材料分析方法期末复习要点2018
材料分析方法总复习-文档资料
对X射线衍射
2 2 2 s i ns ： i n. ： . . . . s i n N ： N ： . . . . . N 1 2 n 1 2 n
4.透射电镜的像衬度
质厚衬度 ：非晶样品衬度的主要来源 （厚度和原子序数 ）
振幅衬度
衍射衬度 ：晶体样品衬度的主要来源
相位衬度
利用电子束相位的变化，由两束及以上 电子束相干成像。
2.分辨率 俄歇电子AE 二次电子SE
5～10nm
5～10nm
背散射电子BE 50～200nm 特征X射线 100～1000nm
3.影响SEM分辨率的三大因素：
① 电子束束斑大小 ② 检测信号类型 ③ 检测部位原子序数
扫描电镜的衬度原理 二次电子成像衬度 背散射电子成像衬度 一、成分衬度 背散射系数η随原子序数Z增大而增大 二次电子不明显 二、形貌衬度 二次电子成像的主要衬度来源 背散射电子由于不好控制，而且作用体 积比较大所以形貌分析效果不及二次电子
第二章
第三章
1.布拉格方程及其意义和用途 2.衍射矢量方程以及厄瓦尔德图解法 3.影响多晶衍射强度的因素及其公式中各量的意义
干涉晶面(nh nk nl)写为 HKL 2d HKL Sinθ =λ 干涉指数表达的布拉格方程
s s 0 r HKL ---- 倒易空间中表示 衍射条件的矢量方程式
5.成像的基本模式
衍射束 成像
衍射束 成像
直射束 成像
（a）明场像
(b)暗场像
(c)中心暗场像
明场像与暗场像的衬度相反
成像操作光路图
6.ＴＥＭ主要的透镜和位置及其作用
样品上面 样品下面 物镜下面 聚光镜 物镜 中间镜 投影镜
材料分析方法复习提纲
第一章X射线物理学基础一、X射线产生的主要装置和条件二、短波限三、连续X射线（强度公式）四、特征X射线（莫塞莱定律）五、X射线吸收（透射）公式——（质量吸收系数：单质、化合物（固溶体、混合物））六、光电效应、荧光辐射、俄歇效应七、吸收限的两个应用：滤波片的选择、靶材的选择八、相干散射九、X射线的产生及其与物质的相互作用（系统掌握一，四~七）第二章X射线衍射方向一、晶带定律及其应用二、布拉格方程及其应用三、干涉面四、倒易矢量与正空间中晶面的关系（方向、大小）五、倒易球（多晶体倒易点阵）六、爱瓦尔德图解（与布拉格方程等同）七、单晶、多晶衍射花样特点第三章X射线衍射强度一、衍射积分强度（相对强度）二、常见晶体（简立方、面心立方、体心立方）消光规律第四章多晶体分析方法一、德拜花样二、德拜相机的安装方法三、X射线衍射仪测量在入射光束、试样形状、试样吸收以及衍射线记录等方面与德拜法有何不同？（X射线衍射仪试样台与计数管联动关系）第五章物相分析及点阵参数精确测定一、物相定量分析方法二、精确测定点阵参数的方法第六章宏观残余应力的测定一、宏观残余应力的分类及其对X射线的影响二、X射线衍射测定宏观应力常用的衍射几何方法三、定峰法第八章电子光学基础一、电磁透镜的作用，焦距，景深和焦长（影响因素，即公式）二、电磁透镜的分辨率（影响因素）第九章透射电子显微镜一、成像操作二、衍射操作第十章电子衍射一、电子衍射与X射线衍射的不同之处二、零层倒易面（uvw）*0三、产生衍射的充要条件四、选区电子衍射五、了解：单晶电子衍射花样的标定方法（步骤）六、超点阵斑点第十一章晶体薄膜衍衬成像分析一、衍射衬度二、明场像、暗场像、中心暗场像第十三章扫描电子显微镜一、电子束轰击样品可能产生的几种信号二、二次电子形貌衬度及其主要应用第十四章电子背散射衍射分析技术一、电子背散射衍射分析技术与X射线衍射分析技术、透射电子显微分析技术的异同第十五章电子探针显微分析一、电子探针的分析方法原理及其应用二、波谱仪和能谱仪的优缺点第十六章其他显微分析方法一、了解：离子探针、低能电子衍射、俄歇电子能谱、场离子显微镜、原子探针、扫描隧道显微镜、原子力显微镜、X射线光电子能谱、红外光谱、激光拉曼光谱、紫外-可见吸收光谱、原子发射光谱、原子吸收光谱、核磁共振、电子能量损失谱、扫描透射电子显微镜的应用。
材料分析测试技术期末考试重点知识点归纳.
