真空镀膜机构成

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真空镀膜机相关知识简单介绍

真空镀膜机相关知识简单介绍真空镀膜机是一种常见的表面处理设备，用于给各种物体表面镀上不同的金属、化合物或其他材料，以改变物体的物理性质和化学性质。

本文将介绍真空镀膜机的基本原理、应用领域和主要组成部分。

基本原理真空镀膜机利用真空环境下金属或其他材料的蒸发性质，通过加热材料在真空室内蒸发，使蒸汽在真空室内扩散、沉积在物体表面，形成一层非常薄的镀层。

通俗地说，真空镀膜就是将一种材料“喷”到另一种材料上，形成一层新的物质。

在真空中，各种气体的压强和密度非常低，因此可以有效地防止被镀物表面吸收其它气体，避免对镀层的影响。

出于安全考虑，通常采用金属或化合物中的稳定元素进行镀膜。

应用领域真空镀膜机广泛应用于不同行业，包括但不限于：1.电子器件制造业。

例如，应用在LED、红外传感器、太阳能电池、太赫兹探测器、光电器件中等的金属薄膜制备。

2.制品装饰领域。

例如，应用于家具、灯饰、珠宝、手表、手机外壳等产品的表面镀膜。

3.化工和材料科学领域。

例如，应用在新材料的制备、研究和改性中。

主要组成部分真空镀膜机通常由以下几个主要组成部分构成：1.真空室：是镀膜的核心部分。

真空室通常采用不同材质，如不锈钢、玻璃、陶瓷、石英等。

真空室外设有加热器和冷却器以调节温度。

2.加热系统：主要用于加热镀膜材料并使其蒸发。

加热系统应具有精度、稳定性和安全性。

3.泵、管道和阀门：主要用于真空室内气体的排放和进出口控制。

4.控制系统：用于控制加热、通气和真空度等参数。

5.监控系统：用于监控真空度、温度、压力等参数。

通常采用传感器和计算机技术，在运行时实时监测并反馈给操作者。

总结真空镀膜机作为一种常见的表面处理设备，具有广泛的应用领域和多样化的镀膜材料选择。

运用科学的理论和技术，充分掌握真空镀膜机的基本原理和组成部分，可以达到更高的制备效率和更好的镀膜效果。

真空镀膜机的详细结构

真空镀膜机的详细结构
真空镀膜机是一种用于在物体表面镀膜的设备，其主要结构包括以下几个部分：
1.真空室：真空室是镀膜机的主体部分，通常采用不锈钢或铝合金材料制成。

它具有密封性能，能够创建高真空环境，以确保镀膜过程的稳定性。

2.真空系统：真空系统用于将真空室内的气体抽出，创建真空环境。

它通常包括真空泵、阀门、管道等设备。

真空泵可根据具体需要选择离心泵、分子泵等。

3.镀膜源：镀膜源用于产生镀膜材料蒸汽或离子束，以便将其沉积在物体表面。

常见的镀膜源包括电阻炉、电子束蒸发器、磁控溅射器等。

4.衬底架：衬底架是用来固定待镀膜物体的支撑结构，通常由不锈钢制成。

在镀膜过程中，衬底架可通过旋转或倾斜等方式使得物体的表面均匀接触镀膜材料。

5.电子控制系统：电子控制系统用于控制镀膜机的工作过程，包括控制真空系统、镀膜源等设备的开关和运行状态，以实现镀膜过程的自动化控制。

6.监测仪器：监测仪器用于实时监测镀膜过程中的关键参数，例如真空度、镀膜材料蒸汽的流量、表面温度等。

这些参数的监测有助于优化镀膜工艺，提高镀膜质量。

7.辅助设备：辅助设备包括气体供应系统、冷却系统、加热系
统等。

气体供应系统用于提供镀膜过程中所需的气体，例如惰性气体或反应气体。

冷却系统用于冷却真空室和镀膜源等部件，以防止过热。

加热系统用于加热衬底或镀膜源，以控制镀膜过程的温度。

以上是真空镀膜机的主要结构，不同型号和应用领域的镀膜机可能在结构和功能上有所差异。

Part_4_真空镀膜机结构图

dm300真空镀膜机实物图dm450c真空镀膜机实物图钟罩式真空镀膜机原理简图真空蒸发镀膜简介真空系统dm300镀膜机真空系统dm300镀膜机蒸发系统蒸发系统蒸发源蒸发源的形状如下图大致有螺旋式a篮式b发叉式c和浅舟式d等
真空镀膜机结构图
真空蒸发：在真空中把制作薄膜的材料加热蒸发，使其淀积在适当的表面上。 DM-300 真空镀膜机实物图
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
DM-450C 真空镀膜机实物图
钟罩式真空镀膜机原理简图
真空蒸发镀膜简介真空系统(DM—300 镀膜机)
真空系统(DM—300 镀膜机)
蒸发系统
蒸发系统
蒸发源蒸发源的形状如下图，大致有螺旋式(a)、篮式(b)、发叉式(c) 和浅舟式(d)等。
蒸发源

