集成电路器件及SPICE模型
spice模型
4)LEVEL=4 级别为4的MOS4模型又称BSIM(Berkeley short-channel IGFET model)模型。该模型 是由美国伯克利大学1984年专门为短沟道MOS 场效应晶体管而开发的模型,是AT&T Bell实验 室简练短沟道IGFET模型的改进型。模型是在 物理基础上建立的,模型参数由工艺文件经模 型参数提取程序自动产生,适用于数字电路和 模拟电路,而且运行时间比二级模型平均缩短 一半左右。现已发表的有BSIM1、BSIM2、 BSIM3和BSIM4等模型。
一、模型参数提取方法
实际电路分析中用到的一般都是元件的
等效电路模型。由于集成电路元件主要是 由半导体器件组成的,因此,这些等效电 路模型又都是以物理模型为基础的。
1)物理模型 半导体器件的物理模型是从半导体的基本方程 出发,并对器件的参数做一定的近似假设而得 到的有解析表达式的数学模型。一般说来,随 着集成电路集成度的提高,器件的结构、尺寸 都在发生变化,器件的物理模型就越加复杂。 在物理模型中经常包含有一些经验因子,目的 是为了使模型与实验结果符合得更好。一般说, 模型中考虑的因素越多,与实际结果就符合得 越好,但模型也就越复杂,在电路模拟中耗费 的计算工作量就越大。
体管模型。这两种模型均属于物理模型,其模
型参数能较好地反映物理本质并且易于测量,
便于理解和使用。
一、双极型晶体管的EM模型
C IC VBC IB + B + VBE IR aFIF
IS VBC VBE I C I S exp 1 exp V 1 Vt R t
二极管及其SPICE模型
PN结是微电子器件的基本结构之一,集成电
路和半导体器件的大多数特性都是PN结相互作 用的结果。如果通过某种方法使半导体中一部 分区域为P型,另一部分区域为N型,则在其交 界面就形成了PN结。 一般的二极管就是由一个PN结构成的,以PN 结构成的二极管的最基本的电学行为是具有单 向导电性,这在实际中有非常大的用处。
第3章 器件的物理基础及其Spice模型
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3.1.3 PN结的单向导电性
一、正向偏置的 PN 结 二、反向偏置的 PN 结
正向偏置
耗尽区变窄 正向电流
反向偏置
耗尽区变宽 反向电流
扩散运动加强, 扩散运动加强, 漂移运动减弱
扩散运动减弱, 漂移运动加强
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2. 外加反向电压, PN结截止 在PN结两端加反向电压,即P区接电源负极,N区接电源 正极,如图3-3(b)所示。在外加反向电压的作用下PN结变宽, 阻碍多数载流子的扩散运动。少数载流子在外加电压作用下形 成微弱电流,由于电流很小,可忽略不计,所以PN结处于截 止状态。 应当指出的是,少数载流子是由于热激发产生的,所以 少数载流子是由于热激发产生的, 少数载流子是由于热激发产生的 PN结的反向电流与温度有关 结的反向电流与温度有关,必须注意较大的温度变化会对 结的反向电流与温度有关 半导体器件有影响。
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3.2 有源器件 3.2.1 双极型晶体管 及其SPICE模型
npn管的结构 npn管的结构
图3-5 NPN晶体管结构 图
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2) 横向PNP的结构 横向PNP的特点包括: 的特点包括: 横向 的特点包括 (1) β小(由于工艺限制,基区宽度不可能太小,且有纵向 PNP的作用); (2) 频率响应差(fT小); (3) 载流子是空穴。 改善的方法:在图形设计上减小发射区面积和周长之比。 横向PNP的结构如图3-6所示。
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1. 双极型晶体管的结构 1) NPN管的结构 图3-5为集成电路中使用的NPN晶体管的平面图和剖面图。 其外延层是一种杂质种类和浓度与衬底不同的半导体结晶薄层。 集成电路内各器件依靠处于反向偏置的PN结相互隔离。 集成电路内各器件依靠处于反向偏置的 结相互隔离。 结相互隔离 包括集电极在内的各个电极均形成在上表面。 隐埋层(N 是在外延之前扩散形成的 是在外延之前扩散形成的, 隐埋层 +)是在外延之前扩散形成的,是为了降低集电极 电流通路的电阻(集电极电阻 而设置的 电流通路的电阻 集电极电阻)而设置的。 集电极电阻 而设置的。
集成电路器件及SPICE模型
第6章集成电路器件6.1无源器件结构及模型集成电路中的无源元件包括:互连线、电阻、电容、电感、传输线等16.1.1 互连线在混合集成电路和单片集成电路的衬底上,互连线大多数是由金属薄层形成的条带。
