分子束外延系统选型手册.ppt
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l GaAs、InP和GaSb外延 l HgCdTe外延 l GaN、InN和AlN外延 l Ⅱ-Ⅵ族外延 l SiGe外延 l 氧化物外延
特点
l 专利的衬底操控器 l 专利的长寿命和高稳定性泄流盒灯丝 l 泄流盒（包括灯丝）两年质保 l 高性能PBN/PG/PBN或SiC衬底加热器 l 快速反应的磁感线性快门 l 衬底加热器两年质保 l 专利的磷裂解器 l 复合的薄膜沉积MBE系统
DCA Instruments绝大部分的产品都是针对 用户定制设计复杂的沉积系统,该公司许多的标 准系统最初都是起源于针对某些客户对沉积过 程特殊需求的解决方案,因此在标准系统制造业 中有着深厚的为用户定制设计的背景，在用户 中具有很好的声誉。
DCA 公司主要产品(1)
分子束外延系统（MBE）
所针对的材料
主要产品介绍（5）
SGC1000 MBE 系统
l 最大12英寸（300mm）样片 l 液氮冷却板 l 4个电子枪 l 最多可达6个泄流盒 l 垂直腔室 l 30KeV RHEED l 800L/s 离子泵 l 10英寸低温泵 l 1000L/s 分子泵 l 钛升华泵（TSP） l 带机械式晶片传送的超高真空（UHV）套件 l 带分子泵的盒式真空进片室
主要产品介绍（1）
R450(R450C) MBE系统
l 最大3英寸样片 l 双区域液氮冷却板 l 8个泄流盒 l 倾斜的腔室设计 l 15KeV RHEED l 500L/s 离子泵 l 8英寸低温泵 l 500L/s 分子泵 l 钛升华泵（TSP） l 带300L/s 离子泵的超高真空（UHV）缓冲室 l 带分子泵的真空进片室
主要产品介绍（6）
迷你MBE系统
l 最大1英寸样片 l 液氮主冷却板 l 16个泄流盒 l 泄流盒被分为四组，每组四个，
每一组都有单独的阀门与生长腔隔离开 l 15KeV RHEED l 300L/s 离子泵 l 液氮冷却钛升华泵（TSP） l 带分子泵的真空进片室
主要产品介绍（7）
PLD500 脉冲激光沉积系统
主要产品介绍（4）
SGC800 MBE 系统
l 最大8英寸（200mm）样片 l 液氮冷却板 l 2个电子枪 l 最多可达6个泄流盒 l 垂直腔室 l 30KeV RHEED l 500L/s 离子泵 l 8英寸低温泵 l 1000L/s 分子泵 l 钛升华泵（TSP） l 带机械式晶片传送的超高真空（UHV）套件 l 带分子泵的盒式真空进片室
DCA分子束外延及高 真空薄膜沉积系统
宇丰凯电子科技有限公司
DCA 公司简介
DCA Instruments 是一家专业从事分子束外 延（MBE）和超高真空薄膜沉积系统及组件的 设计和制造的公司。DCA Instruments自1989年 成立以来，已经在全球范围内安装了超过100 套的超高真空系统。
DCA 公司主要产品(2)
• 物理气相沉积（PVD）系统
沉积方式
特点
l 磁控溅射 l 脉冲激光沉积（PLD） l 电子束蒸发 l 离子束沉积 l 热蒸发
l 具有独特磁体配置的高均匀度磁溅射源 l 射频、直流、磁性材料和非平衡溅射 l 抗氧化衬底加热器 l 复合薄膜沉积的全自动溅射系统 l 全电脑控制的PLD系统可实现大区域沉积
l 球形腔室 l 6个1英寸目标固定器 l 最大3英寸样片 l 最高温度可达1000℃
的抗氧化加热器 l 520L/s分子泵 l 样片XY扫面 l 目标扫描 l 带分子泵的真空进片室 l 可选超高真空组件 l 可选高压RHEED l 可选计算机控制
来自百度文库
主要产品介绍（8）
S450溅射系统
l 溅射器上或下配置的超高真空腔室 l 最多可达6个磁电管 l 最大4英寸的磁性目标直径 l 射频溅射 l 直流溅射 l 二极管溅射 l 非平衡溅射
l 最高温度可达1000℃的抗氧化加热器
l 最大4英寸样片 l 直流样片偏压 l 520L/s分子泵 l 带分子泵的真空进片室 l 可选超高真空（UHV）组件 l 可选计算机控制
主要产品介绍（9）
L400溅射系统
l 溅射器下配置的超高真空（UHV）腔室 l 6个磁电管安装在一个可移动的线性手臂上 l 最大4英寸的磁性目标直径 l 射频溅射 l 直流溅射 l 非平衡溅射 l 最高温度可达1000摄氏度的抗氧化加热器 l 最大3英寸样片 l 直流和射频样片偏压 l 8英寸低温板 l 带分子泵的真空进片室 l 计算机控制磁性参数 l 4个计算机控制的掩模盘进行楔入沉积
主要产品介绍（3）
M600 MBE系统 l 最大4英寸样片 l 液氮冷却板 l 2个电子枪 l 最多可达8个泄流盒 l 垂直腔室 l 30KeV RHEED l 500L/s 离子泵 l 8英寸低温泵 l 1000L/s 分子泵 l 钛升华泵（TSP） l 带300L/s 离子泵的超高真空（UHV）缓冲室 l 带分子泵的盒式真空进片室
谢谢参阅
主要产品介绍（2）
P600 MBE系统