真空磁控镀膜设备构造讲义培训

真空磁控镀膜设备构造讲义培训1. 设备概述真空磁控镀膜设备是一种利用真空技术和磁控技术进行表面涂层处理的专用设备。

它广泛应用于电子、光学、玻璃、金属等领域，可以对材料表面进行镀膜、薄膜沉积、表面改性等工艺处理。

2. 主要构造真空磁控镀膜设备主要由真空腔体、磁控电源、靶材、镀膜物料、真空泵、加热电源、控制系统等组成。

3. 真空腔体真空腔体是整个设备的主体部分，用于容纳镀膜物料、靶材等，并提供真空环境。

其结构通常包括上、下真空室、衬底台、靶架等部分。

4. 真空泵真空泵是用于抽取腔体内气体，创建高真空环境的关键设备。

常见的真空泵包括机械泵、分子泵、离心泵等。

5. 磁控电源磁控电源是真空磁控镀膜设备的核心部件，用于提供磁场，控制镀膜材料的喷射和沉积。

其原理是通过电磁感应和电子束轰击使靶材产生等离子体，进行镀膜作业。

6. 靶材靶材是用于镀膜的材料，通常是金属或合金材料。

在真空腔体内，靶材受到电子束轰击后，产生等离子体，并通过磁场控制其喷射方向和沉积位置。

7. 加热电源加热电源用于在镀膜过程中对腔体内部进行加热或对靶材进行加热，以控制材料的沉积温度和均匀性。

8. 控制系统控制系统用于对整个设备进行温度、真空度、电源参数等方面的控制和监测，保证设备正常稳定运行。

以上就是真空磁控镀膜设备的主要构造讲义，通过对设备构造的理解，可以更好地掌握设备的使用和维护技能。

真空磁控镀膜设备构造讲义9. 镀膜物料镀膜物料是指需要进行表面处理的材料，可以是塑料、玻璃、金属等。

在真空磁控镀膜设备中，镀膜物料被放置在腔体中，通过真空环境和磁控技术进行表面涂层处理。

10. 工作原理真空磁控镀膜设备的工作原理主要包括以下几个步骤：a. 开始工作前，先将腔体内的空气抽空，创造高真空环境。

b. 加热物料和靶材，使其达到需要的温度。

c. 施加磁场，并通过磁控电源产生高能量电子束，轰击靶材，产生等离子体。

d. 控制等离子体的喷射方向和沉积位置，对物料表面进行镀膜处理。

镀膜机的工作原理及结构

镀膜机的工作原理及结构
镀膜机是一种用于在材料表面上涂覆薄膜的设备，常见的应用包括金属薄膜、陶瓷薄膜、塑料薄膜等。

镀膜机的工作原理和结构如下：
工作原理：
镀膜机的工作原理主要包括物理蒸发镀膜、化学气相沉积和物理气相沉积等方法。

其中，物理蒸发镀膜是通过将原料加热至其蒸发温度，然后使蒸汽在基材表面冷凝成薄膜；化学气相沉积是通过将气体或气体混合物引入反应室，通过化学反应在基材表面沉积出薄膜；物理气相沉积则是通过离子轰击或原子束轰击的方式将原料蒸发后的粒子沉积在基材表面形成薄膜。

结构：
镀膜机通常由真空腔体、加热系统、蒸发源、基材夹持系统和控制系统等部分组成。

真空腔体是镀膜过程中的主要工作室，用于保持一定的真空度；加热系统用于加热原料使其蒸发；蒸发源是原料的来源，可以是电子束、阴极喷射、弧放电等方式；基材夹持系
统用于固定基材并控制其位置，以便在表面沉积薄膜；控制系统则用于监控和调节镀膜过程中的各项参数，如温度、真空度、膜层厚度等。

总的来说，镀膜机通过控制原料的蒸发和沉积过程，使得原料在基材表面形成均匀、致密的薄膜，从而实现对材料表面性能的改善和功能的增强。

真空镀膜机原理(一)

