电子级氢氟酸质量标准
高纯氢氟酸的介绍与生产
高纯氢氟酸的介绍与生产一、概述高纯氢氟酸英文名 hydrofluoric acid，分子式 HF，分子量 20.01。
为无色透明液体，相对密度 1.15～1.18，沸点112.2℃，在空气中发烟，有刺激性气味，剧毒。
能与一般金属、金属氧化物以及氢氧化物发生反应，生成各种盐类。
腐蚀性极强，能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。
易溶于水、醇，难溶于其他有机溶剂。
高纯氢氟酸为强酸性清洗、腐蚀剂，可与硝酸、冰醋酸、双氧水及氢氧化铵等配置使用，主要应用于集成电路（IC）和超大规模集成电路（VLSI）芯片的清洗和腐蚀，是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一，还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。
目前，在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业，其它方面用量较少。
二、高纯氢氟酸的分类国际SEMI（Semiconductor Equipment and Materials International）标准化组织根据高纯试剂在世界范围内的实际发展情况，按品种进行分类，每个品种归并为一个指导性的标准，其中包括多个用于不同工艺技术的等级，具体见下表1。
表1 SEMI国际标准等级国内有的高纯试剂生产企业拥有自己的企业标准，其中，BV 系列标准比较常见，该标准共分为七个等级。
如：北京化学试剂用的就是BV系列标准，具体见下表2。
表2 国内高纯试剂常用规格目前，因各微电子生产企业对高纯氢氟酸要求的标准不同，可将其划分为四个档次：①低档产品，用于>1.2μmIC工艺技术的制作；②中低档产品，适用于0.8～1.2μmIC工艺技术的制作；③中高档产品，适用于0.2～0.6μmIC工艺技术的制作；④高档产品，适用于0.09～0.2μm和＜0.09μm IC工艺技术的制作。
三、制备方法与工艺目前国内外制备高纯氢氟酸的常用提纯技术有精馏、蒸馏、亚沸蒸馏、气体吸收等技术，这些提纯技术各有特性，各有所长。
有的提纯技术如亚沸蒸馏技术只能用于制备量少的产品，而有的提纯技术如气体吸收技术可以用于大规模的生产。
电子级氢氟酸生产工艺和质量指标介绍
电子级氢氟酸生产工艺和质量指标介绍电子级（高纯）氢氟酸是一种重要的化工原料，在半导体、电子、光学和其他精细化工领域有广泛应用。
其主要用途是用于刻蚀硅片和清洗半导体材料。
电子级（高纯）氢氟酸的生产工艺一般包括氟化矾石法和电解法两种。
氟化矾石法是将氢氟酸的原料矿石矾石与浓硫酸进行反应，生成氟化铝，然后用热蒸汽进行气化，生成气态氟化氢。
接下来，将气态氟化氢与空气中的水蒸气反应，生成氢氟酸。
这种方法可获得较高纯度的氢氟酸，但反应过程中需要高温和高压，工艺复杂，对设备要求较高。
电解法是将电解质性透明盐岩溶解在水中，经过电解，阳极会产生氧气，而阴极则产生氢气和氟气，从而通过电解生成氢氟酸。
这种方法的优点是工艺相对简单、操作方便，并且可连续生产。
但由于电解过程中存在多种杂质和杂质侵入的问题，所以其产出的氢氟酸需要经过进一步的纯化处理，以获得高纯度的电子级氢氟酸。
电子级（高纯）氢氟酸的质量指标主要包括纯度、水分、杂质和金属离子含量等。
一般来说，电子级（高纯）氢氟酸的纯度要求在99.999%以上，水分含量应控制在100ppm以下，杂质含量如氯离子、硫酸根离子等应低于1ppm。
金属离子如铁离子、铜离子等也应低于1ppm。
此外，颜色应无色透明、无悬浮物。
为了确保电子级（高纯）氢氟酸的质量，需要对生产过程进行严格的控制和监测。
比如，在氟化矾石法中，需要控制反应温度和压力，确保反应的高效进行，同时还要进行杂质的去除和纯化处理。