不同衬底上的电路的互连可能用到金属裸线或电缆。
互连线设计应该注意以下方面:尽量短:减小信号或电源引起的损耗、减小芯片面积最小宽度:传输微弱电流,提高集成度保留足够的电流裕量:传输大电流多层金属:提高集成度趋肤效应和寄生参数(微波和毫米波)寄生效应:传导电阻实现低值电阻;寄生电容用作微波或毫米波信号的旁路电流。
2⏹深亚微米阶段后,互联线的延迟已经超过逻辑门的延迟,成为时序分析的重要组成部分。
应采用链状RC网络、RLC网络或进一步采用传输线来模拟互联线。
⏹常见的寄生效应有串联寄生电阻、并联寄生电容。
电源和地之间,电阻造成直流和瞬态压降;长信号线上,分布电阻电容带来延迟;导线长距离并行或不同层导线交叉时,带来相互串扰问题。
⏹为了保证模型的精准度和信号的完整性,需要对互联线的版图结构进行约束和规整。
⏹典型的串联寄生电阻值:金属0.05Ω/ □,多晶硅10-15Ω/ □,扩散区20-30Ω/ □。
简单长导线的寄生模型36.1.2 电阻⏹电阻是模拟电路的最基本的元件,在集成电路中有多种设计和制造方法,分为无源电阻和有源电阻。
⏹实现电阻有4种方式:1.晶体管结构中不同材料层的片式电阻2.专门加工制造的高质量高精度电阻3.互连线的传导电阻4.有源电阻5R =ρL/ dW=(ρ/d)L/W电阻的计算方块电阻薄层导体的电阻R 与L/W 成正比,当L=W 时,有R=ρ/d 。
定义比例系数ρ/d 为方块电阻(用R □表示),单位为欧姆。
R □=ρ/d R= R □L/WR □表示一个正方形材料的薄层电阻,它与正方形边长的大小无关, 只与半导体的掺杂水平和掺杂区的结深(即材料厚度)有关。
⏹ 1.晶体管结构中不同材料层的片式电阻双极型硅工艺:掩埋集电极的N+层,2-10Ω/ □基极P-层,KΩ/ □CMOS工艺:阱区形成片式电阻优点:实现10Ω-10KΩ的电阻值缺点:晶体管结构材料层构成,导致电阻随工艺和温度变化较大⏹ 2.专门加工制造的高质量高精度电阻CMOS工艺:多晶硅形成薄膜电阻GaAs工艺:镍、铬金属共同蒸发形成薄膜电阻,20-2000Ω73.互连线的传导电阻注意:根据工艺要求不同,电阻的长度为两引线孔之间的材料长度或电阻器8高频时,必须考虑电阻的寄生参数,采用其等效电路代替电阻进行电路模拟。
集成电路器件及SPICE模型
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图6.5 (a)叉指结构电容 (b)MIM 结构电容
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电容
平板电容公式
d 高频等效模型:并联G、串联L和R。
自谐振频率 f0
f0 1 2 LC
C
r 0lw
f < f0 / 3
品质因数 Q
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6.1.4 电感
引言 集总电感
L 1.26a[ln(8a / w) 2 ( ] pH)
ZL 60
reff
8h w ln w 4h
ZL
120
w/h<1
w h h reff 2.42 0.44 1 h w w
6
w/h>1
微带线的衰减α由两部分组成:导线损耗和 介质损耗 形成微带线的基本条件是,介质衬底的背面 应该完全被低欧姆金属覆盖并接地,从而使 行波的电场主要集中在微带线下面的介质中。
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3. 共面波导(CPW)---微波平面传输线
在介质基片的一个面上制作出中心导体带,并在 紧邻中心导体带的两侧制作出导体平面
图6.12 (a)常规共面波导
(b)双线共面波导
23
CPW传输TEM波的条件 CPW的阻抗计算
图6.11
(a)典型微带线的剖面图
(b)覆盖钝化膜的微带线
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TEM波(电磁波的电场和磁场都在垂直于 传播方向的平面上 ) 传输线的条件
w, h 0 /(40 r )
1/ 2
GaAs衬底的厚度<200um
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微带线设计需要的电参数主要是阻抗、衰减、 无载QDS
集成电路器件及SPICE模型67页PPT
51、没有哪个社会可以制订一部永远 适用的 宪法, 甚至一 条永远 适用的 法律。 ——杰 斐逊 52、法律源于人的自卫本能。——英 格索尔
53、人们通常会发现,法律就是这样 一种的 网,触 犯法律 的人, 小的可 以穿网 而过, 大的可 以破网 而出, 只有中 等的才 会坠入 网中。 ——申 斯通 54、法律就是法律它是一座雄伟的大 夏,庇 护着我 们大家 ;它的 每一块 砖石都 垒在另 一块砖 石上。 ——高 尔斯华 绥 55、今天的法律未必明天仍是法律。 ——罗·伯顿
谢谢!
