模拟电子技术基础(杨素行)第一章半导体器件
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模拟电子技术基础【杨素行】第三版-复习资料ppt课件
图 2.3.2(b)
图 2.4.1(a)
.
图 2.4.1(b)
2.4.2 静态工作点的近似计算
UBEQ = (0.6 ~ 0.8) V硅管 UBEQ = (0.1 ~ 0.2) V锗管
IB
Q
VCC
U Rb
B EQ
ICQ IBQ
UCEQ = VCC – ICQ RC
c b
IBQ e
ICQ UCEQ
பைடு நூலகம்
I / mA
60
40
正向特性
20
–50 –25
反 向
0 0.5 1.0 U / V 击穿电–压0.002
特 性
U(BR–) 0.004 死区电压
15
10
5
– 50 – 25
–0.01 0 0.2 0.4 U / V
–0.02
硅管的伏安特性
锗管的伏安特性
图 1.2.4 二极. 管的伏安特性
I/mA
+ 正向
线比较平坦,近似为水平线,
区
20 µA
且等间隔。
1
IB =0
集电极电流和基极电流
O5
10
15 UCE /V 体现放大作用,即
图 1.3.9 NPN 三极管的输出特性. 曲线
ΔIC ΔIB
c
3. 饱和区:
b
IC / mA
条件:两个结均正偏 e
4
饱3 和 区2
1
O5
100 µA
对 NPN 型管,UBE > 0
IB = 0
约为几十 ~ 几百微安。
15 UCE /V 条件:两个结都处于反向 偏置。
图 1.3.9 NPN 三极管的输出特性. 曲线
模电(第1章 常用半导体器件)(自动化,11-12-2)(1)
返 回
i (mA) u (V)
O
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模拟电子技术基础
(1)齐纳击穿 耗尽层很窄,反向电压较小,但耗尽层中的电场 很强,直接将共价键中的电子拉出,形成电子—空穴 对,使电流急剧增大。 (2)雪崩击穿 掺杂浓度低,耗尽层较宽,反向电压较大,少子 的漂移速度加快,将共价键中的价电子撞出,产生电 子—空穴对。 新产生的电子—空穴对被电场加速后又撞出其它 价电子,载流子雪崩式地倍增,使电流急剧增大。
ID不同rd也将不同
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模拟电子技术基础
D
+ ui V + uD + R uR O
ui t
D
+ ui V + ui V + + UD uD UR R uR D + + rdD u R uR r 返 回
uR UR t O
UR V UD R ur ui R rd uR U R ur
返 回
PN结
内电场 外电场 R(限流电阻) + V -
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模拟电子技术基础
2、PN结外加反向电压时处于截止状态 PN 结加反向电压、处于反向偏置(简称反偏): PN结的P区电位低于N 区,即UP<UN。 PN结内电场加强,阻止扩散运动的进行、而漂 移运动加剧,形成反向电流;空间电荷区变宽。 但少子的数目极少,即使所有少子都参与漂移运 动,反向电流也非常小,认为PN结加反向电压时处于 截止状态。 PN结具有单向导电性。
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模拟电子技术基础
若在本征半导体两端外加一电场,则一方面自由 电子将产生定向移动,形成电子电流; 另一方面,由于空穴的存在,价电子将按一定的 方向依次填补空穴,使空穴定向移动,形成空穴电流。
i (mA) u (V)
O
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模拟电子技术基础
(1)齐纳击穿 耗尽层很窄,反向电压较小,但耗尽层中的电场 很强,直接将共价键中的电子拉出,形成电子—空穴 对,使电流急剧增大。 (2)雪崩击穿 掺杂浓度低,耗尽层较宽,反向电压较大,少子 的漂移速度加快,将共价键中的价电子撞出,产生电 子—空穴对。 新产生的电子—空穴对被电场加速后又撞出其它 价电子,载流子雪崩式地倍增,使电流急剧增大。
ID不同rd也将不同
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模拟电子技术基础
D
+ ui V + uD + R uR O
ui t
D
+ ui V + ui V + + UD uD UR R uR D + + rdD u R uR r 返 回
uR UR t O
UR V UD R ur ui R rd uR U R ur
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PN结
内电场 外电场 R(限流电阻) + V -
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模拟电子技术基础
2、PN结外加反向电压时处于截止状态 PN 结加反向电压、处于反向偏置(简称反偏): PN结的P区电位低于N 区,即UP<UN。 PN结内电场加强,阻止扩散运动的进行、而漂 移运动加剧,形成反向电流;空间电荷区变宽。 但少子的数目极少,即使所有少子都参与漂移运 动,反向电流也非常小,认为PN结加反向电压时处于 截止状态。 PN结具有单向导电性。
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模拟电子技术基础
若在本征半导体两端外加一电场,则一方面自由 电子将产生定向移动,形成电子电流; 另一方面,由于空穴的存在,价电子将按一定的 方向依次填补空穴,使空穴定向移动,形成空穴电流。
1模拟电子技术基础简明教程(第三版)杨素行_PPT课件_第一章1
又称正向偏置,简称正偏。
P
空间电荷区
空间电荷区变窄,有利 于扩散运动,电路中有 较大的正向电流。
N
I 内电场方向
外电场方向
V
R
图3 正向偏置PN结
在 PN 结加上一个很小的正向电压,即可得到较大的 正向电流,为防止电流过大,可接入电阻 R。
(2) PN 结外加反向电压(反偏) 反向接法时,外电场与内电场的方向一致,增强了内 电场的作用;
模拟电子技术基础
一、电子技术的发展
• 1947年 • 1958年 • 1969年 • 1975年
贝尔实验室制成第一只晶体管 集成电路 大规模集成电路 超大规模集成电路
第一片集成电路只有4个晶体管,而1997年一片集成电路 中有40亿个晶体管。有科学家预测,集成度还将按10倍/6年 的速度增长,到2015或2020年达到饱和。
3. 本征半导体中自由电子和空穴的浓度相等。
4. 载流子的浓度与温度密切相关,它随着温度 的升高,基本按指数规律增加。
三、杂质半导体
杂质半导体有两种 1、 N 型半导体
N 型半导体 P 型半导体
在硅或锗的晶体中掺入少量的 5 价杂质元素, 如磷、锑、砷等,即构成 N 型半导体(或称电子 型半导体)。
学习电子技术方面的课程需时刻关注电子技术的发展!
