Essential-Macleod光学薄膜设计与分析软件简要使用说明教学提纲
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输入目标数据；链接； • 分析和设计工具：导纳图表；反射系数图表；绝对电场幅
度图；非极化边缘滤波片设计工具；对称平衡层（Herpin） 计算；
软件特点
• 性能计算：反射系数；透射系数；反射相位；透射相位； 密度；偏振角，偏振相位；群时延；群时延色散；三价色 散；一价、二价、三价导数。公差同波长、频率、入射角、 膜厚关系函数；
• 颜色：在Tristimulus、Chromaticity、CIE L*a*b*、CIE L*u*v*、Hunter Lab系统下计算。用户可定义的光源；用 户可定义的观测；
• 材料：提供标准的材料数据库；多数据库，如：不同的温 度、镀膜机、不同的项目、不同的客户、不同的系统；材 料数据容易输入；数据图标显示；强大的编辑器；
性能计算
Essential Macleod 提供了一套完备的性能计算功能。 除了一般反射和透射计算外，还包括：密度﹑吸收率﹑椭 偏参数﹑超快参数 ( 群时延 ﹑群时延色散﹑三阶色散 ) 和 光的色散，此外，也可以应用于色彩计算。公差计算可使 用户判定厚度微小变化对设计影响。
分析工具
分析工具包括导纳图标法、环性（反射系数）图标法、电 场图法。电场图计算绝对的电场幅度，提供了几个膜层能 量吸收的比较信息，因此评估有关的可能损失，或者同一 膜层在不同波长下的能量吸收。导纳轨迹法以及环形图法 则可帮使用者了解设计是如何进行的， 通过导纳或者复 振幅系数的从系统中的后层到前层的转换，这种方法将不 同膜层的作用转换至一层单层膜，由此可以被视做一套完 整的直观记录方法。
用户定义单位
单位是用户经常碰到的一个问题，但是在Essential Macleod 不是问题，单位可自定义选择。如：频率可以采 用电子伏特、千兆赫、波数；波长可选埃、纳米、微米甚 至微英寸。
颜色计算
• 颜色计算提供最通用的颜色空间： • Tristimulus • Chromaticity • CIE L*a*b* • CIE L*u*v* • Hunter Lab • 光源的挑选可根据需要预先定义。 CIE 1931 和 1964颜色
优化 （Refinement）
Essential Macleod 提供了 Optimac 、非线性纯化法 （ Nonlinear Simplex ） 、模拟退火法（ Simulated Annealing ） 等优化方法。在一般条件下，OptiMac 功能 强大，推荐使用这种优化法；而 Simplex 则较为快速和稳 定；作为一种统计型方法， Simulated Annealing 在阻抗 型的情况里会很有效，但相对耗时。在优化的工程中，我 们可以锁定（Lock）某些膜层，使其厚度无法改变。 Linking可以步骤式改变厚度。优化目标可以以需计算的性 能参数来定义，例如：颜色，波长（或频率）、入射角、 以及公差。对象连接使得更加复杂的优化功能得以实现。 对于不同波长和不同入射角的情况而言，目标发生器可协 助创建多目标。
软件。
软件特点
• 使用简便： 常见的用户界面；广泛的使用剪贴板；高质 量曲线；真正的多文档界面；
• 用户自定义单位：任意定义波长、频率、厚度、时间的单 位；
• 逆向工程：n、k值导出；非均匀性和吸收，堆砌密度的变 化；固定缩放比例；灵活的限制性优化。
• 优化及合成：Optimac法；Simplex法；模拟退火法； • 目标：对包括颜色的所有的参数确定目标清单；从外部源
Essential Macleod 可对在制造过程中生成的误差提 供鉴定支持；这方面支持是通过单一优化法的改进而达到 的。单一优化法可对折射率和厚度进行优化。通过各种方 式对不同方面的约束，分析找出制造过程中的误差和其他 问题。这些约束条件可以逐渐改变或者取消，以得到最后 的解决方案，并确定可能误差的性质和大小。而折射率的 变化是由堆砌密度改变来表征。
n、k值导出