在电解法中，需要选用合适的电解质以及控制电化学条件，以减少杂质的产生。
而在后续的纯化过程中，常采用蒸馏、吸附等技术，去除残余的杂质和离子。
总而言之，电子级（高纯）氢氟酸的生产工艺和质量控制对于实现高纯度和稳定质量至关重要。
只有通过科学合理的工艺流程和严格的质量控制，才能生产出符合要求的电子级（高纯）氢氟酸，以满足精细化工产业的需求。
电子级氢氟酸国家标准
电子级氢氟酸国家标准电子级氢氟酸是一种重要的化工原料，广泛应用于半导体、光伏、电子等领域。
为了规范电子级氢氟酸的生产和使用，保障产品质量，国家相关部门制定了电子级氢氟酸国家标准，以下将对该标准进行详细介绍。
首先，电子级氢氟酸国家标准对产品的物理性质、化学性质、纯度、杂质含量、包装、标识等方面进行了规定。
其中，物理性质包括外观、密度、沸点等指标；化学性质包括PH值、水溶液外观、氟化硅含量等指标；纯度方面要求氢氟酸的纯度不低于99.99%，杂质含量严格控制在ppm级别以下。
此外，标准还对电子级氢氟酸的包装和标识做出了具体规定，以确保产品在运输和使用过程中的安全性和可追溯性。
其次，电子级氢氟酸国家标准对生产工艺和质量控制提出了严格要求。
生产工艺应符合国家相关法律法规，采用先进的生产设备和工艺流程，确保产品质量稳定可靠。
质量控制方面，标准要求生产企业建立健全的质量管理体系，对原材料、中间品和成品进行全程跟踪和控制，确保产品符合标准要求。
此外，电子级氢氟酸国家标准还对产品的储存和运输提出了具体要求。
储存环境要求干燥、通风、避光，避免与氧化剂、碱类物质混存，避免阳光直射。
运输过程中要采取防止产品泄漏的措施，确保产品安全到达目的地。
总的来说，电子级氢氟酸国家标准的制定和实施，对于规范产品质量、促进行业健康发展具有重要意义。
生产企业应严格按照标准要求进行生产，加强质量管理，确保产品符合标准，为电子行业的发展提供高质量的原材料保障。
同时，相关部门和监管机构应加强对标准的执行和监督，确保产品质量和安全，为行业发展营造良好的环境。
在未来，随着电子行业的不断发展，电子级氢氟酸的需求量将会进一步增加，国家标准也将不断完善和更新，以适应市场需求和技术发展的要求，推动行业持续健康发展。
通过对电子级氢氟酸国家标准的介绍，相信大家对该标准有了更深入的了解。
希望生产企业和相关行业能够严格遵守标准要求，共同努力，推动电子级氢氟酸行业的发展和进步。
电子级氢氟酸项目实施方案
电子级氢氟酸项目实施方案规划设计/投资分析/实施方案电子级氢氟酸项目实施方案我国氢氟酸产能“小而散”，高准入门槛及相关政策严控产能产量。
氢氟酸是氟化氢（化学式：HF）的水溶液，其与水的恒沸物中含38%（质量分数）HF，为一种弱酸。
而无水氢氟酸（AHF）为液态氟化氢，其酸性极强，是氟化工产业链的关键中间产品，为大多数氟化物最普遍和最基本的原料，可用于制备下游氟烷烃、氟化盐、含氟精细化学品、含氟聚合物等。
工业中的AHF由浓硫酸与酸级萤石精粉（氟化钙纯度高于97%）反应制得，其具有强腐蚀性、毒性、易对人体及环境造成危害等特点，属于危化品。
从行业格局上看，我国氢氟酸上下游主要配套在萤石资源丰富的区域内，以华东为主，产能“小而散”，生产存在污染严重、产能分散且利用率低、行业集中度低等问题。
近年来国家各部委和部门出台了一系列条例和准则来规范行业发展，氢氟酸的生产、贮藏、运输等环节均受到国家严格管控与限制，氢氟酸装置开工条件及产能投放等均受到制约。
该电子级氢氟酸项目计划总投资9245.97万元，其中：固定资产投资6835.28万元，占项目总投资的73.93%；流动资金2410.69万元，占项目总投资的26.07%。
达产年营业收入19113.00万元，总成本费用14377.14万元，税金及附加174.33万元，利润总额4735.86万元，利税总额5563.41万元，税后净利润3551.89万元，达产年纳税总额2011.51万元；达产年投资利润率51.22%，投资利税率60.17%，投资回报率38.42%，全部投资回收期4.10年，提供就业职位287个。