电子技术的发展很大程度上反映在元器件的发展 上。从电子管→半导体管→集成电路
1904年 电子管问世
1947年 晶体管诞生
1958年集成电 路研制成功
电子管、晶体管、集成电路比较
值得纪念的几位科学家!
第一只晶体管的发明者
(by John Bardeen , William Schockley and Walter Brattain in Bell Lab)
模拟电子技术第一章半导体基础新
稳压管两端电压变化量与对应的电流变化量的比值
rZ =
UZ IZ
(6) 稳定电压的温度系数
温度每变化1°C,稳定电压UZ的相对变化量
Uz 100%
UzT
稳压管正常工作的条件: (1)工作在反向击穿状态 (2)稳压管中的电流在稳定电流及最大工作电流之间
3、应用电路
uo= Uz
其他类型二极管
1、发光二极管:当外加正向电压使的正向电流足够大时, 二极管开始发光。发光二极管也具有单向导电性,它 的开启电压比一般的二极管大。颜色不同,发光二极 管的开启电压不同。一般红色的在1.6—1.8V之间, 绿色的为2V左右。
阴极
符号
1.2.2 二极管的伏安特性
一、正向特性
阈值电压Uth:使二极管开始导通的电压 硅管Uon=0.5V 锗管Uon=0.1V
I / mA 正向特性
导通电压:
反向特性
硅(0.6~0.8)V (取0.7V) 锗(0.1~0.3)V (取0.2V)
U/V
反向击穿特性
Uth
二、反向特性
加反向电压时,反向电流很小。 (与电压基本无关)
+4
+4
在外电场作用下,
电子和空穴均能 参与导电
+4
+4
+4
价电子填补空穴 空穴移动方向
电子移动方向
+4
+4
+4
外电场方向
四、本征浓度
在一定温度条件下,产生与复合的过程虽然仍在不断进行, 但电子-空穴对却保持一定的数目
本征半导体载流子的浓度
ni (T)
pi (T)
K T e 3/ 2 Eg /(2kT) 1
模电-第1章-半导体器件PPT优秀课件
21
3.4 PN 结的电容效应
1) 势垒电容
PN结外加电压变化时,空间电荷区的宽度将发生变 化,有电荷的积累和释放的过程,与电容的充放电相 同,其等效电容称为势垒电容Cb。
2)扩散电容
PN结外加的正向电压变化时,在扩散路程中载流子 的浓度及其梯度均有变化,也有电荷的积累和释放的 过程,其等效电容称为扩散电容Cd。
注意
空杂穴质-半--导-体多中子,;多子的浓度决定于掺杂原子的浓度; 电子----少子少.子的浓度决定于温度。
13
3 PN结 3.1 PN结的形成
P区
N区
物质因浓度差而产生的运动称为扩散运动。气体、液体、 固体均有之,包括电子和空穴的扩散!
14
3.1 PN结的形成
I扩
在交界面,由于两种载流子的浓度差,产生 扩散运动。
小功率 二极管
大功率 二极管
稳压 二极管
发光 二极管
25
• 二极管的伏安特性及电流方程
二极管的电流与其端电压的关系称为伏安特性。
i f (u)
u
击穿
iIS(eU T1) (常温 U T下 2m 6 V)电压
温度的 电压当量
材料 硅Si 锗Ge
开启电压 0.5V 0.1V
导通电压 0.5~0.8V 0.1~0.3V
15
3.1 PN结的形成
耗尽层(电荷层、势垒层)
空间电荷区
I漂
在交界面,由于扩散运动,经过复合,出现空 间电荷区
16
3.1 PN结的形成
PN结
I扩 I漂
当扩散电流等于漂移电流时,达到动态 平衡,形成PN结。
17
1.由于扩散运动形成空间电荷区和内电场;
2.内电场阻碍多子扩散,有利于少子漂移;
3.4 PN 结的电容效应
1) 势垒电容
PN结外加电压变化时,空间电荷区的宽度将发生变 化,有电荷的积累和释放的过程,与电容的充放电相 同,其等效电容称为势垒电容Cb。
2)扩散电容
PN结外加的正向电压变化时,在扩散路程中载流子 的浓度及其梯度均有变化,也有电荷的积累和释放的 过程,其等效电容称为扩散电容Cd。
注意
空杂穴质-半--导-体多中子,;多子的浓度决定于掺杂原子的浓度; 电子----少子少.子的浓度决定于温度。
13
3 PN结 3.1 PN结的形成
P区
N区
物质因浓度差而产生的运动称为扩散运动。气体、液体、 固体均有之,包括电子和空穴的扩散!