51、 等 于是呼 吸,生 命是活 动。——卢 梭
53、 伟 大 的 事 业,需 要决心 ,能力 ,组织 和责任 感。 ——易 卜 生 54、 唯 书 籍 不 朽。——乔 特
55、 为 中 华 之 崛起而 读书。 ——周 恩来
第5章集成电路元器件及其SPICE模型ppt课件
金属叉指结构电容
优点:不需要额 外的工艺。
特征尺寸急剧降 低,金属线条的 宽度和厚度之比 大大减小,叉指 的侧面电容占主 导地位。
PN结电容
❖ 利用PN结电容的优点也是不需要额外的工艺,但所 实现的电容有一个极性问题。
❖耗尽区
❖反型区
G
Co 沟道 Cdep
Vss
G ++++++
沟道 耗尽层 P型衬底
Vss
(a)物理结构
tox d
Cgb Co 积累区
耗尽区
1.0
反型区
(b)电容与Vgs的函数关系 0.2
0
Vgs
三、集成电感
在集成电路开始出现以后很长一段时间内, 人们一直认为电感是不能集成在芯片上的。因 为那时集成电路工作的最高频率在兆赫量级, 芯片上金属线的电感效应非常小。现在的情况 就不同了,首先,近二十年来集成电路的速度 越来越高,射频集成电路(RFIC)已经有了很 大的发展,芯片上金属结构的电感效应变得越 来越明显。芯片电感的实现成为可能。
在设计电路的时候需要非常准确地 预测出电路的性能。为了做到这一点, 需要对电路尽可能地进行精确的性能分 析(Analysis)。因为集成电路元器件 无法用实物构建,必须首先建立器件模 型,然后对用这些元器件模型所设计的 集成电路进行以分析计算为基础的电路 仿真(Simulation)。
在集成电路的晶体管级仿真方面, SPICE是主要的电路仿真程序,并已成为 工业标准。因此,集成电路设计工程师, 特别是模拟和数字混合信号集成电路设计 工程师必须掌握SPICE的应用。
集成电路模拟与spice重点总结
通用电路模拟程序的基本组成:
输入处理 器件模型处理
建立电路方程
求数值解
输出处理
SPICE(Simulation Program With Integrated Circuit Emphasis)即重点用于集成电路的模拟程序。 主要功能
•直流分析----可实现工作点分析(OP),扫描分析(DC),小信号 灵敏度 分析(SENS) ,传输函数(TF)计算等。 •直流工作点: 电路电容开路,电感短路,各信号源取其直流电平值. •直流扫描(转移特性):输入端加固定步长的扫描电压/电流,对应每一 输入偏置求出输出端和其它节点电压/支路电流. •直流小信号传输特性:假定输入端有一个直流小信号变化量,求直流小信 号传输函数值(输出/输入),输入电阻,输出电阻. •直流小信号灵敏度:确定各个指定输出变量对每个电路参数的直流小信号 灵敏度. •频域分析(交流分析)----可实现频响分析/噪声分析 •频响分析:输出变量作为频率的函数计算出来. •噪声分析:求不同频率点的输出噪声和等效输入噪声(噪声频谱) •失真分析:一或两个信号频率加在输入端,求输出端倍/差/和频
SPICE输入描述语句的构成:
标题语句
注释语句 电路的描述语句 电路特性分析和控制语特性指标要求, 通过各种方法,确定采用的线路拓扑结构以及 各个元器件参数的过程。
电路模拟
根据电路的拓扑结构和元件参数将电路问题转 换成适当的数学方程并求解,根据计算结果检 验电路设计的正确性。
电路模拟在集成电路设计中起的作用:
版图设计前的电路设计,保证电路正确(包括电路结构和元 件参数) 有单元库支持:单元事先经过电路模拟 无单元库支持的全定制设计:由底向上,首先对单元门电 路进行电路设计、电路模拟,依此进行版图设计,直至整 个电路 后仿真:考虑了寄生参数,由电路模拟预测电路性能
SPICE仿真和模型简介
SPICE仿真和模型简介SPICE 仿真和模型简介1、SPICE仿真程序电路系统的设计人员有时需要对系统中的部分电路作电压与电流关系的详细分析,此时需要做晶体管级仿真(电路级),这种仿真算法中所使用的电路模型都是最基本的元件和单管。
仿真时按时间关系对每一个节点的I/V关系进行计算。
这种仿真方法在所有仿真手段中是最精确的,但也是最耗费时间的。
SPICE(Simulation program with integrated circuit emphasis)是最为普遍的电路级模拟程序,各软件厂家提供提供了Vspice、Hspice、Pspice等不同版本spice软件,其仿真核心大同小异,都是采用了由美国加州Berkeley大学开发的spice模拟算法。
SPICE可对电路进行非线性直流分析、非线性瞬态分析和线性交流分析。
被分析的电路中的元件可包括电阻、电容、电感、互感、独立电压源、独立电流源、各种线性受控源、传输线以及有源半导体器件。
SPICE内建半导体器件模型,用户只需选定模型级别并给出合适的参数。
2、元器件模型为了进行电路模拟,必须先建立元器件的模型,也就是对于电路模拟程序所支持的各种元器件,在模拟程序中必须有相应的数学模型来描述他们,即能用计算机进行运算的计算公式来表达他们。
一个理想的元器件模型,应该既能正确反映元器件的电学特性又适于在计算机上进行数值求解。
一般来讲,器件模型的精度越高,模型本身也就越复杂,所要求的模型参数个数也越多。
这样计算时所占内存量增大,计算时间增加。
而集成电路往往包含数量巨大的元器件,器件模型复杂度的少许增加就会使计算时间成倍延长。
反之,如果模型过于粗糙,会导致分析结果不可靠。
因此所用元器件模型的复杂程度要根据实际需要而定。
如果需要进行元器件的物理模型研究或进行单管设计,一般采用精度和复杂程度较高的模型,甚至采用以求解半导体器件基本方程为手段的器件模拟方法。
二微准静态数值模拟是这种方法的代表,通过求解泊松方程,电流连续性方程等基本方程结合精确的边界条件和几何、工艺参数,相当准确的给出器件电学特性。
集成电路器件及SPICE模型
根据对比结果,对SPICE模型的参数进行修正,减小误差。
验证模型准确性
通过多次修正和验证,确保SPICE模型能够准确模拟集成电路的性 能。
04
CATALOGUE
SPICE模型在集成电路设计中的应用
基于SPICE模型的电路仿真
模拟电路行为
SPICE模型能够描述电路中各个元 件的电气特性,通过仿真可以预 测电路在不同条件下的工作状态 和性能。
基于SPICE模型的集成电路可靠性分析
预测可靠性
基于SPICE模型的可靠性分析可以预测集成电路在不同环境和工 作条件下的性能退化和失效情况。
可靠性设计和优化
根据可靠性分析结果,设计师可以对集成电路进行针对性的可靠 性设计和优化,提高产品的可靠性和寿命。
失效分析
在集成电路失效分析中,SPICE模型可以辅助定位失效部位和原 因,为失效机理研究和改进设计提供依据。
根据集成电路的实际参数,如电阻阻值、电容容量、电感 感量、二极管和晶体管的电气特性等,设定SPICE模型的 参数值。
建立电路图
使用SPICE电路图编辑器,根据集成电路的电路图,绘制 对应的SPICE电路图。
集成电路器件的SPICE模型参数提取
01
测量电路性能
通过实际测量集成电路的输入输 出电压、电流等性能指标,验证 SPICE模型的准确性。
05
CATALOGUE
SPICE模型在集成电路制造中的应用
基于SPICE模型的制造工艺仿真
模拟电路行为
优化设计参数
在设计阶段,SPICE模型可用于优化电路元件的参 数,提高电路性能和稳定性。
通过SPICE模型,可以模拟集成电路在不同 工作条件下的行为,预测其性能和功能。
SPICE的器件模型..