虽然 Essential Macleod 提供了一套完整的材料数据 库，但是通常对于某一特定的镀膜厂家，数据库中材料的 光学参数同实际薄膜的参数不尽相同的。 针对这种情况， 根据分光光度计对测试薄膜的折射率和透射率的测量结果， N&K 导出法可方便地导出 n 与 k 的值。这里采用的包络 线方法十分稳定。这种方法采用“全透射”，“全反射” 或者透射和反射的数据。根据得到的数据，可以检测出膜 层的非均匀性，吸收或者同时两方面的结果。
设计工具
Essential Macleod提供一个多样化的工具支持设计过 程. 编辑工具使设计操作更容易。这些工具包括：膜层逆 转、材料替换、公式设计、膜厚缩放比例、匹配的角度， 不邻近膜层的剪切、拷贝和粘贴。强大的工具编辑提供必 要的规格、材料数据、表格和图表。
设计工具还包括透射滤光器设计、非极性化边缘滤光 器和平衡膜层（Herpin）参数的计算。透射滤光器工具计 算对指定的金属膜可能的透射率和相应1/4波长非导电性 介质膜的滤光的厚度要求。它也可以用在简单的测量特殊 吸收材料在规定厚度的最大透光率。非极性化边缘滤光器 工具创建一个五层两种材料的对称结构的初始设计，最外 的膜层随后能被优化成相配的滤光设计。
Essential-Macleod光学薄膜设 计与分析软件简要使用说明
软件介绍
Essential Macleod 核心麦克劳德是一套完备的光学 薄膜分析与设计的软件包，它能在微软视窗操作系统下运 行， 并且具有真正的多文档操作界面。它能满足光学镀 膜设计中的各种要求。既可以从头开始设计，也可以优化 已有的设计；可以观测在设计生产中的误差，也可以导出 薄膜的光学常数，是当今市场上最完善的薄膜设计及分析
匹配功能也包括在里面，其次你可以定义你要求的其他颜 色。颜色也可以作为一个优化和合成的目标列入清单，计 算透射和反射颜色。
合成（synthesis）
Optimac 技术也可以在合成模块里操作，为了达到 需要的规格在设计时它可以增加或者移走膜层。合成也可 用于改善现有的设计，或者从一个材料清单和规格里产生 设计。 Optimac是可存档的。它记录优化设计的完整历史， 从而允许在膜系的性能和复杂性间寻找平衡点。
wenku.baidu.com
逆向工程
度图；非极化边缘滤波片设计工具；对称平衡层（Herpin） 计算；
软件特点
• 性能计算：反射系数；透射系数；反射相位；透射相位； 密度；偏振角，偏振相位；群时延；群时延色散；三价色 散；一价、二价、三价导数。公差同波长、频率、入射角、 膜厚关系函数；
• 颜色：在Tristimulus、Chromaticity、CIE L*a*b*、CIE L*u*v*、Hunter Lab系统下计算。用户可定义的光源；用 户可定义的观测；
• 材料：提供标准的材料数据库；多数据库，如：不同的温 度、镀膜机、不同的项目、不同的客户、不同的系统；材 料数据容易输入；数据图标显示；强大的编辑器；
性能计算
Essential Macleod 提供了一套完备的性能计算功能。 除了一般反射和透射计算外，还包括：密度﹑吸收率﹑椭 偏参数﹑超快参数 ( 群时延 ﹑群时延色散﹑三阶色散 ) 和 光的色散，此外，也可以应用于色彩计算。公差计算可使 用户判定厚度微小变化对设计影响。
分析工具
分析工具包括导纳图标法、环性（反射系数）图标法、电 场图法。电场图计算绝对的电场幅度，提供了几个膜层能 量吸收的比较信息，因此评估有关的可能损失，或者同一 膜层在不同波长下的能量吸收。导纳轨迹法以及环形图法 则可帮使用者了解设计是如何进行的， 通过导纳或者复 振幅系数的从系统中的后层到前层的转换，这种方法将不 同膜层的作用转换至一层单层膜，由此可以被视做一套完 整的直观记录方法。
用户定义单位
单位是用户经常碰到的一个问题，但是在Essential Macleod 不是问题，单位可自定义选择。如：频率可以采 用电子伏特、千兆赫、波数；波长可选埃、纳米、微米甚 至微英寸。
颜色计算
• 颜色计算提供最通用的颜色空间： • Tristimulus • Chromaticity • CIE L*a*b* • CIE L*u*v* • Hunter Lab • 光源的挑选可根据需要预先定义。 CIE 1931 和 1964颜色