材料分析测试技术复习参考资料1、透射电子显微镜其分辨率达10-1 nm，扫描电子显微镜其分辨率为1nm。
透射电子显微镜放大倍数大。
第一章x射线的性质2、X射线的本质：X射线属电磁波或电磁辐射，同时具有波动性和粒子性特征，波长较为可见光短，约与晶体的晶格常数为同一数量级，在10-8cm左右。
其波动性表现为以一定的频率和波长在空间传播；粒子性表现为由大量的不连续的粒子流构成。
即电磁波。
3、X射线的产生条件：a产生自由电子；b使电子做定向高速运动；c在电子运动的路径上设置使其突然减速的障碍物。
X射线管的主要构造：阴极、阳极、窗口。
4、对X射线管施加不同的电压，再用适当的方法去测量由X射线管发出的X射线的波长和强度，便会得到X射线强度与波长的关系曲线，称为X射线谱。
在管电压很低，小于某一值（Mo阳极X射线管小于20KV）时，曲线变化时连续变化的，称为连续谱。
在各种管压下的连续谱都存在一个最短的波长值λo，称为短波限，在高速电子打到阳极靶上时，某些电子在一次碰撞中将全部能量一次性转化为一个光量子，这个光量子便具有最高的能量和最短的波长，这波长即为λo。
λo=1.24/V。
5、X射线谱分连续X射线谱和特征X射线谱。
*6、特征X射线谱：概念：在连续X射线谱上，当电压继续升高，大于某个临界值时，突然在连续谱的某个波长处出现强度峰，峰窄而尖锐，改变管电流、管电压，这些谱线只改变强度而峰的位置所对应的波长不变，即波长只与靶的原子序数有关，与电压无关。
因这种强度峰的波长反映了物质的原子序数特征、所以叫特征x射线，由特征X射线构成的x射线谱叫特征x射线谱，而产生特征X射线的最低电压叫激发电压。
产生：当外来的高速度粒子(电子或光子)的动aE足够大时，可以将壳层中某个电子击出去，或击到原于系统之外，或使这个电子填到未满的高能级上。
于是在原来位置出现空位，原子的系统能量因此而升高，处于激发态。
这种激发态是不稳定的，势必自发地向低能态转化，使原子系统能量重新降低而趋于稳定。
材料分析方法考试重点
连续谱强度分布曲线下的面积即为连续X 射线谱的总强度，其取决于X射线管U、i、Z 三个因素：I连= K1iZU2。
X 射线管的管电压越高、阳极靶原子序数越大，X 射线管的效率越高。
电子击靶时绝大部分能量消耗于使靶发热。
X射线产生的基本条件？产生自由电子（热阴极），使电子作定向高速运动（加速电场），在电子运动路径上设置障碍物（阳极(靶)。
当X射线管压高于靶材相应的某一特征值UK 时，在某些特定波长位置上，将出现一系列强度很高、波长范围很窄的线状光谱，称为特征谱或标识谱。
吸收系数在某些波长位置突然升高，所对应的波长称为吸收限。
当入射X射线光量子能量等于或略大于吸收体原子某壳层电子的结合能时，电子易获得能量从内层逸出，成为自由电子，称为光电子，这种光子击出电子的现象称为光电效应。
将消耗大量入射能量，导致吸收系数突增，光电效应引起的入射能量消耗为真吸收，真吸收还包括热效应。
对于同一元素，λK < λKβ < λKα，此为同一元素的X射线发射谱与其吸收谱的关系。
这种一个K层空位被两个L 层空位代替的过程为俄歇效应。
相干散射：入射X射线光子与原子中束缚紧密的电子碰撞，只是方向改变，波长（能量）不变。
相干散射是X射线衍射的基础。
（弹性散射）不相干散射：入射X射线光子与原子中束缚弱的电子碰撞，产生反冲电子，入射X射线光子的方向和波长（能量）均改变，形成衍射花样的背底。