14
3.1 PN结的形成
I扩
在交界面,由于两种载流子的浓度差,产生 扩散运动。
小功率 二极管
大功率 二极管
稳压 二极管
发光 二极管
25
• 二极管的伏安特性及电流方程
二极管的电流与其端电压的关系称为伏安特性。
i f (u)
u
击穿
iIS(eU T1) (常温 U T下 2m 6 V)电压
温度的 电压当量
材料 硅Si 锗Ge
开启电压 0.5V 0.1V
导通电压 0.5~0.8V 0.1~0.3V
15
3.1 PN结的形成
耗尽层(电荷层、势垒层)
空间电荷区
I漂
在交界面,由于扩散运动,经过复合,出现空 间电荷区
16
3.1 PN结的形成
PN结
I扩 I漂
当扩散电流等于漂移电流时,达到动态 平衡,形成PN结。
17
1.由于扩散运动形成空间电荷区和内电场;
2.内电场阻碍多子扩散,有利于少子漂移;
模拟电子技术第一章
模拟电子技术基础(第三版)
清华大学电子学教研组 编 童诗白 华成英 主编
第一章 常用半导体器件
1.1半导体基础知识 1.1.1本征半导体 纯净的具有晶体结构的半导
体称为本征半导体。 一、半导体
半导体的导电性能介于导 体和绝缘体之间。 二、本征半导体的晶体结构 晶体中的原子在空间形成 排列整齐的点阵,称为晶 格。
• (5)温度系数a表示温度每 变化1 ℃稳压值的变化量.
• 图1.2.11 稳压管稳压电路 • [例1.2.2]图见下
1.2.6其它类型二极管
• 一.发光二极管
发光二极管包括可见光,不 可见光,激光等不同的类型, 这里只对可见光发光二极 管做一简单介绍
发光二极管的发光颜色决定 于所用材料,目前有红,绿, 黄,橙等色,可以制成各种 形状,如长方型,圆形[见图 1.2.12(a)所示]等.图1.2. 12(b)所示为发光二极管的 符号.
放大是对模拟信号最基本的 处理.
图1.3.3所示放大电路
• △ui为输入电压信号,它接 入基极-发射极回路,称为输 入回路;放大后的信号在集 电极-发射极回路,称为输出 回路.由于发射极是两个回 路的公共端,故称电路为共 射放大电路.因为晶体管工 作在放大的状态的外部条件 是发射结正向偏置且集电结 反向偏置.基本共射放大电 路见右图>
• 图1.3.3 基本共射放大电路
一.晶体管内部载流子的运动
• 当图1.3.3所示电路中△ui= 0时,晶体管内部载流子运动 示意图如图1.3.4所示.
• 1.发射结加正向电压,扩散 运动形成发射极电流IE
• 2扩散到基区的自由电子与 空穴的复合运动形成基极电 流IB
• 3集电结加反向电压,漂移运 动形成集电极电流IC
清华大学电子学教研组 编 童诗白 华成英 主编
第一章 常用半导体器件
1.1半导体基础知识 1.1.1本征半导体 纯净的具有晶体结构的半导
体称为本征半导体。 一、半导体
半导体的导电性能介于导 体和绝缘体之间。 二、本征半导体的晶体结构 晶体中的原子在空间形成 排列整齐的点阵,称为晶 格。
• (5)温度系数a表示温度每 变化1 ℃稳压值的变化量.
• 图1.2.11 稳压管稳压电路 • [例1.2.2]图见下
1.2.6其它类型二极管
• 一.发光二极管
发光二极管包括可见光,不 可见光,激光等不同的类型, 这里只对可见光发光二极 管做一简单介绍
发光二极管的发光颜色决定 于所用材料,目前有红,绿, 黄,橙等色,可以制成各种 形状,如长方型,圆形[见图 1.2.12(a)所示]等.图1.2. 12(b)所示为发光二极管的 符号.
放大是对模拟信号最基本的 处理.
图1.3.3所示放大电路
• △ui为输入电压信号,它接 入基极-发射极回路,称为输 入回路;放大后的信号在集 电极-发射极回路,称为输出 回路.由于发射极是两个回 路的公共端,故称电路为共 射放大电路.因为晶体管工 作在放大的状态的外部条件 是发射结正向偏置且集电结 反向偏置.基本共射放大电 路见右图>
• 图1.3.3 基本共射放大电路
一.晶体管内部载流子的运动
• 当图1.3.3所示电路中△ui= 0时,晶体管内部载流子运动 示意图如图1.3.4所示.
• 1.发射结加正向电压,扩散 运动形成发射极电流IE
• 2扩散到基区的自由电子与 空穴的复合运动形成基极电 流IB
• 3集电结加反向电压,漂移运 动形成集电极电流IC
模拟电子技术基础(杨素行)第一章半导体器件
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•常用的 5 价杂质元素有磷、锑、砷等。
模拟电子技术基础(杨素行)第一章半 导体器件
• 本征半导体掺入 5 价元素后,原来晶体中的某 些硅原子将被杂质原子代替。杂质原子最外层有 5 个 价电子,其中 4 个与硅构成共价键,多余一个电子只 受自身原子核吸引,在室温下即可成为自由电子。
• 4. 杂质半导体的表示方法如下图所示。
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•(a)N 型半导体
•(b) P 型半导体
•图 1.1.6 杂质半导体的的简化表示法
模拟电子技术基础(杨素行)第一章半 导体器件
•1.2 半导体二极管
•1.2.1 PN 结及其单向导电性
• 在一块半导体单晶上一侧掺杂成为 P 型半导体,另 一侧掺杂成为 N 型半导体,两个区域的交界处就形成了 一个特殊的薄层,称为 PN 结。
• 自由电子和空穴使本 征半导体具有导电能力, 但很微弱。
•T
•+4
•+4
•空 •+4 穴 •+4
