晶体缺陷ppt课件
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晶体结构中的缺陷ppt课件
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N
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n
0
…………………(7)
由于实际上一般只有少数格点为空位,n<<N,所以由式(7)得到平衡时空位的数目为:
点缺陷类型
2. 杂质缺陷(非本征缺陷)
3. 非化学计量结构缺陷(非整比化合物)
- 6-
- 7-
热缺陷(本征缺陷)
热缺陷( thermal defect)
热缺陷反应规律 当晶体中剩余空隙比较小时,如NaCl型结
构,容易形成肖特基缺陷;当剩余空隙比较 大时,如CaF2型结构,易形成弗仑克尔缺陷。
a. 定义:当晶体温度高于绝对0K时,由于晶格内原子热振动, 使一部分能量较大的原子偏离平衡位置造成缺陷。
陷,称为层错。 Si晶体中常见的层错有外延层错和
热位错氧研化究层方错法。:主要是利用光学显微镜、X-ray衍射分析仪和电子显微镜等来进行直接观
察或间接测定。
- 17 -
(二)面缺陷
1、堆垛层错 金属晶体常采取立方密积结构形式,而立方密积是原子球以三层为一循环的密堆积结构,若把这三 层原子面分别用A、B、C表示则晶体的排列形式是 …ABCABCABCABC… 若某一晶体(比如A)在晶体生长时丢失,原子面的排列形式成为: …ABCABCBCABCABC… 其中B晶面便是错位的面缺陷,若从某一晶面开始,晶体两部分发生了滑移,比如从某C晶面以后 整体发生了滑移,C变成A,则晶面的排列形式可能变成 …ABCABABCABCABC… 其中A晶面便是错位的面缺陷。这一类整个晶面发生错位的缺陷称为堆垛层错。
《晶体缺陷》课件
热稳定性
晶体缺陷可能影响材料在高温下的稳 定性,降低其使用温度范围。
比热容
晶体缺陷可能影响比热容,改变材料 吸收和释放热量的能力。
光学性能的影响
折射率与双折射
光吸收与散射
晶体缺陷可能导致折射率变化和双折射现 象,影响光学性能。
晶体缺陷可能导致光吸收增强或光散射增 加,改变光学透射和反射特性。
荧光与磷光
热电效应
某些晶体缺陷可能导致热电效应增强,影响 热电转换效率。
介电常数
晶体缺陷可能影响介电常数,改变电场分布 和电容。
电阻温度系数
晶体缺陷可能影响电阻温度系数,改变温度 对电阻的影响。
热学性能的影响
热导率变化
晶体缺陷可能降低材料的热导率,影 响热量传递和散热性能。
热膨胀系数
晶体缺陷可能影响热膨胀系数,影响 材料在温度变化下的尺寸稳定性。
。
韧性下降
晶体缺陷可能导致材料韧性下 降,使其在受到外力时更容易
脆裂。
疲劳性能
晶体缺陷可能影响材料的疲劳 性能,降低其循环载荷承受能
力。
强度与延展性
晶体缺陷可能影响材料的强度 和延展性,从而影响其承载能
力和塑性变形能力。
电学性能的影响
导电性变化
晶体缺陷可能改变材料的导电性,影响其在 电子设备中的应用。
传感器
基于晶体缺陷的原理,可以设计新型传感器,如压力传感 器、温度传感器和气体传感器等,以提高传感器的灵敏度 和稳定性。
在新能源领域中的应用
太阳能电池
在太阳能电池中,可以利用晶体 缺陷来提高光吸收效率和载流子 的收集效率,从而提高太阳能电
池的光电转换效率。
燃料电池
在燃料电池中,可以利用晶体缺陷 来改善电极的催化活性和耐久性, 从而提高燃料电池的性能和稳定性 。
《晶体中的点缺陷》课件
点缺陷的实验结果分析
点缺陷对晶体性能的影响
01
分析点缺陷对晶体电学、光学、热学等性能的影响,探究点缺
陷在晶体中的作用。
点缺陷的形成与演化机制
02
通过实验结果分析,探究点缺陷的形成机制、演化规律以及对
晶体结构的影响。
点缺陷的控制与优化
03
根据实验结果,探讨如何控制和优化点缺陷的分布和数量,提
高晶体性能。
详细描述