（非弹性散射，量子散射）。
X 射线与原子内受束缚较紧的电子相遇时产生的相干散射波，在某些方向相互加强，而在某些方向相互减弱，称这种散射波干涉的总结果为衍射。
入射线与晶面间的夹角θ称为掠射角或布拉格角；入射线和衍射线之间的夹角2θ称为衍射角；n 称为反射级数。
采用短波长X射线照射，可获得较大干涉面指数的反射。
因dsinθ =λ/ 2，故d≥λ/2，说明采用短波长的X射线照射时，参与反射的干涉面将会增多。
劳埃法—连续X射线入射固定的单晶体，主要用于单晶取向测定及晶体对称性研究。
材料分析方法复习总结
1. 已知某原子的光谱项，能够用能级示意图表示出其光谱支项与塞曼能级。
原子能级由符号n M L J 表示，其中n表示主量子数，即原子层数。
M是J可能存在的个数，一般为2S+1或2L+1；L一般用大写字母S、P、D、F、G等表示，分别表示L的值是0，1，2，3，4…；例如：某原子的一个光谱项为23P J，即有n=2，L=1，设S=1，（故M=2S+1=3），则J=2，1，0。
当J＝2时，M J=0，±1，±2；J=1时，M J=0，±1；J=0时，M J＝0。
23P J光谱项及其分裂所示。
2. 掌握满带、禁带、价带、导带以及费米能的概念。
满带：能带中的所有能级（能态）都被电子填满；禁带：原子不同能级分裂的能带之间存在间隙；价带：与原子基态价电子能级相应的能带称为价带；导带：与原子激发态能级相应的能带成为导带。
费米能：绝对零度时固体中电子占据的最高能级称为费米能级，其能量称为费米能E F 3．能够在给定晶体结构（如简单立方晶胞、面心立方晶胞），在其中画出(001), (002), (003) 等晶面，根据干涉指数的定义，回答由干涉指数表示的晶面上是否一定有原子的分布，为什么？画晶面（注意：晶面指数是截距的倒数。
）干涉指数定义为可带有公约数n的晶面指数[n(hkl)],即为广义的晶面指数。
干涉指数表示的晶面并不一定是晶体中的真实原子面，也就是说干涉指数表示的晶面并不一定有原子分布。
因为若将干涉指数按比例约分后，最后干涉指数还是还原为晶面指数，所以只用晶面空间方位来标识晶面。
4. 掌握由倒易矢量性质，倒易点阵与正点阵关系推导出立方晶系晶面间距公式的推导过程。
根据(r*HKL)=1/d2HKL，按照矢量点积的公式，可确定1/d2HKL=（Ha*+Kb*+Lc*）(Ha*+Kb*+Lc*)=H2(a*)2+K2(b*)2+L2(c*)2+2HK(a*∙b*)+2HL(a*∙c*)+2KL(b*∙c*) 又有，(a*)2=(b*)2=(c*)2=1/a2,cosα*=cosβ*=cosγ*=01/d2HKL=H2+K2+L2ad HKL=√H2+K2+L25. 掌握晶带定理及晶带轴计算方法。
材料分析方法复习总结
1. 已知某原子的光谱项，能够用能级示意图表示出其光谱支项与塞曼能级。
原子能级由符号n M L J 表示，其中n表示主量子数，即原子层数。
M是J可能存在的个数，一般为2S+1或2L+1；L一般用大写字母S、P、D、F、G等表示，分别表示L的值是0，1，2，3，4…；例如：某原子的一个光谱项为23P J，即有n=2，L=1，设S=1，（故M=2S+1=3），则J=2，1，0。
当J＝2时，M J=0，±1，±2；J=1时，M J=0，±1；J=0时，M J＝0。