SPICE的器件模型在介绍SPICE基础知识时介绍了最复杂和重要的电路描述语句,其中就包括元器件描述语句。
许多元器件(如二极管、晶体管等)的描述语句中都有模型关键字,而电阻、电容、电源等的描述语句中也有模型名可选项,这些都要求后面配以.MODEL起始的模型描述语句,对这些特殊器件的参数做详细描述。
电阻、电容、电源等的模型描述语句语句比较简单,也比较容易理解,在SPICE基础中已介绍,就不再重复了;二极管、双极型晶体管的模型虽也做了些介绍,但不够详细,是本文介绍的重点,以便可以自己制作器件模型;场效应管、数字器件的模型过于复杂,太专业,一般用户自己难以制作模型,只做简单介绍。
元器件的模型非常重要,是影响分析精度的重要因素之一。
但模型中涉及太多图表,特别是很多数学公式,都是在WORD下编辑后再转为JEPG图像文件的,很繁琐和耗时,所以只能介绍重点。
一、二极管模型:1.1 理想二极管的I-V特性:1.2 实际硅二极管的I-V特性曲线:折线1.3 DC大信号模型:1.4 电荷存储特性:1.5 大信号模型的电荷存储参数Qd:1.6 温度模型:1.7 二极管模型参数表:二、双极型晶体管BJT模型:2.1 Ebers-Moll静态模型:电流注入模式和传输模式两种2.1.1 电流注入模式:2.1.2 传输模式:2.1.3 在不同的工作区域,极电流Ic Ie的工作范围不同,电流方程也各不相同:2.1.4 Early效应:基区宽度调制效应2.1.5 带Rc、Re、Rb的传输静态模型:正向参数和反向参数是相对的,基极接法不变,而发射极和集电极互换所对应的两种状态,分别称为正向状态和反向状态,与此对应的参数就分别定义为正向参数和反向参数。
2.2 Ebers-Moll大信号模型:2.3 Gummel-Pool静态模型:2.4 Gummel-Pool大信号模型:拓扑结构与Ebers-Moll大信号模型相同,非线性存储元件电压控制电容的方程也相同2.5 BJT晶体管模型总参数表:三、金属氧化物半导体晶体管MOSFET模型:3.1 一级静态模型:Shichman-Hodges模型3.2 二级静态模型(大信号模型):Meyer模型3.2.1 电荷存储效应:3.2.2 PN结电容:3.3 三级静态模型:3.2 MOSFET模型参数表:一级模型理论上复杂,有效参数少,用于精度不高场合,迅速粗略估计电路二级模型可使用复杂程度不同的模型,计算较多,常常不能收敛三级模型精度与二级模型相同,计算时间和重复次数少,某些参数计算比较复杂四级模型BSIM,适用于短沟道(<3um)的分析,Berkley在1987年提出四、结型场效应晶体管JFET模型:基于Shichman-Hodges模型4.1 N沟道JFET静态模型:4.2 JFET大信号模型:4.3 JFET模型参数表:五、GaAs MESFET模型:分两级模型(肖特基结作栅极)GaAs MESFET模型参数表:六、数字器件模型:6.1 标准门的模型语句:.MODEL <(model)name> UGATE [模型参数] 标准门的延迟参数:6.2 三态门的模型语句:.MODEL <(model)name> UTGATE [模型参数]三态门的延迟参数:6.3 边沿触发器的模型语句:.MODEL <(model)name> UEFF [模型参数]边沿触发器参数:JKFF nff preb,clrb,clkb,j*,k*,g*,gb* JK触发器,后沿触发DFF nff preb,clrb,clk,d*,g*,gb* D触发器,前沿触发边沿触发器时间参数:6.4 钟控触发器的模型语句:.MODEL <(model)name> UGFF [模型参数]钟控触发器参数:SRFF nff preb,clrb,gate,s*,r*,q*,qb* SR触发器,时钟高电平触发DLTCH nff preb,clrb,gate,d*,g*,gb* D触发器,时钟高电平触发钟控触发器时间参数:6.5 可编程逻辑阵列器件的语句:U <name> <pld type> (<#inputs>,<#outputs>) <input_node>* <output_node># +<(timing model)name> <(io_model)name> [FILE=<(file name) text value>]+[DATA=<radix flag>$ <program data>$][MNTYMXDLY=<(delay select)value>] +[IOLEVEL=<(interface model level)value>]其中:<pld type>列表<(file name) text value> JEDEC格式文件的名称,含有阵列特定的编程数据JEDEC文件指定时,DATA语句数据可忽略<radix flag> 是下列字母之一:B 二进制 O 八进制 X 十六进制<program data> 程序数据是一个数据序列,初始都为0PLD时间模型参数:七、数字I/O接口子电路:数字电路与模拟电路连接的界面节点,SPICE自动插入此子电路子电路名(AtoDn和DtoAn)在I/O模型中定义,实现逻辑状态与电压、阻抗之间的转换。
专用集成电路设计基础教程(来新泉 西电版)第3章 器件的物理基础及其SPICE模型
发射极电流IE中,除包括上述电子移动形成的电流成分外, 还包括一股由基区注入到发射区的空穴电流成分。基极电流IB 是由空穴(因为是P型区域)形成的电流,包括空穴在基区与电 子复合形成的电流成分、空穴在发射区-基区间的耗尽层区域 中与电子复合形成的电流成分以及注入到发射区的空穴形成的 电流成分。集电极电流IC是发射极电流注入到基区并到达集电 极的这一部分电子形成的电流。未到达集电极的电子在基区与 空穴复合形成基极电流的一部分。发射极电流、基极电流和集 电极电流满足IE=IB+IC。NPN型晶体管中载流子传输的过程如 图3-8所示。