点缺陷可以改变晶体的热学、光学、 电学和磁学等物理性质。例如,点缺 陷可以影响晶体的热导率、电导率、 折射率和磁化率等,从而影响晶体在 特定环境下的性能表现。
点缺陷与晶体化学性质
总结词
点缺陷对晶体的化学性质具有一定影响。
详细描述
点缺陷可以影响晶体的化学反应活性。在某些情况下,点缺陷可以作为反应的活性中心,影响晶体的化学反应速 率和产物性质。此外,点缺陷还可能影响晶体的腐蚀行为和化学稳定性。
点缺陷可以影响晶体的扩散、 相变、电导和热导等性质。
点缺陷在晶体生长、相变和材 料性能调控等方面具有重要的 作用。
02
点缺陷的检测与表征
点缺陷的检测方法
电子显微镜观察
通过电子显微镜观察晶体表面或截面,寻找点缺 陷的形貌特征。
X射线衍射
利用X射线衍射技术分析晶体结构,通过衍射峰的 变化推断点缺陷的存在缺陷的生成与控制是晶体材料中的重要研究内容,通过调控点缺陷的数量和分布,可以实现对材 料性能的优化。
在晶体中,点缺陷的形成通常是由于原子或分子的缺失、添加或替代引起的。这些缺陷可以影响晶体 的物理和化学性质,如导电性、热导率、扩散系数等。因此,控制点缺陷的数量和分布对于优化材料 性能具有重要意义。常见的点缺陷控制方法包括温度控制、掺杂、辐照等。
材料科学基础--第2章晶体缺陷PPT课件
辐照:在高能粒子的辐射下,金属晶体点阵上的原子 可能被击出,发生原子离位。由于离位原子的能量高, 在进入稳定间隙之前还会击出其他原子,从而形成大量 的间隙原子和空位(即弗兰克尔缺陷)。在高能粒子辐 照的情况下,由于形成大量的点缺陷,而会引起金属显 著硬化和脆化,该现象称为辐照硬化。
12
2.1.5点缺陷与材料行为
Or, there should be 2.00 – 1.9971 = 0.0029 vacancies per unit cell. The number of vacancies per cm3 is:
17
Other Point Defects
Interstitialcy - A point defect caused when a ‘‘normal’’ atom occupies an interstitial site in the crystal.
11
2.1.4 过饱和点缺陷
晶体中的点缺陷浓度可能高于平衡浓度,称为过饱和点 缺陷,或非平衡点缺陷。获得的方法:
高温淬火:将晶体加热到高温,然后迅速冷却(淬火 ),则高温时形成的空位来不及扩散消失,使晶体在低 温状态仍然保留高温状态的空位浓度,即过饱和空位。
冷加工:金属在室温下进行冷加工塑性变形也会产生 大量的过饱和空位,其原因是由于位错交割所形成的割 阶发生攀移。
6
2.1.1 分类
3.置换原子(Substitutional atom) 异类原子代换了原有晶体中的原子,而处于晶体点阵的结 点位置,称为置换原子,亦称代位原子。 各种点缺陷,都破坏了原有晶体的完整性。它们从电学
和力学这两个方面,使近邻原子失去了平衡。空位和直 径较小的置换原子,使周围原子向点缺陷的方向松弛, 间隙原子及直径较大的置换原子,把周围原子挤开一定 位置。因而在点缺陷的周围,就出现了一定范围的点阵 畸变区,或称弹性应变区。距点缺陷越远,其影响越小 。因而在每个点缺陷的周围,都会产生一个弹性应力场 。
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2.1.5点缺陷与材料行为
Or, there should be 2.00 – 1.9971 = 0.0029 vacancies per unit cell. The number of vacancies per cm3 is:
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Other Point Defects
Interstitialcy - A point defect caused when a ‘‘normal’’ atom occupies an interstitial site in the crystal.