•+4
•+4
•+4 •自由电 子
•+4
•+4
• 空穴可看成带正电的 载流子。
•图 1.1.3 •
本征半导体中的 自由电子和空穴
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模拟电子技术基础(杨素行)第一章半 导体器件
•1. 半导体中两种载流子
•I / mA
•60
•40 •死 区电
•20 压 •0 •0.4 •0.8 •U / V
•正向特性
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模拟电子技术基础(杨素行)第一章半 导体器件
•2. 反向特性 • 二极管加反向电压, 反向电流很小; • 当电压超过零点几伏 后,反向电流不随电压增加
模拟电子技术第一章常用半导体器件l
课程背景
课程目标
通过本章节的学习,学生应掌握常用半导体器件的基本原理、特性及应用,为 后续章节的学习打下基础。
课程安排
本章节将通过PPT演示、实验操作等形式,帮助学生深入理解常用半导体器件的 工作原理和应用。
02
半导体基础知识
半导体的定义与特性
总结词
半导体的导电能力介于导体和绝缘体之间,其电阻率受温度、光照、电场、磁场 等因素影响。
工作原理
通过基极电流控制集电极和发射极的电流。
应用场景
放大、开关等。
场效应管
场效应管种类
结型场效应管和绝缘栅型场效应管。
工作原理
通过电场效应控制导电沟道的开闭,从而控制电流的流动。
应用场景
放大、开关、振荡等。Βιβλιοθήκη 04半导体器件的特性
参数与性能指标
半导体器件的参数定义与测量
伏安特性
描述半导体器件在工作区内的电压与电流关 系,可以通过实验测量得到。
03
常用半导体器件介
绍
二极管
二极管种类
包括硅二极管和锗二极管,还有肖特基二极管、快恢复二极管等 特殊类型。
工作原理
正向导通,反向截止。在正向电压下,电子从N极流入P极,电流 通过;在反向电压下,电子不能流动,电流截止。
应用场景
整流、检波、稳压等。
三极管
三极管种类
NPN和PNP型,还有场效应管等特殊类型。
截止频率
衡量半导体器件的高频性能,表示器件在高 频下的响应能力。
输入电阻和输出电阻
衡量半导体器件对信号的输入和输出能力, 可以通过计算得到。
噪声系数
衡量半导体器件在信号传输过程中引入的噪 声大小,影响信号质量。
第一章 半导体器件基础
模拟电子技术基础
三、集成运算放大器的符号、特性 和主要参数
1.开环差模电压放大倍数 2.开环共模电压放大倍数 3.共模抑制比
4.最大输出电压
5.输入失调电压 6.输入失调电流 7.差模输入电阻 8.差模输出电阻
模拟电子技术基础
四、集成电路的封装外形
模拟电子技术基础
第七节 半导体器件工程应用技术
模拟电子技术基础
第三节 半导体三极管
1 2 3 4
三极管的分类和结构
三极管的电流分配与放大作用 三极管的特性曲线 三极管的主要参数及其温度影响 复合管
5
模拟电子技术基础
一、三极管的分类和结构
模拟电子技术基础
二、三极管的电流分配与放大作用
模拟电子技术基础
二、三极管的电流分配与放大作用
模拟电子技术基础
二、二极管的特性和主要参数
(一)二极管的伏安特性 1.正向特性 2.反向特性
3.反向击穿
模拟电子技术基础
二、二极管的特性和主要参数
(二)二极管的主要参数 1.最大整流电流
指二极管长期运行时允许通过的最大正向平均电流,它
是由PN结的结面积和外界散热条件决定的。 2.最高反向工作电压 指二极管在使用时所允许加的反向电压的峰值。
模拟电子技术基础
一、本征半导体
(一)半导体的原子结构
模拟电子技术基础
一、本征半导体
(二)本征半导体
模拟电子技术基础
一、本征半导体
模拟电子技术基础
二、杂质半导体
(一)N型半导体
模拟电子技术基础
二、杂质半导体
(二)P型半导体
模拟电子技术基础
三、PN结的单向导电性
(一)PN结的形成
模拟电子技术基础第一章--常用半导体器件 (2)
ui
AV1 V2
V3 BV4RL
uO
ui / V
15
O
t
《模拟电子技术基础》课程教学课件
uO/ V
15
O
t
若有条件,可 切换到 EWB 环境观 察桥式整流波形。
《模拟电子技术基础》课程教学课件
例 1.3.5 ui = 2 sin t (V),分析二极管的限幅作用。
ui 较小,宜采用恒压降模型
ui < 0.7 V V1、V2 均截止 uO = ui
IR P 区
N区 内电场 外电场
漂外移电运场动使加少强子形背成离反PN向结电移流动IR, IR = I少子 空0间电荷区变宽。
PN 结的单向导电性:正偏导通,呈小电阻,电流较大; 反偏截止,电阻很大,电流近似为零。
《模拟电子技术基础》课程教学课件
三、PN 结的伏安特性
I IS (eu /UT 1)
斜率1/ rDiD UD(on) U
I uD
rD
U I
rD1
UD(on)
《模拟电子技术基础》课程教学课件
例 1.3.1 硅二极管,R = 2 k,分别用二极管 理想模型和恒压降模型求出 VDD = 2 V 和 VDD = 10 V 时 IO 和 UO 的值。
UD(on)
《模拟电子技术基础》课程教学课件
反向饱 和电流
温度的 电压当量
当 T = 300(27C):
UT = 26 mV
加正向电压时
加反向电压时 i≈–IS
电子电量
玻尔兹曼 常数
kT UT q
I /mA
反 向
正向特性
u /V O
击
穿
《模拟电子技术基础》课程教学课件