17
图3-6 横向PNP的结构
18
3) 纵向PNP的结构 纵向PNP管的特点包括: (1) 衬底PNP管的集电区是整个电路的公共衬底,直流接最 负电位,交流是接地的,所以使用范围很有限,只能用做集电 极接最负电位的电路结构。 (2) 工作电流比横向PNP管大。 (3) 不用隐埋层。 (4) 基区电阻大。 纵向PNP的结构如图3-7所示。
12
图3-4 PN结伏安特性
13
3.2 有源器件
3.2.1 双极型晶体管及其SPICE模型 双极型集成电路由晶体管、电阻和电容组
成。其基本器件晶体管包括二极管和三极管。 二极管往往由三极管的不同连接实现。三极管 的代表是NPN管,标准工艺也以它的主要参数 为依据,适当考虑横向PNP,纵向PNP和电阻、 电容等。
3
图3-1 PN结的形成
4
图3-2是硅PN结的结构及其一维理想模式图,它是在集 成电路制造过程中形成的(图中“+”表示浓度高,“-”表示 浓度低)。
5
图3-2 硅PN结的结构图
6
3.1.2 PN结的理想伏安特性 在理想PN结模型下,可得到理想PN结伏安特性表达式:
集成电路设计 spice 模型及仿真
7.5 缓冲驱动器设计实例
准备模型文件 选用1.2um CMOS工艺level II模型
(Models.sp)
.MODEL NMOS NMOS LEVEL=2 LD=0.15U TOX=200.0E10 VTO=0.74 KP=8.0E-05
+NSUB=5.37E+15 GAMMA=0.54 PHI=0.6 U0=656 UEXP=0.157 UCRIT=31444
6 线性电流控制电流/电压源 格式: FXXXX N+ N- VNAM VALUE 电流增益 H XXXX N+ N- VNAM VALUE 电阻 Ω 例句: F1 10 5 VSENSOR 5 HX 8 15 VZ 0.5K VZ 支路电压源名称
7.2 电路元件的SPICE输入语句
7.2 电路元件的SPICE输入语句
5 线性电压控制电流/电压源 格式: GXXXX N+ N- NC+ NC- VALUE 跨导 EXXXX N+ N- NC+ NC- VALUE 电压增益 例句: G1 2 0 4 0 0.1MS E1 2 3 1 0 2.0
7.2 电路元件的SPICE输入语句
7.1 SPICE数模混合仿真程序
设计指标要求 确定电路初始方案 确定电路元件参数 编写电路描述文件
修改电路结构 修改元件参数
SPICE电路仿真 满足要求?
最终电路设计方案
SPICE仿真输入文件
首先要画出电路图 对元件命名 对节点编号 编写输入文件 例7.2 差动放大单元电路图
7.2 电路元件的SPICE输入语句
7 独立电源 VXXXX N+ N- ((DC) DC/TRAN VALUE) (AC (ACMAG(ACPHASE))) 电压源 IXXXX N+ N- ((DC) DC/TRAN VALUE) (AC (ACMAG(ACPHASE))) 电流源 DC/TRAN→ 电源的直流和瞬态值 ACMAG<ACPHASE → AC信号的幅值和相位 例句: VCC 100 0 DC 5V
一种建模方法 集成电路
一种建模方法集成电路引言集成电路是现代电子技术的重要组成部分,能够在微小的空间内集成大量的电子元器件,实现复杂的功能。
为了实现高性能、低功耗和可靠性的集成电路设计,建模是不可或缺的一步。
本文将介绍一种常用的集成电路建模方法,以帮助读者了解这一领域的基础知识。
集成电路建模的基本原理在集成电路设计中,建模是指将电路中的元器件、连接线和信号转换为数学形式的过程。
通过建模,设计师可以根据电路的性能需求和特定应用场景选择合适的元器件,进行仿真和优化。
集成电路建模的基本原理是将电路中的各个部分抽象成简化的数学模型,以便进行计算和分析。
集成电路建模的方法1. SPICE模型SPICE(Simulation Program with Integrated Circuit Emphasis)是一种常用的集成电路仿真软件,也是一种常用的集成电路建模方法。
SPICE模型通过描述电路中元器件的电路参数和非线性特性来实现电路的建模。
它提供了一种标准化的描述方法,允许设计师将不同的元器件集成到同一电路模型中进行仿真。
2. Verilog和VHDLVerilog和VHDL是两种常用的硬件描述语言,也可以用于集成电路建模。
这两种语言允许设计师描述电路的结构和行为,以及元器件之间的信号传输和时序关系。
通过使用Verilog和VHDL,设计师可以将电路的功能和性能特征转化为计算机可识别的形式,实现集成电路的建模和验证。
3. 数学模型数学模型是一种基于物理原理和数学方程的电路建模方法。
通过使用数学工具和方法,如微分方程、线性代数和概率论,可以描述电路中元器件的行为和相互作用。
数学模型通常用于分析和优化集成电路的性能,为设计师提供理论基础和模拟工具。
集成电路建模的应用集成电路建模方法在实际应用中具有广泛的应用场景,例如:1. 电路仿真和验证:通过建模和仿真,设计师可以在实际制造之前验证电路的性能和可靠性,发现和解决潜在问题。
2. 电路优化和改进:通过建模和分析,设计师可以对电路的结构、元器件和参数进行优化,以实现更好的性能和功耗。
第七章 集成电路器件及SPICE模型