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2.1.4 过饱和点缺陷
晶体中的点缺陷浓度可能高于平衡浓度,称为过饱和点 缺陷,或非平衡点缺陷。获得的方法:
高温淬火:将晶体加热到高温,然后迅速冷却(淬火 ),则高温时形成的空位来不及扩散消失,使晶体在低 温状态仍然保留高温状态的空位浓度,即过饱和空位。
冷加工:金属在室温下进行冷加工塑性变形也会产生 大量的过饱和空位,其原因是由于位错交割所形成的割 阶发生攀移。
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2.1.1 分类
3.置换原子(Substitutional atom) 异类原子代换了原有晶体中的原子,而处于晶体点阵的结 点位置,称为置换原子,亦称代位原子。 各种点缺陷,都破坏了原有晶体的完整性。它们从电学
和力学这两个方面,使近邻原子失去了平衡。空位和直 径较小的置换原子,使周围原子向点缺陷的方向松弛, 间隙原子及直径较大的置换原子,把周围原子挤开一定 位置。因而在点缺陷的周围,就出现了一定范围的点阵 畸变区,或称弹性应变区。距点缺陷越远,其影响越小 。因而在每个点缺陷的周围,都会产生一个弹性应力场 。
晶体缺陷ppt
演变过程
晶体缺陷在温度、压力等外部因素的作用下会发生变化,如点缺陷的迁移、位错 的滑移、晶界的迁移等。这些演变过程会影响晶体的性能和结构。
02
晶体缺陷的类型
点缺陷
弗兰克尔缺陷
在晶体中,原子或离子的一部分占据了应该是另一个原子的 位置,造成晶体结构的不完整性。
肖特基缺陷
在晶体中,一个原子或离子跳到了另一个原子的位置,形成 了一个空位。
位错是金属材料中最常见的晶体缺陷之一,其密度和分布对材
料的力学性能有重要影响。
在金属材料制备和使用过程中,应尽量减少晶体缺陷的产生,
03
以提高金属材料的性能。
功能陶瓷中的晶体缺陷
功能陶瓷的性能与晶体缺陷密切相关,如电导 率、介电常数等。
功能陶瓷中的晶体缺陷包括位错、空位、晶界 等,这些缺陷对材料的物理和化学性能产生重 要影响。
Hale Waihona Puke 06未来展望与挑战晶体缺陷研究的未来方向
发展新的检测技术
随着科学技术的发展,需要不断开发新的检测技术来更准确地识 别和测量晶体缺陷。
深入研究微观机制
进一步深入研究晶体缺陷的微观机制,包括缺陷的形成、扩散、 相互作用等,有助于更好地理解缺陷对材料性能的影响。
发展新型材料
基于对晶体缺陷的深入理解,可以设计和开发具有更优性能的新 型材料。
晶体缺陷的重要性
材料性能影响
晶体缺陷对材料的物理和化学性能具有重要影响,如导电性、导热性、强度 等。
工业应用
在工业上,晶体缺陷的应用也十分广泛,如半导体器件、激光器、太阳能电 池等。
晶体缺陷的产生与演变
产生原因
晶体缺陷的产生主要有两种原因,一是材料制备过程中引入的缺陷,如熔炼、铸 造、热处理等过程中产生;二是晶体生长过程中形成的缺陷,如位错、层错等。
晶体缺陷在温度、压力等外部因素的作用下会发生变化,如点缺陷的迁移、位错 的滑移、晶界的迁移等。这些演变过程会影响晶体的性能和结构。
02