坚持安全生产的原则。
项目承办单位要认真贯彻执行国家有关建设项目消防、安全、卫生、劳动保护和环境保护的管理规定，认真贯彻落实“三同时”原则，项目设计上充分考虑生产设施在上述各方面的投资，务必做到环境保护、安全生产及消防工作贯穿于项目的设计、建设和投产的整个过程。
......电子级氢氟酸是半导体制作过程中应用最多的电子化学品之一，在氟化氢行业频遭限制的情况下，高纯电子级氟化氢却逆势而上，不断有企业增扩电子级氟化氢产能。
氢氟酸电子级指标
Quality Standard:
Item
Index
EL
UP
UP-S
Hydrogen Fluoride (HF), w/ %
49±0.5
49±0.5
49±0.5
Color,hazen≤
≤10
≤10
≤10
SilicofluoricAcid, H2SIF6ppb ≤
--
--
Tlppb ≤
--
≤10 ppb
≤1 ppb
Snppb ≤
≤20 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Sbppb ≤
--
≤10 ppb
≤1 ppb
Ti ppb ≤
≤100 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
V ppb ≤
--
≤10 ppb
≤1 ppb
Zn ppb ≤
≤100 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Packing: The product is filled in a 25 kg polythene plastic drum;Alsofill it on consumer requests.
≤10 ppb
≤1 ppb
Pbppb ≤
≤50 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Li ppb ≤
≤20 ppb
≤5 ppb
≤1 ppb
Mg ppb ≤
≤100 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
Mnppb ≤
≤100 ppb
≤10 ppb
≤1 ppb
电子级氢氟酸质量标准
电子级氢氟酸福建省邵武市永飞化工有限公司电子级氢氟酸的质量标准
质量标准：
UP-S级:适用0.35-0.8微米集成电路加工工艺,金属杂质含量小于1ppb,经过0.05微米孔径过滤器过滤，控制0.2微米粒子,在100级净化环境中灌装达到SEMI C8标准.
UP级:适用1微米集成电路及TFT-LCD制造工艺,金属杂质含量小于10ppb,经过0.2微米孔径过滤器过滤，控制0.5微米粒子,在100级净化环境中灌装,达到SEMI C7标准EL级:金属杂质含量小于100ppb,控制1微米粒径粒子,达到SEMI C1 C2标准,适合中小规模集成电路及电子元件加工工艺
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•巨化凯圣氟化学有限公司
•电子级氢氟酸up级。
电子级氢氟酸研究进展
第52卷第8期 辽 宁 化 工 Vol.52，No. 8 2023年8月 Liaoning Chemical Industry August，2023收稿日期： 2021-08-23 电子级氢氟酸研究进展朱博超，章志成（浙江森田新材料有限公司，浙江 金华 321200）摘 要： 随着电子信息时代的到来，电子芯片逐渐成为国家未来大力发展的主要产业。
电子级氢氟酸作为芯片制作过程必需的化学品，也成为此产业上未来主要发展的方向。
介绍了氢氟酸一般生产流程、等级分类以及电子级生产工艺、技术难点等。
