刻蚀槽的液位高度和滚轮水平要求都比较高。如果滚轮不平， 会造成片子过刻或者刻蚀深度不够、不均匀的情况。片子进入刻蚀槽后，首先是去沾液，也就 是刻蚀槽的第一个滚轮比前一个滚轮要低一些，后面的滚轮都是水平的，来保证电池片刻蚀深 度和均匀性。 调整滚轮以前，首先将刻蚀液打入储备槽，然后对刻蚀槽进行系统清洗。清洗完毕后，在 SERVICE模式下，将滚轮转动，把刻蚀槽上方的盖板打开，用侧面的水枪对刻蚀槽所有滚轮包 括滚轮卡座进行清洗。完毕后，在SERVICE模式下，将阀V810/5双击打开，把值改为1。即可 把刻蚀槽内的水给排掉。 由于刻蚀槽对滚轮水平要求比较高，水平尺是没有办法测量的前后滚轮的水平。唯一可以判断 的方法就是将片子放在滚轮上面走，看片子走的状态是否平稳。如果电池片前端有轻微的抬头 或者下沉的现象，说明这跟滚轮有些变形，要进行更换或者对卡坐进行清洁。如果是在两端底 座相接的地方。可以调节底座的高度来保证滚轮的水平。 刻蚀槽侧挡板的调整 RENA刻蚀槽液位主要有侧挡板和流量来控制的。要调整液位时，首先让工艺将流量设为标准值 38L/H。当刻蚀槽液位达到要求以后，每道都投入一片酸制绒片子或者假片。碱制绒的片子铺展 比较大，至少有五个毫米，不利于观察。酸制绒的片子和假片的铺展量比较小几乎没有，这样 有利于观察片子在刻蚀槽的沾液情况。根据片子在刻蚀槽的沾液情况来调整侧挡板的高度。每 次调整时一定要将刻蚀液排到储备槽。并按照上面的方法进行清洗，保证自己的安全！
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RENA硬件结构介绍
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上料台(1) 上料台
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记数传感器
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上料台滚轮
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上料台(2) 上料台
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传动齿轮箱
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上料台传动电机
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下料台
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记数传感器
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上料台滚轮
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刻蚀槽(1)
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