晶体缺陷的类型
点缺陷
弗兰克尔缺陷
在晶体中,原子或离子的一部分占据了应该是另一个原子的 位置,造成晶体结构的不完整性。
肖特基缺陷
在晶体中,一个原子或离子跳到了另一个原子的位置,形成 了一个空位。
位错是金属材料中最常见的晶体缺陷之一,其密度和分布对材
料的力学性能有重要影响。
在金属材料制备和使用过程中,应尽量减少晶体缺陷的产生,
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以提高金属材料的性能。
功能陶瓷中的晶体缺陷
功能陶瓷的性能与晶体缺陷密切相关,如电导 率、介电常数等。
功能陶瓷中的晶体缺陷包括位错、空位、晶界 等,这些缺陷对材料的物理和化学性能产生重 要影响。
Hale Waihona Puke 06未来展望与挑战晶体缺陷研究的未来方向
发展新的检测技术
随着科学技术的发展,需要不断开发新的检测技术来更准确地识 别和测量晶体缺陷。
深入研究微观机制
进一步深入研究晶体缺陷的微观机制,包括缺陷的形成、扩散、 相互作用等,有助于更好地理解缺陷对材料性能的影响。
发展新型材料
基于对晶体缺陷的深入理解,可以设计和开发具有更优性能的新 型材料。
晶体缺陷的重要性
材料性能影响
晶体缺陷对材料的物理和化学性能具有重要影响,如导电性、导热性、强度 等。
工业应用
在工业上,晶体缺陷的应用也十分广泛,如半导体器件、激光器、太阳能电 池等。
晶体缺陷的产生与演变
产生原因
晶体缺陷的产生主要有两种原因,一是材料制备过程中引入的缺陷,如熔炼、铸 造、热处理等过程中产生;二是晶体生长过程中形成的缺陷,如位错、层错等。
晶体结构缺陷PPT课件
M X:
Frenkel 缺陷
Schottky 缺陷
Frenkel 缺陷:间隙质点与空格点成对产生;体积不变
Schottky 缺陷:正负离子空位同时成对产生,体积增
加
11/22/2019
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思考题
为什么CaF2比NaCl容易形成弗仑克尔缺陷?据其晶体结构简 要解释。
一般规律: 当晶体中剩余空隙比较小,如NaCl型结构,容易 形成肖特基缺陷;当晶体中剩余空隙比较大时, 如萤石CaF2型结构等,容易产生弗仑克尔缺陷。
2.4缺陷和非整比化合物
主要内容: 2.4.1 晶体缺陷简介 2.4.2 点缺陷 2.4.3 线缺陷 2.4.4 面缺陷 2.4.5 体缺陷 2.4.6 固溶体 2.4.7 非整比化合物
11/22/2019
DEFECTS IN MATERIAL SCIENCE
• “It is the defects that makes materials so interesting, just like the human being.”
2.2.4 电荷缺陷
• 电荷缺陷:自由电子和空穴也是晶体的一 种缺陷,虽然他们的出现未破坏离子排列的 周期性,但由于自由电子带负电,空穴带正电, 因此在它们附近形成了一个附加电场,引起 周期势场的畸变,造成晶体的不完整.
• 电荷缺陷的存在是晶体的绝缘性变差,还会 和其他缺陷结合,形成一些新的缺陷.