关 键 词：氢氟酸； 分类； 电子级中图分类号：TQ124.3 文献标识码： A 文章编号： 1004-0935（2023）08-1217-032021年3月13日，《中华人民共和国国民经济和社会发展第十四个五年规划和2035年远景目标纲要》（以下简称《纲要》）发布，《纲要》中提到，加快智能制造、高端芯片等领域关键核心技术突破和应用。
未来五年，中国力争在芯片、人工智能、量子计算等先进技术领域取得领先的地位[1]。
围绕“光芯屏端网”等，攻克一批卡脖子技术，推动“临门一脚”关键技术产业化，增强产业核心竞争力[2]。
打造“光芯屏端网”等具有国际竞争力的万亿产业集群。
集成电路是指采用一定的工艺，将近亿晶体管等半导体器件与电阻、电容、电感等基础电子元件连接集成于小块基板，然后封装于管壳内，将组装为微型电子部件的集成电路通常称为芯片。
电子级多晶硅（以下简称“硅料”）是国家大力发展的一种战略性原材料，也是集成电路产业不可缺少的基础性原料[3]。
目前，西方等发达国家企业掌握其主要生产技术，而中国市场上的集成电路用多晶硅材料基本为国外生产，同时我国生产电子级氢氟酸的企业还未达到10家[4-5]，所以攻克电子级多晶硅关键生产技术可以增强产业在国际上的核心竞争力[6-7]。
硅料化学清洗作为电子级多晶硅生产关键核心工序，可以有效去除硅料表面颗粒及化学性沾污。
行业标准电子工业用高纯氢氟酸中痕量杂质元素含量的测定
行业标准电子工业用高纯氢氟酸中痕量杂质元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法（讨论稿）编制说明工作简况项目的必要性简述1 项目背景和立项意义近年来随着极大规模集成电路产业的发展，高纯氢氟酸的使用范围越来越广，使用量也越来越大，集成电路产业对氢氟酸的纯度要求也越来越高。
高纯氢氟酸作为清洗半导体材料的重要原料，其阳离子含量如钠、镁、铝、钾、钙、铬、铁、镍、铜、钴、锌、锡、钛、钒、铅、锂、锰等会对半导体材料的品质造成严重的影响。
目前国内生产氢氟酸的厂家很多，且产能也在不断的扩大，但每个厂家对氢氟酸的技术指标规定不统一，执行标准也不一致，已不能满足极大规模集成电路产业发展的需求，因此，急需建立一个适用于集成电路产业用高纯氢氟酸杂质元素检测的技术标准和检测方法标准，促使国内企业提高高纯氢氟酸的产品质量，统一高纯氢氟酸的技术规格和检测标准，为高纯氢氟酸的生产、销售、采购及使用提供参考依据，对促进我国极大规模集成电路产业发展具有重要的意义。
目前国外先进标准有《SEMI C28-0611 Specifications For Hydrofluoric Acid》，国内标准有《GB/T 620-2011化学试剂氢氟酸》、《GB/T 7744-2008工业氢氟酸》、《GB/T 31369-2015太阳电池用电子级氢氟酸》、《HG/T 4509-2013工业高纯氢氟酸》，这些标准中规定的技术规格较低，已不能满足国内极大规模集成电路产业发展的需求。
2 任务来源根据中国有色金属工业协会《关于下达2019年第一批协会标准制修订计划的通知》（中色协科字[2019]17号）的要求，《电子工业用高纯氢氟酸中痕量杂质元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法》由青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司牵头负责起草，计划编号：2019-007-T/CNIA，要求于2020年完成。
3 标准项目编制单位简况青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司为青海黄河上游水电开发有限责任公司的内部核算单位，负责电子级多晶硅项目的生产运营、市场销售及技术研发管理，目前公司已建成年产2500吨电子级多晶硅的改良西门子法工艺生产线。
电子级氢氟酸的研究进展-1应韵进
电子级氢氟酸的研究进展应韵进（浙江厚鹏化工有限公司，浙江 金华 321000）摘要:我国半导体制备发展迅速，相应地对氟化工的依赖程度也在不断增加。