MOS结构电容
a a + + + + + + + + + 1.0 Co 沟道 Cdep 沟道 耗尽层 p型衬底 Vss Vss (a) (b) Vgs d tox Cgb Co 0.2 积累区 耗尽区 反型区
MOS电容 (a)物理结构 (b)电容与Vgs的函数关系
MOS结构电容
Cox Cox Í µ µ Æ
l ' / 4
集总元件
由于尺寸的小型化,几乎所有集成电路的有 源元件都可认为是集总元件。前面讨论的无 源元件也可作为集总元件来处理; 随着工作频率的增加,使得一些诸如互连线 的IC元件的尺寸可以与传输信号的波长相比; 这时,集总元件模型就不能有效地描述那些 大尺寸元件的性能,应该定义为分布元件。
2
MIM电容
电容模型等效电路:
固有的自频率:
f0
1 2 LC
金属叉指结构电容
MOS结构电容
平板电容和PN结电容都不相同,MOS核心部分,即 金属-氧化物-半导体层结构的电容具有独特的性质。
它的电容-电压特性取决于半导体表面的状态。
随着栅极电压的变化,表面可处于: 积累区 耗尽区 反型区
有源电阻
I D + V S I IDS I O G S + V D (b) VGS V VTP
G
O
I IDS
VTN V (a)
VGS
MOS有源电阻及其I-V曲线
2t ox L V V 直流电阻: Ron︱VGS=V = I n ox W (V VTN ) 2
交流电阻:
集成电路器件及SPICE模型
• 进一步考虑到发射极、基极和 集电极串联电阻,以及集成电 路中集电结对衬底的电容,于 是得到EM2模型。
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EM2模型
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吾将上下而求索
EM小信号等效电路
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吾将上下而求索
双极型晶体管SPICE模型参数
参数 饱和电流 正向电流增益 反向电流增益 正向欧拉电压 反向欧拉电压 B-E结梯度因子 B-C结梯度因子
集成电路器件及SPICE 模型
路漫漫其修远兮, 吾将上下而求索
2020年4月9日星期四
第六章 集成电路器件及SPICE模型
6.1 无源器件结构及模型 6.2 二极管电流方程及SPICE模型 6.3 双极晶体管电流方程及SPICE模型 6.4 结型场效应管JFET模型 6.5 MESFET模型 6.6 MOS管电流方程及SPICE模型 6.7 SPICE数模混合仿真程序的设计流程及方法
SPICE中的双极型晶体管常用两种物理模型 • Ebers-Moll(即EM)模型 • Gummel-Poon(即GP)模型 模型参数能较好地反映物理本质且易于测量。
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吾将上下而求索
EM直流模型
路漫漫其修远兮, 吾将上下而求索
NPN
• 将电流增益作为频率的函数来 处理,对计算晶体管存贮效应 和瞬态特性不方便。
双极型晶体管GP模型
• 1970年由H.K.Gummel和H.C.Poon提出的。 • GP模型对EM2模型在以下几方面作了改进:
1. 直流特性:反映了集电结上电压的变化引起有效基区 宽度变化的基区宽度调制效应,改善了输出电导、电 流增益和特征频率。反映了共射极电流放大倍数β随电 流和电压的变化。
集成电路器件及SPICE模型通用课件
场效应管的SPICE模型
场效应管SPICE模型是模拟场效应管特性的数学模型。
场效应管SPICE模型包括沟道电流、阈值电压等参数,用于模拟场效应管在电路 中的行为。
集成电路器件SPICE模型的参数提取与优化
异构集成与三维集成中的SPICE模型挑战
随着集成电路技术的发展,异构集成和三维集成已经成为趋势。在异构集成和三维集成中, 不同材料和器件之间的相互作用和耦合效应更加复杂,因此需要更加精细的SPICE模型来模 拟。
现有的SPICE模型主要是针对单一器件或单一材料的仿真而设计的,因此在异构集成和三维 集成中需要进行改进和扩展。这需要研究新的建模方法和参数提取技术,以适应不同材料和 器件之间的耦合效应。
电阻器
电阻器是限流元件,用于调节 电路中的电流和电压,分为线 绕、薄膜和厚膜电阻器等类型。
电容器
电容器是储能元件,用于隔直、 滤波和旁路等作用,分为陶瓷、
薄膜和电解电容器等类型。
集成电路器件的工作原理
双极型晶体管工作原理
双极型晶体管利用载流子的扩散与漂移运动 控制电流,具有电流放大作用。
二极管工作原理
优化设计
基于SPICE模型的仿真结果,可以对 电路设计进行优化,改进电路的性能 指标,降低功耗和提高稳定性。
元件匹配与版图布局
元件匹配
SPICE模型可以模拟元件之间的匹配 情况,帮助设计者找到元件的最佳配 置,以确保电路性能的稳定。
版图布局
利用SPICE模型进行版图布局的模拟, 可以预测元件之间的耦合效应和信号 干扰,从而优化版图设计。
VS
效率
SPICE 仿真和模型简介
SPICE 仿真和模型简介1、SPICE 仿真程序电路系统的设计人员有时需要对系统中的部分电路作电压与电流关系的详细分析,此时需要做晶体管级仿真(电路级),这种仿真算法中所使用的电路模型都是最基本的元件和单管。
仿真时按时间关系对每一个节点的I/V 关系进行计算。
这种仿真方法在所有仿真手段中是最精确的,但也是最耗费时间的。