23P J光谱项及其分裂所示。
2. 掌握满带、禁带、价带、导带以及费米能的概念。
满带：能带中的所有能级（能态）都被电子填满；禁带：原子不同能级分裂的能带之间存在间隙；价带：与原子基态价电子能级相应的能带称为价带；导带：与原子激发态能级相应的能带成为导带。
费米能：绝对零度时固体中电子占据的最高能级称为费米能级，其能量称为费米能E F 3．能够在给定晶体结构（如简单立方晶胞、面心立方晶胞），在其中画出(001), (002), (003) 等晶面，根据干涉指数的定义，回答由干涉指数表示的晶面上是否一定有原子的分布，为什么？画晶面（注意：晶面指数是截距的倒数。
）干涉指数定义为可带有公约数n的晶面指数[n(hkl)],即为广义的晶面指数。
干涉指数表示的晶面并不一定是晶体中的真实原子面，也就是说干涉指数表示的晶面并不一定有原子分布。
因为若将干涉指数按比例约分后，最后干涉指数还是还原为晶面指数，所以只用晶面空间方位来标识晶面。
4. 掌握由倒易矢量性质，倒易点阵与正点阵关系推导出立方晶系晶面间距公式的推导过程。
根据(r*HKL)=1/d2HKL，按照矢量点积的公式，可确定1/d2HKL=（Ha*+Kb*+Lc*）(Ha*+Kb*+Lc*)=H2(a*)2+K2(b*)2+L2(c*)2+2HK(a*∙b*)+2HL(a*∙c*)+2KL(b*∙c*) 又有，(a*)2=(b*)2=(c*)2=1/a2,cosα*=cosβ*=cosγ*=01/d2HKL=H2+K2+L2a2d HKL=√H2+K2+L25. 掌握晶带定理及晶带轴计算方法。
材料分析方法重点总结
1.透射电镜中有哪些主要光阑? 分别安装在什么位置? 其作用如何?答：主要有三种光阑：①聚光镜光阑。
在双聚光镜系统中,该光阑装在第二聚光镜下方。
作用:限制照明孔径角。
②物镜光阑。
安装在物镜后焦面。
作用: 提高像衬度；减小孔径角从而减像差；进行暗场成像。
③选区光阑:放在物镜的像平面位置。
作用: 对样品进行微区衍射分析。
2.决定X 射线强度的关系式是试说明式中各参数的物理意义?3.比较物相定量分析的外标法、内标法、K 值法、直接比较法和全谱拟合法的优缺点？答：外标法就是待测物相的纯物质作为标样以不同的质量比例另外进行标定，并作曲线图。
外标法适合于特定两相混合物的定量分析，尤其是同质多相（同素异构体）混合物的定量分析。
内标法是在待测试样中掺入一定量试样中没有的纯物质作为标准进行定量分析，其目的是为了消除基体效应。
内标法最大的特点是通过加入内标来消除基体效应的影响，它的原理简单，容易理解。
但它也是要作标准曲线，在实践起来有一定的困难。
K 值法是内标法延伸。
K 值法同样要在样品中加入标准物质作为内标，人们经常也称之为清洗剂。
K 值法不作标准曲线，而是选用刚玉Al O 作为标准物质，直接比较法通过将待测相与试样中存在的另一个相的衍射峰进行对比，求得其含量的。
直接法好处在于它不要纯物质作标准曲线，也不要标准物质，它适合于金属样品的定量测量。
4磁透镜的像差是怎样产生的? 如何来消除和减少像差?像差分为球差,像散,色差.球差是磁透镜中心区和边沿区对电子的折射能力不同引起的.增大透镜的激磁电流可减小球差.像散是由于电磁透镜的周向磁场不非旋转对称引起的.可以通过引入一强度和方位都可以调节的矫正磁场来进行补偿.色差是电子波的波长或能量发生一定幅度的改变而造成的.稳定加速电压和透镜电流可减小色差5别从原理、衍射特点及应用方面比较X 射线衍射和透射电镜中的电子衍射在材料结构分析中的异同点。