电子级氢氟酸作为半导体制备、集成电路清洗的关键性材料，我国长期以来依赖于进口。
对我国电子级氢氟酸的研究进展进行概述，主要包括发展现状、制备工艺、质量标准和发展前景等几个方面。
关键词:电子级氢氟酸；研究进展；制备工艺0 前言电子氢氟酸是无机酸的一种，具有弱酸性，常温下为无色透明液体，易挥发有强烈的刺激性气味。
腐蚀性较强，可以与金属盐的氧化物和氢氧化物发生化学反应生成氟化盐，从而造成对金属盐的腐蚀作用。
其中最典型的反应是与硅酸盐反应生成气态的四氟化硅，这也是其能在电子制造行业得到应用的主要原因，因此高纯氢氟酸在集成电路制造、太阳能电池板以及LED 面板的生产等方面得到了广泛的应用。
集成电路的可靠性、制备的成品率、电性能都很大程度上依赖于电子级氟酸的纯度和洁净度。
除此之外，氢氟酸还可以用作制备含氟化学品和分析试剂[1]。
1 电子级氢氟酸的制备工艺1.1生产工艺通常的电子级氢氟酸工业化生产工艺为：将工业无水氟化氢经氧化剂氧化后进入精馏塔提纯，从塔的中上部得到高纯度氟化氢，再经特制的吸收器用高纯水吸收成有水酸，随后经0.2 um 以下的过滤器过滤，再经循环吸收达到规定浓度，然后在洁净或者超净的环境下（通常要求100级以下），在带正压的条件下灌装得到产品电子级氢氟酸。
其典型的工艺流程如图1所示。
试剂A 试剂B 高纯水AHF釜液 尾气工业水 工业水工业级氢氟酸 电子级高纯度氢氟酸前处理 精馏 吸收 调配釜液调配 尾气吸收 过滤图1 电子级氢氟酸生产流程图1.2生产工艺要点电子级氢氟酸的生产制备中主要有以下几个要点：1）设备要求。
由于氢氟酸的强腐蚀性和高渗透性，设备需要采用碳钢衬高纯PFA材料。
对厂房的环境洁净度要求极高,尤其是产品检测及成品灌装的厂房内要求100级以下；2）高纯水。
电子级氢氟酸简介演示
汇报人： 2023-11-22
目 录
• 电子级氢氟酸概述 • 电子级氢氟酸的质量要求 • 电子级氢氟酸的制备方法 • 电子级氢氟酸的安全使用与储存 • 电子级氢氟酸的市场与发展趋势
01
电子级氢氟酸概述
定义与性质
定义
电子级氢氟酸是一种高纯度、高 浓度的氢氟酸，主要用于微电子 、半导体等高科技行业。
食入处理
如果误食电子级氢氟酸，应立 即寻求紧急医疗帮助，切勿自
行催吐。
05
电子级氢氟酸的市场与发展趋 势
市场现状及需求
全球电子级氢氟酸市 场概述
全球电子级氢氟酸市 场规模及增长趋势
电子级氢氟酸应用领 域及需求分析
技术发展趋势与挑战Fra bibliotek电子级氢氟酸技术发展历程及现 状
电子级氢氟酸技术发展趋势及未 来发展方向
性质
电子级氢氟酸具有强酸性、腐蚀 性，以及在高温下易挥发等特性 。
电子级氢氟酸的应用领域
01
02
03
微电子行业
用于清洗硅片、刻蚀二氧 化硅等，是微电子制造过 程中不可或缺的工艺化学 品。
半导体行业
在半导体的制造过程中， 用于清洗、刻蚀和掺杂等 工艺。
其他领域
如光伏、平板显示等高科 技行业，都离不开电子级 氢氟酸的支撑。
应用范围
该方法适用于大规模生产 ，是目前主流的制备方法 之一。
氟化铵法
化学反应
氢氟酸与氟化铵在高温下发生化 学反应，生成电子级氢氟酸。
反应条件
需要在高温高压下进行反应，通常 需要使用催化剂。
应用范围
该方法在某些特殊情况下使用，如 需要更高纯度的氢氟酸。
其他制备方法
氟化盐法
氢氟酸工业级标准
氢氟酸工业级标准# 氢氟酸工业级标准## 一、前言嘿，朋友们！今天咱们来聊聊氢氟酸的工业级标准。
你知道吗，氢氟酸在工业领域那可是相当重要的角色呢。
它就像一个低调的幕后英雄，在很多工业生产过程中默默发挥着作用。
但是呢，由于氢氟酸有一定的危险性，所以为了确保在工业生产中安全、有效地使用它，就有了这个工业级标准。
这个标准就像是一把尺子，衡量着氢氟酸的各项指标，让生产企业知道什么样的氢氟酸是合格的，就像我们买东西的时候知道什么是好的、什么是坏的一样。