SPICE(Simulation program with integrated circuit emphasis)是最为普遍的电路级模拟程序,各软件厂家提供提供了Vspice、Hspice、Pspice 等不同版本spice 软件,其仿真核心大同小异,都是采用了由美国加州Berkeley 大学开发的spice 模拟算法。
SPICE 可对电路进行非线性直流分析、非线性瞬态分析和线性交流分析。
被分析的电路中的元件可包括电阻、电容、电感、互感、独立电压源、独立电流源、各种线性受控源、传输线以及有源半导体器件。
SPICE 内建半导体器件模型,用户只需选定模型级别并给出合适的参数。
2、元器件模型为了进行电路模拟,必须先建立元器件的模型,也就是对于电路模拟程序所支持的各种元器件,在模拟程序中必须有相应的数学模型来描述他们,即能用计算机进行运算的计算公式来表达他们。
一个理想的元器件模型,应该既能正确反映元器件的电学特性又适于在计算机上进行数值求解。
一般来讲,器件模型的精度越高,模型本身也就越复杂,所要求的模型参数个数也越多。
这样计算时所占内存量增大,计算时间增加。
而集成电路往往包含数量巨大的元器件,器件模型复杂度的少许增加就会使计算时间成倍延长。
反之,如果模型过于粗糙,会导致分析结果不可靠。
因此所用元器件模型的复杂程度要根据实际需要而定。
如果需要进行元器件的物理模型研究或进行单管设计,一般采用精度和复杂程度较高的模型,甚至采用以求解半导体器件基本方程为手段的器件模拟方法。
二微准静态数值模拟是。
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14
多匝螺旋形线圈电感值计算公式为:
(ro ri ) 2 N 2 L[ pH ] 25.4(60ro 28ri )
式中:ri=螺旋的内半径,微米, r0=螺旋的外半径,微米, N=匝数。
15
电感
电感精度:电感模型
16
传输线电感 获得单端口电感的另一种方法是使用长度l<l/4λ 波长的短电传输线(微带或共面波导)或使用长度 在l/4λ< l<l/2λ范围内的开路传输线。
GP小信号模型与EM小信号模型十分一致, 只是参数的值不同而已。
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6.1 无源器件结构及模型 6.2 二极管电流方程及SPICE模型
6.3 双极晶体管电流方程及SPICE模型
6.4 结型场效应管JFET模型
6.5 MESFET模型
6.6 MOS管电流方程及SPICE模型
6.7 SPICE数模混合仿真程序的设计流程及方法
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相对于微带线,CPW的优点是: 1)工艺简单,费用低,因为所有接地线均在上表面 而不需接触孔。 2)在相邻的CPW之间有更好的屏蔽,因此有更高的 集成度和更小的芯片尺寸。 3)比金属孔有更低的接地电感。 4)低的阻抗和速度色散。 CPW的缺点是: 1)衰减相对高一些,在50GHz时,CPW的衰减是 0.5dB/mm; 2)由于厚的介质层,导热能力差,不利于大功率放 大器的实现。
33
图6.11 EM2模型
C
RC
Cjs
Cbc B RB Cbe
I bc BR I be BF
RE E
Ibe- Ibc
34
图6.12 EM小信号等效电路
r C
B
rB B
B
+
V
-
C
rc
C ro CJS
+
V
r
C
( g mFV g mRV )
-
E
rE E
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表6.2 双极型晶体管部分模型参数在SPICE 中的符号名称
随着工作频率的增加,一些诸如互连线的IC 元件的尺寸变得很大,以致它们可以与传输 信号的波长相比。这时,集总元件模型就不 能有效地描述那些大尺寸元件的性能,应该 定义为分布元件。
18
微带线
图
(a) (b) 典型微带线的剖面图(a)和覆盖钝化膜的微带线(b)
19
TEM波传输线的条件
w, h 0 /(40 r )
11
图6.5 (a)叉指结构电容和(b)MIM 结构电容
12
电容
平板电容公式 高频等效模型 自谐振频率 f0
f0
C
r 0lw
d
1 2 LC
f < f0 / 3
品质因数 Q
13
6.1.4 电感
引言 集总电感
L 1.26a[ln(8a / w) 2 ( ] pH)
9
总结: 有源电阻的几种形式
D VB S (a) (b) S (c) S (d) D D VB D (e) D S S
( a ) ( d ) 和 ( c ) 直流电阻 Ron<交流电阻 rds ( b )和( e ) 直流电阻 Ron>交流电阻 rds
10
6.1.3 电容
在高速集成电路中,有多种实现电容的 方法: 1)利用二极管和三极管的结电容; 2)利用图6.5(a)所示的叉指金属结构; 3)利用图6.5(b)所示的金属-绝缘体-金属 (MIM)结构; 4)利用类似于图6.5(b)的多晶硅/金属-绝 缘体-多晶硅结构;
42
表6.3 JFET的SPICE模型参数
43
6.1 无源器件结构及模型 6.2 二极管电流方程及SPICE模型
6.3 双极晶体管电流方程及SPICE模型
6.4 结型场效应管JFET模型
6.5 MESFET模型
6.6 MOS管电流方程及SPICE模型
6.7 SPICE数模混合仿真程序的设计流程及方法
(见CH06-2课件)
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6.3 双极晶体管电流方程及SPICE模型