l 最大4英寸样片 l 双区域液氮冷却板 l 10个泄流盒 l 垂直腔室 l 30KeV RHEED l 500L/s 离子泵 l 8英寸低温泵 l 1000L/s 分子泵 l 钛升华泵（TSP） l 带300L/s 离子泵的超高真空（UHV）缓冲室 l 带分子泵的盒式真空进片室
特点
l 专利的衬底操控器 l 专利的长寿命和高稳定性泄流盒灯丝 l 泄流盒（包括灯丝）两年质保 l 高性能PBN/PG/PBN或SiC衬底加热器 l 快速反应的磁感线性快门 l 衬底加热器两年质保 l 专利的磷裂解器 l 复合的薄膜沉积MBE系统
DCA Instruments绝大部分的产品都是针对 用户定制设计复杂的沉积系统,该公司许多的标 准系统最初都是起源于针对某些客户对沉积过 程特殊需求的解决方案,因此在标准系统制造业 中有着深厚的为用户定制设计的背景，在用户 中具有很好的声誉。
DCA 公司主要产品(1)
分子束外延系统（MBE）
所针对的材料
主要产品介绍（5）
SGC1000 MBE 系统
l 最大12英寸（300mm）样片 l 液氮冷却板 l 4个电子枪 l 最多可达6个泄流盒 l 垂直腔室 l 30KeV RHEED l 800L/s 离子泵 l 10英寸低温泵 l 1000L/s 分子泵 l 钛升华泵（TSP） l 带机械式晶片传送的超高真空（UHV）套件 l 带分子泵的盒式真空进片室
主要产品介绍（1）
R450(R450C) MBE系统
l 最大3英寸样片 l 双区域液氮冷却板 l 8个泄流盒 l 倾斜的腔室设计 l 15KeV RHEED l 500L/s 离子泵 l 8英寸低温泵 l 500L/s 分子泵 l 钛升华泵（TSP） l 带300L/s 离子泵的超高真空（UHV）缓冲室 l 带分子泵的真空进片室
主要产品介绍（6）
迷你MBE系统
l 最大1英寸样片 l 液氮主冷却板 l 16个泄流盒 l 泄流盒被分为四组，每组四个，
每一组都有单独的阀门与生长腔隔离开 l 15KeV RHEED l 300L/s 离子泵 l 液氮冷却钛升华泵（TSP） l 带分子泵的真空进片室
主要产品介绍（7）
PLD500 脉冲激光沉积系统
主要产品介绍（4）
SGC800 MBE 系统
l 最大8英寸（200mm）样片 l 液氮冷却板 l 2个电子枪 l 最多可达6个泄流盒 l 垂直腔室 l 30KeV RHEED l 500L/s 离子泵 l 8英寸低温泵 l 1000L/s 分子泵 l 钛升华泵（TSP） l 带机械式晶片传送的超高真空（UHV）套件 l 带分子泵的盒式真空进片室
DCA分子束外延及高 真空薄膜沉积系统
宇丰凯电子科技有限公司
DCA 公司简介
DCA Instruments 是一家专业从事分子束外 延（MBE）和超高真空薄膜沉积系统及组件的 设计和制造的公司。DCA Instruments自1989年 成立以来，已经在全球范围内安装了超过100 套的超高真空系统。
DCA 公司主要产品(2)
• 物理气相沉积（PVD）系统
沉积方式
特点
l 磁控溅射 l 脉冲激光沉积（PLD） l 电子束蒸发 l 离子束沉积 l 热蒸发
l 具有独特磁体配置的高均匀度磁溅射源 l 射频、直流、磁性材料和非平衡溅射 l 抗氧化衬底加热器 l 复合薄膜沉积的全自动溅射系统 l 全电脑控制的PLD系统可实现大区域沉积
l 球形腔室 l 6个1英寸目标固定器 l 最大3英寸样片 l 最高温度可达1000℃
的抗氧化加热器 l 520L/s分子泵 l 样片XY扫面 l 目标扫描 l 带分子泵的真空进片室 l 可选超高真空组件 l 可选高压RHEED l 可选计算机控制
来自百度文库
主要产品介绍（8）
S450溅射系统
l 溅射器上或下配置的超高真空腔室 l 最多可达6个磁电管 l 最大4英寸的磁性目标直径 l 射频溅射 l 直流溅射 l 二极管溅射 l 非平衡溅射
l 最高温度可达1000℃的抗氧化加热器
l 最大4英寸样片 l 直流样片偏压 l 520L/s分子泵 l 带分子泵的真空进片室 l 可选超高真空（UHV）组件 l 可选计算机控制
主要产品介绍（9）
L400溅射系统
l 溅射器下配置的超高真空（UHV）腔室 l 6个磁电管安装在一个可移动的线性手臂上 l 最大4英寸的磁性目标直径 l 射频溅射 l 直流溅射 l 非平衡溅射 l 最高温度可达1000摄氏度的抗氧化加热器 l 最大3英寸样片 l 直流和射频样片偏压 l 8英寸低温板 l 带分子泵的真空进片室 l 计算机控制磁性参数 l 4个计算机控制的掩模盘进行楔入沉积
主要产品介绍（3）
M600 MBE系统 l 最大4英寸样片 l 液氮冷却板 l 2个电子枪 l 最多可达8个泄流盒 l 垂直腔室 l 30KeV RHEED l 500L/s 离子泵 l 8英寸低温泵 l 1000L/s 分子泵 l 钛升华泵（TSP） l 带300L/s 离子泵的超高真空（UHV）缓冲室 l 带分子泵的盒式真空进片室
谢谢参阅
主要产品介绍（2）
P600 MBE系统
l 最大4英寸样片 l 双区域液氮冷却板 l 10个泄流盒 l 垂直腔室 l 30KeV RHEED l 500L/s 离子泵 l 8英寸低温泵 l 1000L/s 分子泵 l 钛升华泵（TSP） l 带300L/s 离子泵的超高真空（UHV）缓冲室 l 带分子泵的盒式真空进片室