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2.晶体缺陷的分类
几何形态:点缺陷、线缺陷、面缺陷、体缺陷
形成原因:热缺陷、杂质缺陷、非化学计量缺陷等
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4
2.4.1 晶体缺陷简介
3研究缺陷的意义 点缺陷引起的三种晶格畸变
《晶体缺陷》PPT课件
则
z
Gb
2r
WS
1 2
R Gb2
r0 2r
dr
Gb 2 ln R
4 r0
Gb2 R
ES
4
ln r0
6.6.2 刃型位错应变能
类似可求得单位长度刃型位错应变能
Ee
Gb2
4 (1
v)
ln
R r0
51
6.6.3 混合位错的应变能
任何一个混合位错都可分解为一刃型位错和一个螺型位错,设其柏氏矢量b与位错线 交角为θ,则 :
有一定平衡数量的空位和间隙原子,其数量可近似算出。
设自由能F=U-TS U为内能,S为系统熵(包括振动熵SV和排列熵SC) 空位的引入,一方面由于弹性畸变使晶体内能增加; 另一方面又使晶体中混乱度增加,使熵增加。而熵 的变化包括两部分: ① 空位改变它周围原子的振动引起振动熵,SV ② 空位在晶体点阵中的排列可有许多不同的几何组 态,使排列熵SC增加。
18
6.2.3 混合位错
位错线上任一点的滑移矢量相同,但两者方向夹角呈 任意角度,图为混合位错的产生
6.3 柏氏矢量
柏氏矢量是描述位错性质的一个重要物理量,1939年 Burgers提出,故称该矢量为“柏格斯矢量”或“柏 氏矢量”,用b 表示
1.柏氏矢量的确定(方法与步骤)
1)人为假定位错线方向,一般是从纸背向纸面或由上 向下为位错线正向
设立刃型位错模型,
由弹性理论求得:
xx
D
y(3x2 (x2
y2) y2 )2
yy
D
y(x2 y2 ) (x2 y2)2
zz v(xx yy)
xz zx yz zy 0
xy
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8
Schottky缺陷的产生
上
9
晶体中的Schottky缺陷(空位) 晶体中的Frenkel缺陷(位错)
10
2 . 杂质缺陷 概念——杂质原子进入晶体而产生的缺陷。原
子进入晶体的数量一般小于0.1%。 种类——间隙杂质
置换杂质 特点——杂质缺陷的浓度与温度无关,
只决定于溶解度。 存在的原因——本身存在
固 溶
质原子。
体
4
B、 根据产生缺陷的原因分 热缺陷 杂 质 缺陷 非化学计量结构缺陷(电荷缺陷)
5
1. 热缺陷:当晶体的温度高于绝对0K时,由于晶格内原子热运 动,使一部分能量较大的原子离开平衡位置造成的 缺陷。
(1)弗林克尔倾斜- Frankel缺陷
特点 —— 空位和间隙成对产生 ;晶体密度不变。
第四章 晶体结构缺陷
1
第四章 晶体结构缺陷
第一节 前言 第二节 点缺陷 第三节 线缺陷-位错 第四节 面缺陷与体缺陷
2
4.1 概 述
1、缺陷产生的原因——热震动 杂质
2、 缺陷定义—— 实际晶体与理想晶体相比有一定程度的偏 离或不完美性, 把两种结构发生偏离的区 域叫缺陷。
3、 缺陷分类——点缺陷、线缺陷、面缺陷、体缺陷 4、 研究缺陷的意义—— (1) 晶体缺陷是材料结构敏感性的物理根源。 (2)晶体缺陷是材料导电、半导体、发色(色心)、发光、
(2) 位置增殖 形成Schttky缺陷时增加了位置数目。 能引起位置增殖的缺陷:空位(VM)、错位(VX)、 置换杂质原子( MX 、XM)、表面位置(XM)等。 不发生位置增殖的缺陷:e′ , h·, Mi , Xi , Li等。 当表面原子迁移到内部与空位复合时,则减少 了位置数目(MM 、XX)。
17
(6)带电缺陷
不同价离子之间取代出现离子空位以外的又一种带电
缺陷。
如Ca2+取代Na+——Ca
· Na
Ca2+取代Zr4+——Ca″Zr
(7) 缔合中心在晶体中除了单个缺陷外,有可能出现邻
近两个缺陷互相缔合,把发生 缔合的缺陷用小括号表
示,也称复合缺陷。 通常是一个带电缺陷与另一个有相反符号的点缺