## 二、适用范围（一）化工行业中的基础原料在化工行业里，氢氟酸是非常重要的基础原料。
比如说生产氟碳化合物的时候，氢氟酸就是必不可少的。
这个工业级标准适用于所有在化工生产中使用氢氟酸作为原料的场景。
打个比方，有个小化工企业想要生产含氟的塑料，那他们购买的氢氟酸就必须符合这个工业级标准，不然生产出来的塑料质量可能就不过关。
（二）金属表面处理在金属表面处理领域，氢氟酸也经常被用到。
它可以用来去除金属表面的氧化物等杂质。
像一些小的金属加工车间，如果要对金属进行酸洗或者蚀刻等表面处理操作，使用的氢氟酸就得遵循这个工业级标准。
要是不按照标准来，可能会导致金属表面处理效果不好，比如说腐蚀过度或者清洗不干净之类的问题。
（三）玻璃蚀刻你有没有见过那些精美的玻璃蚀刻制品呀？氢氟酸在玻璃蚀刻中可是关键的化学试剂呢。
无论是小型的玻璃工艺品作坊，还是大型的玻璃生产企业，在使用氢氟酸进行玻璃蚀刻时，都要确保氢氟酸符合工业级标准。
不然的话，可能蚀刻的图案不清晰，或者对玻璃造成不必要的损坏。
## 三、术语定义（一）氢氟酸（HF）简单来说，氢氟酸就是氟化氢（HF）的水溶液。
它是一种无色透明的液体，具有很强的腐蚀性。
你可以想象一下，它就像一个小小的化学“破坏者”，能够和很多物质发生反应。
不过呢，正是因为它的这种特性，才在工业上有那么多的用途。
（二）纯度纯度指的是氢氟酸中所含氟化氢（HF）的比例。
10 nm制程用电子级氢氟酸中痕量阴离子分析方法
表 1 Cl-、Br-、NO3-、SO42-、PO43- 五种阴离子的
线性回归方程
离子
ClBrNO3SO42PO43-
检出限 /ng·L-1
73 111 75 102 298
定量限 /ng·L-1
242 371 251 339 993
RSD/%
1.69 1.65 2.91 1.12 1.82
线性回归方程 相关系数
试 验 在 ISO Class 5 级 洁 净 室 内 进 行（ 空 气 中 0.5 μm 微粒每立方米小于等于 3 500 个）[4]，以满足 集成电路产品生产过程及电子化学品使用过程中对 环境的要求。 1.2 仪器、耗材及试剂
离 子 色 谱 仪（DionexAquion，Thermo Fisher）， 超纯水机（RODI，厦门锐思捷纯水，取水电阻率： 18.2 MΩ·cm，25 ℃）。
0 引言 集成电路产品的良品率与外部引入的无机杂质
含量息息相关，电子化学品是引入无机杂质的主要 来源 [1]。电子级氢氟酸是电子化学品中重要的品种 之一，主要用作清洗剂、蚀刻剂，其质量的好坏不 但直接影响电子产品的质量，而且对微电子制造技 术的产业化具有重大影响 [2]。随着工艺制程由 14 nm 向 10 nm 延伸，电子化学品对无机杂质含量的要求 越来越高，电子级氢氟酸的品质要求在 SEMI Grade 5 以上，其阴离子含量不超过 10 μg/L[3]。文章通过离 子色谱法形成了对电子级氢氟酸中痕量阴离子（Cl-、 Br-、NO3-、SO42-、PO43-）的分析方法，对于提升电 子级试剂的产品质量具有重要意义，也将推动集成 电路行业的发展。 1 试验 1.1 试验环境
量 限； 取 加 入 5.0 μg/L 阴 离 子 标 准 品 的 4.9% 浓 度 电子级氢氟酸连续进样 6 次的峰面积，计算相对标 准偏差（RSD）；以本文 1.4 中所述配制的阴离子峰 面积为纵坐标，浓度为横坐标拟合线性回归方程， 其结果如表 1、图 3 所示。经考察 Cl-、Br-、NO3-、 SO42-、PO43- 检出限 73~298 ng/L，定量限 242~993 ng/L， 连续进样 6 次，RSD < 5%，线性相关系数≥ 0.999， 满足方法学验证的要求 。 [10]
电子级(高纯)氢氟酸生产工艺和质量指标介绍
电子级（高纯）氢氟酸生产工艺和质量指标介绍一、氢氟酸生产主要流程介绍1.将浮选厂烘干的萤石粉将萤石送至萤石贮仓。