SPICE中的双极型晶体管模型常采用Ebers-Moll(即
EM)模型和Gummel-Poon(即GP)模型。这两种模型
均属于物理模型,其模型参数能较好地反映物理本质
且易于测量,所以便于理解和使用。
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图6.10 EM直流模型
c
I n KF I D
2 AF
1 2 q ID f
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6.1 无源器件结构及模型 6.2 二极管电流方程及SPICE模型
6.3 双极晶体管电流方程及SPICE模型
6.4 结型场效应管JFET模型
6.5 MESFET模型
6.6 MOS管电流方程及SPICE模型
6.7 SPICE数模混合仿真程序的设计流程及方法
IC αFIF B p n IF αR I R E IE E
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C A
IB
VBC +
IR
n
B
+ VBE
A’
NPN管
由于这种 EM 模型将电流增益作为频率的函 数来处理,对计算晶体管存贮效应和瞬态特 性不方便,所以改进的 EM 模型用了电荷控 制观点,即增加电容到模型中。并进一步考 虑到发射极、基极和集电极串联电阻,以及 集成电路中集电结对衬底的电容,于是得到 EM2模型。
集成电路和半导体器件的各类特性都是 PN 结
相互作用的结果,它是微电子器件的基础。如果
通过某种方法使半导体中一部分区域为 P型,另一
部分区域为 N 型,则在其交界面就形成了 PN 结。 以 PN 结构成的二极管的最基本的电学行为是具有 单向导电性。
26
图6.9 二极管等效电路模型
+V RS + VD ID Cj Cd
7
2. VGS保持不变的饱和区有源电阻
IDS I
o
Ron rds VGS >VTN
条件:VGS保持不变
o
V
VDS
图6.3 饱和区的NMOS有源电阻示意图
直流电阻 Ron<交流电阻 rds
8
对于理想情况,Oˊ点的交流电阻应为无穷 大,实际上因为沟道长度调制效应,交流电 阻为一个有限值,但远大于在该工作点上的 直流电阻。在这个工作区域,当漏源电压变 化时,只要器件仍工作在饱和区,它所表现 出来的交流电阻几乎不变,直流电阻则将随 着漏源电压变大而变大。
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GP模型是1970年由H.K.Gummel和H.C.Poon提出的。 GP模型对EM2模型在以下几方面作了改进: 1.直流特性:反映了集电结上电压的变化引起有效基区宽度 变化的基区宽度调制效应,改善了输出电导、电流增益和 特征频率。反映了共射极电流放大倍数β随电流和电压的变 化。 2.交流特性:考虑了正向渡越时间 τF随集电极电流IC的变化, 解决了在大注入条件下由于基区展宽效应使特征频率 fT和IC 成反比的特性。 3.考虑了大注入效应,改善了高电平下的伏安特性。 4.考虑了模型参数和温度的关系。 5.根据横向和纵向双极晶体管的不同,考虑了外延层电荷存 储引起的准饱和效应。
(见CH06-2课件)
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N沟JFET的结构示意图和电路符号
D
G
P+
N
P+
A
S
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结型场效应 JFET ( NJF/PJF ) 模型
JFET 模型源于 Shichman 和 Hodges 给出的 FET 模型。 其直流特性由反映漏极电流随栅极电压变化的参数 VTO 和 BETA 、确定输出电导的参数 LAMBDA 和栅 源结与栅 - 漏结饱和电流的参数 IS 共同描述。包含了 RD和RS两个欧姆电阻。其电荷存储效应由随结电压 的平方根变化的栅-源与栅-漏两个结的非线性耗尽层 电容模拟,参数为CGS,CGD和PB。
Cj和Cd分别代表PN结的势垒电容和扩散电容。 RS代表从外电极到结的路径上通常是半导体材料的电阻, 称之为体电阻。
27
表6. 1 二极管模型参数对照表
28
6.2.2 二极管的噪声模型
1.热噪声 在寄生电阻RS上产生的热噪声:
In
2
4kTA RS
2. 闪烁(1/f)噪声和散粒噪声 理想二极管产生的1/f噪声和散粒噪声:
VD V I D RS
kT Vt q
VD n V t I D IS e 1
IS JS A
m
VD C j C j0 1 V 0
_
Cd
dI τI dQ τT D T D dVD dVD n Vt
37
C
rC
C
I LC
B
rBB
I LE
I EC
B'
E
R
I CC
I CT I CC I EC
F
rE
E
图6.13 GP直流模型
38
图6.14 GP小信号模型
C jx
+
rB B
B
V
-
r
C
rc
C CJS
B
+
V
C
r
C
E
go
rE E
( g mFV g mRV )
6
w/h>1
微带线的衰减α由两部分组成:导线损耗和 介质损耗 形成微带线的基本条件是,介质衬底的背面 应该完全被低欧姆金属覆盖并接地,从而使 行波的电场主要集中在微带线下面的介质中。
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