原理: X射线照射晶体，电子受迫振动产生相干散射；同一原子内各电子散射波相互干涉形成原子散射波；晶体内原子呈周期排列，因而各原子散射波间也存在固定的位相关系而产生干涉作用，在某些方向上发生相长干涉，即形成衍射。
材料分析方法考前复习总结
材料分析⽅法考前复习总结⼀X射线基础1 X射线：是⼀种波长很短的电磁波(0.05-0.25nm,可见光390-760nm)。
X射线能使⽓体电离，使照相底⽚感光，能穿过不透明的物体，还能使荧光物质发出荧光。
呈直线传播，在电场和磁场中不发⽣偏转；当穿过物体时仅部分被散射。
产⽣条件：产⽣⾃由电⼦；使电⼦做定向⾼速运动；在电⼦运动的路径上设置使其突然减速的障碍物。
产⽣⽅式：利⽤类似热阴极⼆极管装置，⽤⼀定材料制作的板状阳极（靶）和阴极（灯丝）密封在⼀个玻璃-⾦属管壳内，阴极通电加热，在两极间加直流⾼压U，则阴极产⽣的热电⼦将在⾼压电场作⽤下飞向阳极，在碰撞的瞬间产⽣X射线。
连续X射线：强度随波长连续变化的谱线，波长从⼀最⼩值（短波限）向长波伸展，并在⼀波长处有强度最⼤值。
受管电压U、管电流I和阳极靶材原⼦序数Z的作⽤。
U提⾼，强度提⾼，短波限和强度最⼤值对应的波长减⼩；I提⾼，强度提⾼；Z越⾼，强度越⼤。
根据量⼦⼒学，在管电压作⽤下电⼦动能为eU，若电⼦碰撞时把全部能量给予⼀个光⼦，则使其获得最⼤能量，，此光量⼦的波长即为短波限。
绝⼤多数到达阳极靶⾯的电⼦经多次碰撞消耗能量，每次碰撞产⽣⼀个光量⼦，并以均⼤于短波限的波长辐射，产⽣连续谱。
特征X射线：管电压增⾼到⼀定值时，在连续谱的某些特定的波长位置会出现⼀系列强度很⾼、波长范围很窄的线状光谱，其波长只取决于阳极靶材元素的原⼦序数，可作为阳极靶材的标志或特征。
莫塞莱定律：（Z越⼤，特征谱波长越短）。
经典原⼦模型，电⼦分布在⼀系列量⼦化壳层上，内层电⼦被激出后原⼦将处于激发状态，必然⾃发向稳态过渡，此时外层电⼦将填充内层空位，相应伴随着原⼦能量的降低。
原⼦从⾼能态变成低能态时，多出的能量以X射线形式辐射出来。
物质⼀定，原⼦结构⼀定，两特定能级间的能量差⼀定，故辐射出的特征X射波长⼀定。
特征谱强度随U和I的提⾼⽽增⼤。
2 X-ray与物质的相互作⽤1）散射：相⼲散射：当X射线与原⼦中束缚较紧的内层电⼦相撞时，光⼦⽅向改变但能量⽆损失，产⽣波长不变的散射线，可发⽣⼲涉，是x射线衍射的基础。
材料分析方法期末总结
材料分析方法期末总结一、材料分析方法的基本步骤（一）收集材料：材料分析的第一步是收集与研究对象相关的材料。
这些材料可以通过文献研究、场地调查、访谈、问卷调查等方式获得。
（二）整理归类：将收集到的材料进行整理和归类，以便于后续的分析和解读。
可以根据材料的性质、内容、时间顺序等进行分类，使用标签、索引或数据库等工具进行管理。
（三）提取关键信息：在整理归类的基础上，将材料中的关键信息提取出来。
可以使用摘要、注释、标记等方式进行标记和记录，以便于后续的分析和比较。
（四）分析解读：根据研究的目的和问题，选择适当的分析方法进行材料的解读。
常见的分析方法包括：内容分析、比较分析、语境分析、符号分析等。