通过尘气体经旋风分离器、袋式除尘器排空，萤石贮仓的萤石粉经计量，用调速螺旋送至回转反应炉。
2. 将发烟硫酸和被硫酸吸收塔吸收了尾气中HF的硫酸送至混酸槽，在此与来自洗涤塔的稀酸混合。
3. 混酸进入回转反应炉；回转反应炉用烟道气经夹套间接加热来满足反应所需的热量。
炉尾排出的炉渣用消石灰中和过量酸后经炉渣提升机送至炉渣贮斗。
4. 反应的产物气体首先进入除尘器、洗涤塔除尘、冷却，而后依次进入初冷器、HF一级凝器和HF二级冷凝器。
5. 在初冷器得到的冷凝液返回洗涤塔；在HF冷凝器得到的冷凝液经过粗HF贮槽进入精馏塔除去H2SO4、H2O等重组分。
6.精馏塔釜液返回洗涤塔；塔顶馏出液进入脱气塔脱除SO2、SiF4等轻组分。
脱气塔釜液为产品。
7. HF二级冷凝器的未凝气和脱气塔塔顶排出的未凝气一起进入硫酸吸收塔，在此用硫酸吸收其中大部分HF，然后依次进入第一、第二水洗塔，生成氟硅酸。
8. 未被吸收的气体进入尾气塔，洗掉其中的大部分酸性气体后，未被吸收的气体排空。
尾气塔的洗涤液和地面冲洗酸性水送至废液处理装置，处理后的合格污水排入排水系统。
电子级氢氟酸概述目前国内外制备电子级氢氟酸的常用提纯技术有精馏、蒸馏、亚沸蒸馏、减压蒸馏、气体吸收等技术，这些提纯技术各有特性，各有所长。
如亚沸蒸馏技术只能用于制备量少的产品，气体吸收技术可以用于大规模的生产。
另外，由于氢氟酸的强腐蚀性，采用蒸馏工艺温度较高时腐蚀会更严重，因此所使用的蒸馏设备一般需用铂、金、银等贵金属或聚四氟乙烯等抗腐蚀性能力较强的材料来制造。
电子级氢氟酸生产装置设计与工艺流程布置密切相关，垂直流向布置，原料( 无水氢氟酸和高纯水) 与中间产物可以依靠重力自上而下流动，高纯氢氟酸的制备在中部，产品过滤、灌装及贮存在底层。
此布置可减少泵输送，节省能耗，降低生产成本，同时可避免泵对产品的二次污染。
电子级氢氟酸的纯化技术及其配套技术
目前 ， 内外对 电子级 氢氟 酸指 标 的划 分不 一 ， 国 没有 统一 的标 准 ， 据其 质量 指标 不 同， 途有 所 不 根 用
同。 目前 ， 国内还 没有 电子级 氢 氟酸 国家 标 准 ， 般 一
长 率超 过 ２ ％ ，０ ５年 保守 估计 市场 销售 总额 将 达 ０ ２１ 到 ４０～ ５ 元 ， ０ ４０亿 国内优势 企业 的竞 争力 正在 不 断
一
个方 向。 目前 ， 展 电子 级 氢 氟 酸专 业 化 研 究 的 开 国家 不是 很 多 ， 关 键 技 术 长 时 间垄 断 在 美 国 、 其 德 国、 日本等 发达 国家 的跨 国企 业 集 团手 中。其 研 究
领域 已涉 及 轻 工 、 油 、 工 、 石 化 医药 、 电子 等 许 多 方
分 析试 剂和 制备 高纯度 的 含氟化 学 品。它 的纯度 和
电路 、 大屏 幕液 晶显示 器 、 半导 体等 微 电子工 业等 方
面。
近年来 ， 随着 我 国微 电 子工业 的 高速发 展 ， 中国
洁净度 对集 成 电路 的成 品率 、 电性 能及 可靠 性 都 有
着 十分 重要 的影和液晶显示 器 （ Ｃ 制造业 向我 国转 移 ， Ｌ Ｄ） 以及 国内电子级 氢氟酸 需求量 的 日益增 长 ， 细氟化 精
工已成为我国氟化工业发展 的必然趋势 。阐述 了电子级 氢氟 酸的应用 领域 、 质量标 准 、 纯化技术 ， 以及生产 电子级氢 氟酸 的 配套 技术 ， 为我 国在 提高电子级氢氟酸生产工艺水平的 同时 ， 加强其 配套技 术的研发。 认 应 关键词 ： 电子级 氢氟酸 ； 质量标准 ； 纯化技 术 ； 配套技术
１ 电 子级 氢 氟 酸 质 量 标 准
电子级氢氟酸技术发展研究
电子级氢氟酸技术发展研究发布时间：2023-03-01T05:42:01.345Z 来源：《科技新时代》2022年第19期作者：巫旭阳[导读] 随着经济的快速发展，电子级氢氟酸是无机酸的一种，具有弱酸性，常温下为无色巫旭阳浙江森田新材料有限公司，浙江省杭州市310000摘要：随着经济的快速发展，电子级氢氟酸是无机酸的一种，具有弱酸性，常温下为无色透明液体，易挥发，有强烈的刺激性气味。