模拟电子技术基础第四版课件-第一章
60A 40A
20A IB=0 9 12 UCE(V)
(1-51)
4
IC(mA
) 此区域中UC1E00UBAE,
集电结正偏,
3
IB>IC,UCE800.3VA 称为饱和区。
60A
2
40A
1
20A
IB=0
3 6 9 12 UCE(V)
(1-52)
IC(mA ) 4 3
2
此1区00域A中 :
I,UB=B80E0<,ICA死=I区CEO 电压60,A称为 截止40区A。
变薄
+ P
-+ -+ -+ -+
内电场被削弱,多子 的扩散加强能够形成 较大的扩散电流。
_ N
外电场
R
内电场
E
(1-22)
2、PN 结反向偏置
_ P
变厚
-+ -+ -+ -+
内电场被被加强,多子
的扩散受抑制。少子漂
移加强,但少子数量有
限,只能形成较小的反
向电流。
+
N
内电场
外电场
R
E
(1-23)
3 PN 结方程
I
U
I I S (e UT 1)
U
三 PN结的击穿
(1-24)
四 PN结的电容效应
PN结高频小信号时的等效电路: rd
势垒电容和扩散电 容的综合效应
(1-25)
1. 2 半导体二极管
1.2. 1 半导体二极管的结构和符号
PN 结加上管壳和引线,就成为半导体二极管。
点接触型
触丝线
PN结
引线 外壳线
20A IB=0 9 12 UCE(V)
(1-51)
4
IC(mA
) 此区域中UC1E00UBAE,
集电结正偏,
3
IB>IC,UCE800.3VA 称为饱和区。
60A
2
40A
1
20A
IB=0
3 6 9 12 UCE(V)
(1-52)
IC(mA ) 4 3
2
此1区00域A中 :
I,UB=B80E0<,ICA死=I区CEO 电压60,A称为 截止40区A。
变薄
+ P
-+ -+ -+ -+
内电场被削弱,多子 的扩散加强能够形成 较大的扩散电流。
_ N
外电场
R
内电场
E
(1-22)
2、PN 结反向偏置
_ P
变厚
-+ -+ -+ -+
内电场被被加强,多子
的扩散受抑制。少子漂
移加强,但少子数量有
限,只能形成较小的反
向电流。
+
N
内电场
外电场
R
E
(1-23)
3 PN 结方程
I
U
I I S (e UT 1)
U
三 PN结的击穿
(1-24)
四 PN结的电容效应
PN结高频小信号时的等效电路: rd
势垒电容和扩散电 容的综合效应
(1-25)
1. 2 半导体二极管
1.2. 1 半导体二极管的结构和符号
PN 结加上管壳和引线,就成为半导体二极管。
点接触型
触丝线
PN结
引线 外壳线
2022模拟电子技术基础目录
2.4.2 静态工作点的图解分析法
2.4.3 晶体管工作状态的推断方法
2.4.4 放大状态下的直流偏置电路
2.5 共射放大电路的动态分析和设计
2.5.1 沟通图解分析法
2.5.2 放大电路的动态范围和非线性失真
2.5.3 晶体管的沟通小信号模型
2.5.4 等效电路法分析共射放大电路
2.5.5 共射放大电路的设计实例
25、放大器的图解法中的直流负载线和沟通负载线各有什么意义?
答:直流负载线确定静态时的直流通路参数。沟通负载线的意义在于有沟通信号时分析放大器输出的最大有效幅值及波形失真等问题。
26、如何评价放大电路的性能?有哪些主要指标?
答:放大电路的性能好坏一般由如下几项指标确定:增益、输入输出电阻、通频带、失真度、信噪比。
9、在PN结加反向电压时果真没有电流吗?
答:并不是完全没有电流,少数载流子在反向电压的作用下产生微小的反向漏电流。
10、二极管最基本的技术参数是什么?
答:最大整流电流
11、二极管主要用途有哪些?
答:整流、检波、稳压等。
12、晶体管是通过什么方式来限制集电极电流的?
答:通过电流安排关系。
13、能否用两只二极管相互反接来组成三极管?为什么?
29、放大器的输入输出电阻对放大器有什么影响?
答:放大器的输入电阻应当越高越好,这样可以提高输入信号源的有效输出,将信号源的内阻上所消耗的有效信号降低到最小的范围。而输出电阻则应当越低越好,这样可以提高负载上的有效输出信号比例。
10.1.1 isppac10的结构和原理
10.1.2 其他isppac器件的结构和原理
10.1.3 isppac的典型应用
10.2 multisim软件及其应用
2.4.3 晶体管工作状态的推断方法
2.4.4 放大状态下的直流偏置电路
2.5 共射放大电路的动态分析和设计
2.5.1 沟通图解分析法
2.5.2 放大电路的动态范围和非线性失真
2.5.3 晶体管的沟通小信号模型
2.5.4 等效电路法分析共射放大电路
2.5.5 共射放大电路的设计实例
25、放大器的图解法中的直流负载线和沟通负载线各有什么意义?
答:直流负载线确定静态时的直流通路参数。沟通负载线的意义在于有沟通信号时分析放大器输出的最大有效幅值及波形失真等问题。
26、如何评价放大电路的性能?有哪些主要指标?
答:放大电路的性能好坏一般由如下几项指标确定:增益、输入输出电阻、通频带、失真度、信噪比。
9、在PN结加反向电压时果真没有电流吗?
答:并不是完全没有电流,少数载流子在反向电压的作用下产生微小的反向漏电流。
10、二极管最基本的技术参数是什么?
答:最大整流电流
11、二极管主要用途有哪些?
答:整流、检波、稳压等。
12、晶体管是通过什么方式来限制集电极电流的?
答:通过电流安排关系。
13、能否用两只二极管相互反接来组成三极管?为什么?
29、放大器的输入输出电阻对放大器有什么影响?