通过对材料中的信息进行分析和解读，可以发现其中的规律、关系和意义。
（五）总结归纳：在分析解读的基础上，对材料分析的结果进行总结和归纳。
可以从多个角度和维度出发，提炼出材料中的共性、差异和趋势。
确保总结归纳的结果能够回答研究问题，并对研究对象提出相应的结论。
二、材料分析方法的技巧和注意事项（一）注重材料的质量和可信度：在进行材料分析时，需要注重材料的质量和可信度。
应该选择权威的、可靠的和有代表性的材料进行分析，避免不合理偏见和无根据的推测。
（二）注重材料的多样性和综合性：材料分析应该尽量采用多种来源、多种类型、多个角度的材料进行分析。
通过综合分析不同类型的材料，可以获得更全面、准确和全面的研究结果。
（三）注重材料的背景和语境：在进行材料分析时，需要考虑材料的背景和语境。
包括作者的身份、时代背景、社会环境等因素，这些因素会对材料的解读和理解产生重要影响。
（四）注重材料的内外联系：对于同一研究对象的不同材料，应该注重它们之间的内在联系和外在联系。
内在联系指的是不同材料之间的关联和互动，而外在联系指的是材料与研究对象之间的关系。
通过分析内外联系，可以深入理解研究对象的本质和特点。
（五）注重材料的深度和广度：材料分析应该注重深度和广度的平衡。
(完整版)材料分析办法期末考试总结
(完整版)材料分析办法期末考试总结材料分析办法1．x射线是一种波长非常短的电磁波，具有波粒二相性，粒子性往往表现突出，故x射线也可视为一束具有一定能量的光量子流。
X射线有可见光无可比拟的穿透能力，可使荧光物质发光，可使气体或其它物质电离等。
2．相干散射：亦称经典散射，物质中的电子在X射线电场的作用下，产生强迫振动。
如此每个电子在各方向产生与入射X射线同频率的电磁波。
新的散射波之间发生的干涉现象称为相干散射。
3．别相干散射：亦称量子散射，X射线光子与束缚力别大的外层电子，或自由电子碰撞时电子获得一部分动能成为反冲电子，X射线光子离开原来方向，能量减小，波长增加。
4．汲取限：物质原子序数越大，对X射线的汲取能力越强；对一定的汲取体，X射线的波长越短，穿透能力越强，表现为汲取系数的下落，但随着波长的的落低，质量汲取系数并非呈延续的变化，而是在某些波长位置上忽然升高，浮现了汲取限。
5．荧光辐射：由入射X射线所激发出来的特征X射线称为荧光辐射（荧光X 射线，二次X射线）。
6．俄歇效应：由于光电效应而处于激发态的原子还有一种释放能量的方式，及俄歇效应。
原子中一具K层电子被入射光量子击出后，L层一具电子跃入K层填补空位，此刻多余的能量别以辐射X光量子放出，而是以另一具L层电子活的能量跃出汲取体，如此的一具K层空位被两个L层空位代替的过程称为俄歇效应，跃出的L层电子称为俄歇电子。
7．光电子：当入射光量子的能量等于或大于汲取体原子某壳体层电子的结合能时，此光量子就非常容易被电子汲取，获得能量的电子从内层溢出，成为自由电子，称为光电子。
原子则处于激发态，这种原子被入射辐射电离的现象即光电效应。
8．滤波片的作用：滤波片是利用汲取限两侧汲取系数差非常大的现象制成的，用以汲取别需要的辐射而得到基本单XXX的光源。
9．布拉格方程不过获得衍射的必要条件而非充分条件。
10．晶面（hkl）的n级反射面（nh nk nl），用符号（HKL）表示，称为反射面或干涉面。
材料分析方法复习总结