优化 （Refinement）
Essential Macleod 提供了 Optimac 、非线性纯化法 （ Nonlinear Simplex ） 、模拟退火法（ Simulated Annealing ） 等优化方法。在一般条件下，OptiMac 功能 强大，推荐使用这种优化法；而 Simplex 则较为快速和稳 定；作为一种统计型方法， Simulated Annealing 在阻抗 型的情况里会很有效，但相对耗时。在优化的工程中，我 们可以锁定（Lock）某些膜层，使其厚度无法改变。 Linking可以步骤式改变厚度。优化目标可以以需计算的性 能参数来定义，例如：颜色，波长（或频率）、入射角、 以及公差。对象连接使得更加复杂的优化功能得以实现。 对于不同波长和不同入射角的情况而言，目标发生器可协 助创建多目标。
软件。
软件特点
• 使用简便： 常见的用户界面；广泛的使用剪贴板；高质 量曲线；真正的多文档界面；
• 用户自定义单位：任意定义波长、频率、厚度、时间的单 位；
• 逆向工程：n、k值导出；非均匀性和吸收，堆砌密度的变 化；固定缩放比例；灵活的限制性优化。
• 优化及合成：Optimac法；Simplex法；模拟退火法； • 目标：对包括颜色的所有的参数确定目标清单；从外部源
Essential Macleod 可对在制造过程中生成的误差提 供鉴定支持；这方面支持是通过单一优化法的改进而达到 的。单一优化法可对折射率和厚度进行优化。通过各种方 式对不同方面的约束，分析找出制造过程中的误差和其他 问题。这些约束条件可以逐渐改变或者取消，以得到最后 的解决方案，并确定可能误差的性质和大小。而折射率的 变化是由堆砌密度改变来表征。
n、k值导出
虽然 Essential Macleod 提供了一套完整的材料数据 库，但是通常对于某一特定的镀膜厂家，数据库中材料的 光学参数同实际薄膜的参数不尽相同的。 针对这种情况， 根据分光光度计对测试薄膜的折射率和透射率的测量结果， N&K 导出法可方便地导出 n 与 k 的值。这里采用的包络 线方法十分稳定。这种方法采用“全透射”，“全反射” 或者透射和反射的数据。根据得到的数据，可以检测出膜 层的非均匀性，吸收或者同时两方面的结果。
设计工具
Essential Macleod提供一个多样化的工具支持设计过 程. 编辑工具使设计操作更容易。这些工具包括：膜层逆 转、材料替换、公式设计、膜厚缩放比例、匹配的角度， 不邻近膜层的剪切、拷贝和粘贴。强大的工具编辑提供必 要的规格、材料数据、表格和图表。
设计工具还包括透射滤光器设计、非极性化边缘滤光 器和平衡膜层（Herpin）参数的计算。透射滤光器工具计 算对指定的金属膜可能的透射率和相应1/4波长非导电性 介质膜的滤光的厚度要求。它也可以用在简单的测量特殊 吸收材料在规定厚度的最大透光率。非极性化边缘滤光器 工具创建一个五层两种材料的对称结构的初始设计，最外 的膜层随后能被优化成相配的滤光设计。
Essential-Macleod光学薄膜设 计与分析软件简要使用说明
软件介绍
Essential Macleod 核心麦克劳德是一套完备的光学 薄膜分析与设计的软件包，它能在微软视窗操作系统下运 行， 并且具有真正的多文档操作界面。它能满足光学镀 膜设计中的各种要求。既可以从头开始设计，也可以优化 已有的设计；可以观测在设计生产中的误差，也可以导出 薄膜的光学常数，是当今市场上最完善的薄膜设计及分析
匹配功能也包括在里面，其次你可以定义你要求的其他颜 色。颜色也可以作为一个优化和合成的目标列入清单，计 算透射和反射颜色。
合成（synthesis）
Optimac 技术也可以在合成模块里操作，为了达到 需要的规格在设计时它可以增加或者移走膜层。合成也可 用于改善现有的设计，或者从一个材料清单和规格里产生 设计。 Optimac是可存档的。它记录优化设计的完整历史， 从而允许在膜系的性能和复杂性间寻找平衡点。
wenku.baidu.com
逆向工程