答:放大器的输入电阻应当越高越好,这样可以提高输入信号源的有效输出,将信号源的内阻上所消耗的有效信号降低到最小的范围。而输出电阻则应当越低越好,这样可以提高负载上的有效输出信号比例。
10.1.1 isppac10的结构和原理
10.1.2 其他isppac器件的结构和原理
10.1.3 isppac的典型应用
10.2 multisim软件及其应用
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S :结面积; l :耗尽层宽度。
由于 PN 结 宽度 l 随外加
Cb
电压 U 而变化,因此势垒电容
Cb不是一个常数。其 Cb = f (U) 曲线如图示。
O
U
图 1.2.8
2. 扩散电容 Cd 是由多数载流子在扩散过程中积累而引起的。
在某个正向电压下,P 区中的电子浓度 np(或 N 区 的空穴浓度 pn)分布曲线如图中曲线 1 所示。
3. 杂质半导体总体上保持电中性。
4. 杂质半导体的表示方法如下图所示。
(a)N 型半导体
(b) P 型半导体
图 1.1.6 杂质半导体的的简化表示法
1.2 半导体二极管
1.2.1 PN 结及其单向导电性
在一块半导体单晶上一侧掺杂成为 P 型半导体,另 一侧掺杂成为 N 型半导体,两个区域的交界处就形成了 一个特殊的薄层,称为 PN 结。
4. 电压温度系数 U
稳压管电流不变时,环境温度每变化 1 ℃ 引起稳定 电压变化的百分比。
(1) UZ > 7 V, U > 0;UZ < 4 V,U < 0; (2) UZ 在 4 ~ 7 V 之间,U 值比较小,性能比较稳
定。
2CW17:UZ = 9 ~ 10.5 V,U = 0.09 %/℃ 2CW11:UZ = 3.2 ~ 4.5 V,U = -(0.05 ~ 0.03)%/℃
外电场方向
V
R
图 1.2.2
在 PN 结加上一个很小的正向电压,即可得到较大的 正向电流,为防止电流过大,可接入电阻 R。
2. PN 结外加反向电压(反偏) 反向接法时,外电场与内电场的方向一致,增强了内 电场的作用;
外电场使空间电荷区变宽;
不利于扩散运动,有利于漂移运动,漂移电流大于扩 散电流,电路中产生反向电流 I ;
(3) 2DW7 系列为温度补偿稳压管,用于电子设备的 精密稳压源中。
2DW7 系列稳压管结构 管子内部包括两个温度系 数相反的二极管对接在一起。
4. 漂移运动 内电场有利 于少子运动—漂 移。
少子的运动 与多子运动方向 相反
图 1.2.1(b)
阻挡层
P
空间电荷区
N
内电场 UD
5. 扩散与漂移的动态平衡 扩散运动使空间电荷区增大,扩散电流逐渐减小; 随着内电场的增强,漂移运动逐渐增加; 当扩散电流与漂移电流相等时,PN 结总的电流 等于零,空间电荷区的宽度达到稳定。即扩散运动与 漂移运动达到动态平衡。
从二极管伏安特性曲线可以看出,二极管的电压与 电流变化不呈线性关系,其内阻不是常数,所以二极管 属于非线性器件。
1.2.3 二极管的主要参数
1. 最大整流电流 IF
二极管长期运行时,允许通过的最大正向平均电流。
2. 最高反向工作电压 UR 工作时允许加在二极管两端的反向电压值。通常将 击穿电压 UBR 的一半定义为 UR 。
+4
+4
空穴
自由电子和空穴使本 +4
+4
征半导体具有导电能力,
但很微弱。
+4
+4
+4 自由电子
+4
+4
空穴可看成带正电的
载流子。
图 1.1.3 本征半导体中的 自由电子和空穴
1. 半导体中两种载流子
带负电的自由电子 带正电的空穴
2. 本征半导体中,自由电子和空穴总是成对出现,
称为 电子 - 空穴对。
半导体导电性能是由其原子结构决定的。
硅原子结构 最外层电子称价电子 锗原子也是 4 价元素
价电子 (a)硅的原子结构图
4 价元素的原子常常用 + 4 电荷的正离子和周围 4 个价电子表示。
+4
(b)简化模型
图 1.1.1 硅原子结构
1.1.1 本征半导体
完全纯净的、不含其他杂质且具有晶体结构的半导
自由电子浓度远大于空穴的浓度,即 n >> p 。电 子称为多数载流子(简称多子),空穴称为少数载流子 (简称少子)。
+4
+4
+4
自由电子
+4
+45
+4
施主原子
+4
+4
+4
图 1.1.4 N 型半导体的晶体结构
二、 P 型半导体
在硅或锗的晶体中掺入少量的 3 价杂质元素,如 硼、镓、铟等,即构成 P 型半导体。
正常工作的参考电流。I < IZ 时 ,管子的稳压性能差; I > IZ ,只要不超过额定功耗即可。
3. 动态电阻 rZ
rZ
U Z IZ
rZ 愈小愈好。对于 同一个稳压管,工作电
IZ = 5 mA rZ 16 IZ = 20 mA rZ 3
流愈大, rZ 值愈小。
IZ/mA
稳压管的参数主要有以下几项:
1. 势垒电容
是由 PN 结的空间电荷区变化形成的。
空间
空间
P 电荷区 N
P
电荷区
N
I+ V U R
-
(a) PN 结加正向电压
I
- V UR
+
(b) PN 结加反向电压
空间电荷区的正负离子数目发生变化,如同电容的 放电和充电过程。
势垒电容的大小可用下式表示:
Cb
dQ dU
S l
:半导体材料的介电比系数;
当电压加大,np (或 pn)会升高,如 曲线 2 所示(反之浓度会降低)。
正向电压时,变化载流子积累电荷
nP
2 Q
量发生变化,相当于电容器充电和放电
1
Q
的过程 —— 扩散电容效应。
O
x
当加反向电压时,扩散运动被削弱, x = 0 处为 P 与
扩散电容的作用可忽略。
N 区的交界处
图 1.2.9
综上所述:
按用途划分:有整流二极管、检波二极管、稳压二 极管、开关二极管、发光二极管、变容二极管等。
二极管的伏安特性
在二极管的两端加上电压,测量流过管子的电流,
I = f (U )之间的关系曲线。
I / mA
I / mA
60
40
正向特性
20 –50 –25
0
击穿电–压0.002 U(BR–) 0.004
0.5 1.0 U / V 死区电压
体称为本征半导体。
将硅或锗材
+4
+4
+4
价
料提纯便形成单 晶体,它的原子
共
价 键
+4
+4
电 子
+4
结构为共价键结
构。 当温度 T = 0 K 时,半 +4
导体不导电,如同绝缘体。
图 1.1.2
+4
+4
单晶体中的共价键结构
若 T ,将有少数价
T
电子克服共价键的束缚成
为自由电子,在原来的共 价键中留下一个空位—— 空穴。
空间电荷区的宽度约为几微米 ~ 几十微米; 电压壁垒 UD,硅材料约为(0.6 ~ 0.8) V,
锗材料约为(0.2 ~ 0.3) V。
二、 PN 结的单向导电性
1. PN 外加正向电压
又称正向偏置,简称正偏。
P
空间电荷区
空间电荷区变窄,有利 于扩散运动,电路中有 较大的正向电流。
N
I 内电场方向
第一章 半导体器件
1.1 半导体的特性 1.2 半导体二极管 1.3 双极型三极管(BJT) 1.4 场效应三极管
1.1 半导体的特性
1. 导体:电阻率 < 10-4 ·cm 的物质。如铜、
银、铝等金属材料。
2. 绝缘体:电阻率 > 109 ·cm 物质。如橡胶、
塑料等。
3. 半导体:导电性能介于导体和半导体之间的物 质。大多数半导体器件所用的主要材料是硅(Si)和锗 (Ge)。
+4
+4
+4
3 价杂质原子称为
空穴
受主原子。
+4
+43 受主 +4
空穴浓度多于电子
原子
浓度,即 p >> n。空穴
为多数载流子,电子为
+4
+4
+4
少数载流子。
图 1.1.5 P 型半导体的晶体结构
说明:
1. 掺入杂质的浓度决定多数载流子浓度;温度决 定少数载流子的浓度。
2. 杂质半导体载流子的数目要远远高于本征半导 体,因而其导电能力大大改善。
当正向电压超过死区电压后, 随着电压的升高,正向电流迅速 增大。
I / mA
60
40 死区 20 电压
0 0.4 0.8 U / V
正向特性
2. 反向特性 二极管加反向电压,反 向电流很小; 当电压超过零点几伏后, 反向电流不随电压增加而增
I / mA
–50 –25
0U / V
击穿 – 0.02 电压 U(BR)– 0.04
15
10
5
– 50 – 25
–0.01 0 0.2 0.4 U / V
–0.02
反向特性
硅管的伏安特性
锗管的伏安特性
图 1.2.4 二极管的伏安特性
1. 正向特性 当正向电压比较小时,正向电流很小,几乎为零。
相应的电压叫死区电压。范 围称死区。死区电压与材料和温 度有关,硅管约 0.5 V 左右,锗 管约 0.1 V 左右。
3. 本征半导体中自由电子和空穴的浓度用 ni 和 pi 表示,显然 ni = pi 。
4. 由于物质的运动,自由电子和空穴不断的产生又
由于 PN 结 宽度 l 随外加
Cb
电压 U 而变化,因此势垒电容
Cb不是一个常数。其 Cb = f (U) 曲线如图示。
O
U
图 1.2.8
2. 扩散电容 Cd 是由多数载流子在扩散过程中积累而引起的。
在某个正向电压下,P 区中的电子浓度 np(或 N 区 的空穴浓度 pn)分布曲线如图中曲线 1 所示。
3. 杂质半导体总体上保持电中性。
4. 杂质半导体的表示方法如下图所示。
(a)N 型半导体
(b) P 型半导体
图 1.1.6 杂质半导体的的简化表示法
1.2 半导体二极管
1.2.1 PN 结及其单向导电性
在一块半导体单晶上一侧掺杂成为 P 型半导体,另 一侧掺杂成为 N 型半导体,两个区域的交界处就形成了 一个特殊的薄层,称为 PN 结。
4. 电压温度系数 U
稳压管电流不变时,环境温度每变化 1 ℃ 引起稳定 电压变化的百分比。
(1) UZ > 7 V, U > 0;UZ < 4 V,U < 0; (2) UZ 在 4 ~ 7 V 之间,U 值比较小,性能比较稳
定。
2CW17:UZ = 9 ~ 10.5 V,U = 0.09 %/℃ 2CW11:UZ = 3.2 ~ 4.5 V,U = -(0.05 ~ 0.03)%/℃
外电场方向
V
R
图 1.2.2
在 PN 结加上一个很小的正向电压,即可得到较大的 正向电流,为防止电流过大,可接入电阻 R。
2. PN 结外加反向电压(反偏) 反向接法时,外电场与内电场的方向一致,增强了内 电场的作用;
外电场使空间电荷区变宽;
不利于扩散运动,有利于漂移运动,漂移电流大于扩 散电流,电路中产生反向电流 I ;
(3) 2DW7 系列为温度补偿稳压管,用于电子设备的 精密稳压源中。
2DW7 系列稳压管结构 管子内部包括两个温度系 数相反的二极管对接在一起。
4. 漂移运动 内电场有利 于少子运动—漂 移。
少子的运动 与多子运动方向 相反
图 1.2.1(b)
阻挡层
P
空间电荷区
N
内电场 UD
5. 扩散与漂移的动态平衡 扩散运动使空间电荷区增大,扩散电流逐渐减小; 随着内电场的增强,漂移运动逐渐增加; 当扩散电流与漂移电流相等时,PN 结总的电流 等于零,空间电荷区的宽度达到稳定。即扩散运动与 漂移运动达到动态平衡。
从二极管伏安特性曲线可以看出,二极管的电压与 电流变化不呈线性关系,其内阻不是常数,所以二极管 属于非线性器件。
1.2.3 二极管的主要参数
1. 最大整流电流 IF
二极管长期运行时,允许通过的最大正向平均电流。