其腐蚀性较强，可以与金属盐的氧化物和氢氧化物发生化学反应生成氟化盐，从而造成对金属盐的腐蚀作用。
其中最典型的反应是与硅酸盐反应生成气态的四氟化硅，这也是其在电子制造行业得到应用的主要原因，因此，高纯氢氟酸在集成电路制造、太阳能电池板以及LED 面板的生产等方面得到了广泛的应用。
集成电路的可靠性、制备的成品率、电性能很大程度上都依赖于电子级氟酸的纯度和洁净度。
除此之外，氢氟酸还可以用于制备含氟化学品和分析试剂。
关键词：电子级氢氟酸技术发展研究引言我国半导体制备发展迅速，相应地对氟化工的依赖程度也在不断增加。
电子级氢氟酸作为半导体制备、集成电路清洗的关键性材料，我国长期以来依赖于进口。
1电子级氢氟酸的关键技术分析我国电子级氢氟酸生产技术在“十三五”期间得到了长足发展，国内行业领军企业勇于承担责任，紧密与产学研用合作单位共同攻关，攻克了多项关键技术难题，产品质量得到提升，尤其是杂质离子质量分数从10×10-6以上降至5×10-6以下，完全优于半导体制程设备安全准则（SEMI）国际标准C8要求。
总结创新突破经验发现，影响质量和成本的关键技术主要有原料除杂、分离纯化、检测、调配工艺、副产物梯级利用以及设备材质选择和生产环境洁净度控制等多个方面。
设备材质选择和生产环境洁净度控制方面报道较多，在此不做阐述。
1.1原料除杂关键技术电子级氢氟酸制备的主要原料是无水氟化氢和超纯水。
无水氟化氢目前有两种制备工艺，一是萤石硫酸法，二是低品位氟硅酸与浓硫酸直接法或氟化氢物中间媒介法。
工业氢氟酸标准
工业氢氟酸标准
工业氢氟酸标准是指对工业生产中常用的氢氟酸（HF）的质量和纯度等指标进行规定和管理的标准。
氢氟酸是一种无色液体，具有强烈的刺激性和腐蚀性，在工业生产中广泛用于制备氟化物、烷基化反应、酯化反应等。
工业氢氟酸标准的制定是为了保障工业生产的安全和质量，其主要包括以下几个方面：
1.纯度标准：对氢氟酸中杂质和杂质含量的要求进行规定，以确保产品的纯度符合工业需要。
2.物理性质标准：规定氢氟酸的密度、沸点、闪点、蒸汽压等物理性质，以便生产者和用户对氢氟酸进行正确的使用和储存。
3.包装要求：规定氢氟酸的包装材料、包装容量、包装方式、标志和标签等，以确保产品在运输、储存和使用过程中的安全性和可靠性。
4.质量控制要求：对氢氟酸的生产、储存、运输和使用等过程中的质量控制进行规定，以确保产品的质量符合相关要求，并避免生产过程中出现质量问题。
5.安全生产要求：对氢氟酸的安全生产要求进行规定，包括生产现场和储存场所的安全防护、作业人员的安全培训与防护等，以确保生产过程中没有发生任何事故。
综上所述，工业氢氟酸标准是为了保障生产安全和质量而制定的一系列规定和管理措施，其目的在于规范氢氟酸的生产、储存和使用过程，保证产品质量，防范事故，促进工业的持续发展。
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电子级氢氟酸福建省邵武市永飞化工有限公司电子级氢氟酸的质量标准
质量标准：
UP-S级:适用0.35-0.8微米集成电路加工工艺,金属杂质含量小于1ppb,经过0.05微米孔径过滤器过滤，控制0.2微米粒子,在100级净化环境中灌装达到SEMI C8标准.
UP级:适用1微米集成电路及TFT-LCD制造工艺,金属杂质含量小于10ppb,经过0.2微米孔径过滤器过滤，控制0.5微米粒子,在100级净化环境中灌装,达到SEMI C7标准EL级:金属杂质含量小于100ppb,控制1微米粒径粒子,达到SEMI C1 C2标准,适合中小规模集成电路及电子元件加工工艺
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•巨化凯圣氟化学有限公司
•电子级氢氟酸up级。