材料分析⽅法复习总结Ｘ射线：波长很短的电磁X射线的本质是什么？答：X射线是⼀种电磁波，有明显的波粒⼆象性。
特征Ｘ射线：是具有特定波长的X射线，也称单⾊X射线。
连续Ｘ射线：是具有连续变化波长的X射线，也称多⾊X射线。
荧光Ｘ射线：当⼊射的X射线光量⼦的能量⾜够⼤时，可以将原⼦内层电⼦击出，被打掉了内层的受激原⼦将发⽣外层电⼦向内层跃迁的过程，同时辐射出波长严格⼀定的特征X射线x射线的定义性质连续X射线和特征X射线的产⽣X射线是⼀种波长很短的电磁波X射线能使⽓体电离，使照相底⽚感光，能穿过不透明的物体，还能使荧光物质发出荧光。
呈直线传播，在电场和磁场中不发⽣偏转；当穿过物体时仅部分被散射。
对动物有机体能产⽣巨⼤的⽣理上的影响，能杀伤⽣物细胞。
连续X射线根据经典物理学的理论，⼀个带负电荷的电⼦作加速运动时，电⼦周围的电磁场将发⽣急剧变化，此时必然要产⽣⼀个电磁波，或⾄少⼀个电磁脉冲。
由于极⼤数量的电⼦射到阳极上的时间和条件不可能相同，因⽽得到的电磁波将具有连续的各种波长，形成连续X射线谱。
特征X射线处于激发状态的原⼦有⾃发回到稳定状态的倾向，此时外层电⼦将填充内层空位，相应伴随着原⼦能量的降低。
原⼦从⾼能态变成低能态时，多出的能量以X射线形式辐射出来。
因物质⼀定，原⼦结构⼀定，两特定能级间的能量差⼀定，故辐射出的特征X射波长⼀定。
4 简述材料研究X射线试验⽅法在材料研究中的主要应⽤精确测定晶体的点阵常数物相分析宏观应⼒测定测定单晶体位相测定多晶的织够问题．X 射线衍射分析，在⽆机⾮⾦属材料研究中有哪些应⽤？（8分）答：1. 物相分析：定性、定量2. 结构分析：a、b、c、α、β、γ、d3. 单晶分析：对称性、晶⾯取向—晶体加⼯、籽晶加⼯4. 测定相图、固溶度5. 测定晶粒⼤⼩、应⼒、应变等情况X射线衍射的⼏何条件是d、θ、λ必须满⾜什么公式？写出数学表达式，并说明d、θ、λ的意义。
（5分）答：. X射线衍射的⼏何条件是d、θ、λ必须满⾜布拉格公式。
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材料分析测试方法-----复习提纲
第一部分原子物理简介
1、原子态符号、L-S耦合、j-j耦合的计算
2、洪特定则、泡利原理、原子基态求解
3、多电子原子的磁矩、朗德因子的计算
第二部分、X射线衍射
1、布拉格方程的分析和计算
2、结构因子与系统消光规律的计算
第三部分、X射线光电子能谱、俄歇电子能谱、紫外光电子能谱
1、X射线光电子能谱分析的基本原理
XPS信息深度、XPS中的化学位移、化学位移现象起因及规律、多重分裂X射线光电子能谱的应用（图题）
2、俄歇电子能谱的基本原理
为什么H和He原子没有俄歇能谱？
俄歇电子能谱分析为什么是一种表面分析方法且空间分辨率高的能谱？
第四部分紫外可见光光谱、红外光谱、拉曼光谱、核磁共振波谱
1、分子吸收光谱跃迁类型、常用U-V光谱术语及谱带分类和特点
2、红外活性、常见基团特征吸收峰的位置、红外光谱在结构分析的应用（图题）
3、拉曼光谱的原理、拉曼位移、拉曼活性
斯托克斯线和反斯托克斯线、拉曼光谱与红外光谱比较
4、核磁共振基本原理、核磁共振的弛豫现象
核磁共振的化学位移、自旋偶合与自旋裂分现象
核磁共振图谱分析（图题）
第五部分组织形貌分析
1、扫描隧道显微镜（STM）的基本原理、原子力显微镜（AFM）的基本原理、
磁力显微镜（MFM）的基本原理。