2. 最高反向工作电压 UR 工作时允许加在二极管两端的反向电压值。通常将 击穿电压 UBR 的一半定义为 UR 。
+4
+4
空穴
自由电子和空穴使本 +4
+4
征半导体具有导电能力,
但很微弱。
+4
+4
+4 自由电子
+4
+4
空穴可看成带正电的
载流子。
图 1.1.3 本征半导体中的 自由电子和空穴
1. 半导体中两种载流子
带负电的自由电子 带正电的空穴
2. 本征半导体中,自由电子和空穴总是成对出现,
称为 电子 - 空穴对。
半导体导电性能是由其原子结构决定的。
硅原子结构 最外层电子称价电子 锗原子也是 4 价元素
价电子 (a)硅的原子结构图
4 价元素的原子常常用 + 4 电荷的正离子和周围 4 个价电子表示。
+4
(b)简化模型
图 1.1.1 硅原子结构
1.1.1 本征半导体
完全纯净的、不含其他杂质且具有晶体结构的半导
自由电子浓度远大于空穴的浓度,即 n >> p 。电 子称为多数载流子(简称多子),空穴称为少数载流子 (简称少子)。
+4
+4
+4
自由电子
+4
+45
+4
施主原子
+4
+4
+4
图 1.1.4 N 型半导体的晶体结构
二、 P 型半导体
在硅或锗的晶体中掺入少量的 3 价杂质元素,如 硼、镓、铟等,即构成 P 型半导体。
正常工作的参考电流。I < IZ 时 ,管子的稳压性能差; I > IZ ,只要不超过额定功耗即可。
3. 动态电阻 rZ
rZ
U Z IZ
rZ 愈小愈好。对于 同一个稳压管,工作电
IZ = 5 mA rZ 16 IZ = 20 mA rZ 3
流愈大, rZ 值愈小。
IZ/mA
稳压管的参数主要有以下几项:
1. 势垒电容
是由 PN 结的空间电荷区变化形成的。
空间
空间
P 电荷区 N
P
电荷区
N
I+ V U R
-
(a) PN 结加正向电压
I
- V UR
+
(b) PN 结加反向电压
空间电荷区的正负离子数目发生变化,如同电容的 放电和充电过程。
势垒电容的大小可用下式表示:
Cb
dQ dU
S l
:半导体材料的介电比系数;
当电压加大,np (或 pn)会升高,如 曲线 2 所示(反之浓度会降低)。
正向电压时,变化载流子积累电荷
nP
2 Q
量发生变化,相当于电容器充电和放电
1
Q
的过程 —— 扩散电容效应。
O
x
当加反向电压时,扩散运动被削弱, x = 0 处为 P 与
扩散电容的作用可忽略。
N 区的交界处
图 1.2.9
综上所述:
按用途划分:有整流二极管、检波二极管、稳压二 极管、开关二极管、发光二极管、变容二极管等。
二极管的伏安特性
在二极管的两端加上电压,测量流过管子的电流,
I = f (U )之间的关系曲线。
I / mA
I / mA
60
40
正向特性
20 –50 –25
0
击穿电–压0.002 U(BR–) 0.004
0.5 1.0 U / V 死区电压
体称为本征半导体。
将硅或锗材
+4
+4
+4
价
料提纯便形成单 晶体,它的原子
共
价 键
+4
+4
电 子
+4
结构为共价键结
构。 当温度 T = 0 K 时,半 +4
导体不导电,如同绝缘体。
图 1.1.2
+4
+4
单晶体中的共价键结构
若 T ,将有少数价
T
电子克服共价键的束缚成
为自由电子,在原来的共 价键中留下一个空位—— 空穴。
空间电荷区的宽度约为几微米 ~ 几十微米; 电压壁垒 UD,硅材料约为(0.6 ~ 0.8) V,
锗材料约为(0.2 ~ 0.3) V。
二、 PN 结的单向导电性
1. PN 外加正向电压
又称正向偏置,简称正偏。
P
空间电荷区
空间电荷区变窄,有利 于扩散运动,电路中有 较大的正向电流。
N
I 内电场方向
第一章 半导体器件
1.1 半导体的特性 1.2 半导体二极管 1.3 双极型三极管(BJT) 1.4 场效应三极管
1.1 半导体的特性
1. 导体:电阻率 < 10-4 ·cm 的物质。如铜、
银、铝等金属材料。
2. 绝缘体:电阻率 > 109 ·cm 物质。如橡胶、
塑料等。
3. 半导体:导电性能介于导体和半导体之间的物 质。大多数半导体器件所用的主要材料是硅(Si)和锗 (Ge)。
+4
+4
+4
3 价杂质原子称为
空穴
受主原子。
+4
+43 受主 +4
空穴浓度多于电子
原子
浓度,即 p >> n。空穴
为多数载流子,电子为
+4
+4
+4
少数载流子。
图 1.1.5 P 型半导体的晶体结构
说明:
1. 掺入杂质的浓度决定多数载流子浓度;温度决 定少数载流子的浓度。
2. 杂质半导体载流子的数目要远远高于本征半导 体,因而其导电能力大大改善。
当正向电压超过死区电压后, 随着电压的升高,正向电流迅速 增大。
I / mA
60
40 死区 20 电压
0 0.4 0.8 U / V
正向特性
2. 反向特性 二极管加反向电压,反 向电流很小; 当电压超过零点几伏后, 反向电流不随电压增加而增
I / mA
–50 –25
0U / V
击穿 – 0.02 电压 U(BR)– 0.04
15
10
5
– 50 – 25
–0.01 0 0.2 0.4 U / V
–0.02
反向特性
硅管的伏安特性
锗管的伏安特性
图 1.2.4 二极管的伏安特性
1. 正向特性 当正向电压比较小时,正向电流很小,几乎为零。
相应的电压叫死区电压。范 围称死区。死区电压与材料和温 度有关,硅管约 0.5 V 左右,锗 管约 0.1 V 左右。
3. 本征半导体中自由电子和空穴的浓度用 ni 和 pi 表示,显然 ni = pi 。
4. 由于物质的运动,自由电子和空穴不断的产生又