非化学计量缺陷
电荷缺陷
周期排列不变
价带产生空穴 导带存在电子
附加 电场
周期势场畸变
产生电荷缺陷
13
二、缺陷化学反应表示法 1. 常用缺陷表示方法
Az b
用一个主要符号表明缺陷的种类 用一个下标表示缺陷位置 用一个上标表示缺陷的有效电荷
如“ . ”表示有效正电荷; “ / ”表示有效负电荷;
“×”表示有效零电荷。
处的平衡位置,XM 类似。 (4)溶质原子(杂质原子):
LM 表示溶质L占据了M的位置。如:CaNa SX 表示S溶质占据了X位置。
16
(5)自由电子及电子空穴:某些电子不处于特定位置上, 称为自由电子,写作 e′;同样,某些缺陷上缺少电子,这 就是电子空穴,用h·
有些情况下,价电子并不一定属于某个特定位置的原 子,在光、电、热的作用下可以在晶体中运动,原固 定位置称次自由电子(符号e′)。同样可以出现缺少电 子,而出现电子空穴(符号h·),它也不属于某个特定的 原子位置。
有目的加入(改善晶体的某种性能)
11
杂质缺陷与信息材料
(1)P型半导体:单晶硅中掺入B、Ga等
(2)N型半导体:单晶硅中掺入As、P、Sb等
12
3. 非化学计量结构缺陷(电荷缺陷)
存在于非化学计量化合物中的结构缺陷,化合物化学 组成与周围环境气氛有关;不同种类的离子或原子数之比
不能用简单整数表示。如:TiO2x;
VNa
写作 VNa e VNa
同样,如果取出一个Cl- ,即相当于取走一个Cl原子 加一个e,那么氯空位上就留下一个电子空穴(h. )即
VCerstitial, 用下标“i”表示 Mi 表示M原子进入间隙位置; Xi 表示X原子进入间隙位置。
(3)错位原子(错放位置): MX 表示M原子占据了应是X原子正常所
用MX离子晶体为例( M2+ ;X2- ):
(1)空位:Vacancy
VM 表示M原子占有的位置,在M原子移走后出现的空
位;VX 表示X原子占有的位置,在X原子移走后出现
的空位。
14
把离子化合物看作完全由离子构成(这里不
考虑化学键性质),则在 NaCl晶体中,如果取走 一个Na+ 晶格中多了一个e, 因此VNa 必然和这个 e/相联系,形成带电的空位——
陷缔合。因为在离子晶体中带相反电荷的点缺陷之间, 存在一种有利于缔合的库仑引力。
如:在NaCl晶体中,
VN a VC•l (VN aVC•l )
18
2. 书写点缺陷反应式的规则 (1)位置关系: 在化合物MaXb中M位置数和X的
位置数目成一个正确的比例,即保持a:b。 对于计量化合物(如NaCl、Al2O3),在缺陷反
例 : 纤锌矿结构 ZnZn Zni•• VZn
能量
ZnO晶体,Zn2+
可以离开原位进
入间隙,
u 间隙位置
此间隙为结 E
构中的另一半
“四孔”和“八 孔”位置。
平衡位置
从能量角度分析:
位6置
Frankel缺陷的产生
上
7
(2) 肖特基缺陷- Schttky缺陷
下
特点—— 对于离子晶体,为保持电中性,正离子空位和 负离子空位成对产生,晶体体积增大
应式中作为溶剂的晶体所提供的位置比例应保持不 变,但每类位置总数可以改变。 例:
CaCl2 (s) KClCaK• VK 2ClCl
K : Cl = 2 : 2
对于非化学计量化合物,当存在气氛不同时,原子之间
的比例是改变的。
例:TiO2 由 1 : 2 变成 1 : 2-x (TiO2-x ) 19
NaCl VNa VC•l
形成——正常格点的原子由于热运动跃迁到晶体表面, 在晶体内正常格点留下空位。
从形成缺陷的能量来分析——
Schttky缺陷形成的能量小于Frankel 缺陷形成的能量 因此对于大多数晶体来说,Schttky 缺陷是主要的。
热缺陷浓度表示 :
n exp( -E )
N
2KT
3
扩散、烧结、固相反应等的机制。
4.2 点缺陷
一、类型
A 、根据对理想晶体偏离的几何位置来分:有三类
空位
正常结点位置没有被质点占据,称为空位。
填 隙 原 子 质点进入间隙位置成为填隙原子。
杂质原子
杂质原子进入晶格(结晶过程中混入或加 入,一般不大于1%,)。
间隙位置—间隙杂质原子
进入 正常结点—取代(置换)杂