真空镀膜机原理(一)真空镀膜机原理真空镀膜机是一种将金属或其他材料蒸发到基材表面的设备。

在这个过程中，物质以分子和原子的形式在真空环境中运动和沉积。

这个过程被称为真空镀膜，通常用于制造电子元器件、光学元件、半导体器件等领域。

真空镀膜机基本结构真空镀膜机由真空室、蒸发源、基板和真空泵等基本部件组成。

真空室是真空镀膜过程的核心部分，其中需要保持一个高度稳定的真空环境。

蒸发源是用来蒸发材料的部件，它在真空环境中升温以产生蒸汽，并在基板上沉积成薄膜。

真空泵则用于排放和维护真空室内的真空环境。

真空镀膜机工作原理真空镀膜机的工作原理可以分为三个步骤：真空、蒸发和沉积。

真空在真空镀膜机开始工作之前，需要将真空室内的气体排空，以创造一个良好的真空环境。

这个过程通常使用真空泵完成，将室内气体逐步抽走，降低压力至所需的真空度。

蒸发当真空环境达到要求时，蒸发源开始升温并蒸发材料。

材料的蒸汽随后沉积在基板上，形成薄膜。

这个过程需要注意蒸发速率、蒸发角度等参数，以确保沉积的薄膜均匀、致密。

沉积当沉积过程结束后，需要将蒸镀薄膜从真空室中取出。

这个过程需要注意保持真空度，并且在取出过程中防止污染。

真空镀膜机的应用真空镀膜机在电子元器件、光学元件、半导体器件等领域有着广泛的应用。

它可以应用于制造LED、太阳能电池、显示器件等各种光电产品，也可以为钢铁、塑料等材料表面进行镀膜，以增强它们的机械强度、化学稳定性等性能。

总结总之，真空镀膜机是一种非常重要的设备，应用广泛且功能强大。

通过深入了解其结构和工作原理，可以更好地理解它的应用范围和技术特点。

真空镀膜机的优点相较于传统镀膜技术，真空镀膜机具有以下几个优点：1.环保：真空镀膜机在膜形成过程中不需要添加额外的成分，只需要将材料升温进行蒸发。

因此，在操作过程中不会产生废气和废液，对环境友好。

2.均匀性好：真空镀膜机内的薄膜在沉积的过程中受到气体分子的影响小，因此沉积的薄膜均匀性好，种类、厚度等可控性高，容易实现高材质性能的镀膜。

《真空镀膜设备》课件

设备自动化与智能化
通过自动化和智能化的技术手段，降低人工成本和操作难度。
节能减排技术
研究节能减排技术在真空镀膜设备中的应用，以降低能耗和减少环境污染。
高效清洗与维护技术
开发高效、环保的清洗和维护技术，以降低设备维护成本和延长设备使用寿命。
感谢您的观看
THANKS
真空泵的工作原理
利用机械或物理的方法，从真空系统中排除气体分子。
真空度的测量与控制
使用真空计测量真空度，通过调节阀门或泵的工作状态来控制真空度。
真空室的清洁与维护
定期清洁真空室，确保其内部无残留物，以保持高真空度。
镀膜材料的蒸发与凝结
01
蒸发源的选择
根据镀膜材料的不同，选择相应的蒸发源，如电阻加热、电子束加热等。
设备。
高精度
能够实现纳米级薄膜厚度的控制。
高质量
镀膜过程中无杂质混入，薄膜纯度高。
长寿命
设备结构稳定，维护成本低。
真空镀膜设备的应用领域
01
02
03
光学领域
镀膜在眼镜、相机镜头、太阳能集热管等方面有广泛应用。
电子领域
镀膜在集成电路、电子元件、平板显示器等方面有重要应用。
装饰领域
镀膜在金属工艺品、高档家具、钟表等方面有装饰作用。
01
03
真空系统的维护和保养对于设备的正常运行至关重要，定期检查和清洁各部件，确保其正常运转，是保证
设备性能和延长使用寿命的关键。
04
为了保证设备的稳定运行和延长使用寿命，真空系统的设计和制造需要充分考虑材料的选择、密封性能以及各部件之间的连接与配合。
加热系统
加热系统是实现真空镀膜工艺的重要部分，其主要功能是为工件和/或镀膜材料提供所需的热量。

pvd镀膜机的结构

pvd镀膜机的结构
PVD镀膜机的结构主要包括以下几个部分：
1. 真空腔体：镀膜过程需要在高真空条件下进行，真空腔体是保持腔体内高真空状态的关键部分。

通常由不锈钢或其他耐腐蚀材料制成，内部经过特殊处理以避免气体泄漏。

2. 靶材供应系统：靶材是用来产生蒸发物或离子束的来源。

靶材供应系统通常由加热器、靶材支架和传感器等组成，用于控制靶材温度和靶材表面的蒸发速率。

3. 辅助加热系统：在一些特殊情况下，需要额外的加热来提高镀膜效果。

辅助加热系统一般由加热器和加热控制装置组成，能够提供额外的加热能量。

4. 基板夹具：用于固定待镀膜的基板，通常由夹具架和夹具组成。

夹具要具有良好的热传导性能，以便将加热能量均匀传递至基板。

5. 抽气系统：用于将真空腔体中的气体抽除，维持高真空度。

一般包括机械泵、分子泵和扩散泵等多个泵的组合。

6. 控制系统：用于监测和控制整个镀膜过程。

包括温度控制、真空度监测、靶材蒸发速率控制等。

有些高级的PVD镀膜机还配备了自动化控制系统，能够实现自动化生产。

以上是一般PVD镀膜机的基本结构，不同型号和用途的镀膜机可能会有所不同。

真空镀膜机的详细结构

真空镀膜机的详细结构高真空镀膜机，镀膜机是目前制作真空条件应用最为广泛的设备。

其相关组成及各部件：机械泵、增压泵、油扩散泵、冷凝泵、真空测量系统.下面本人详细介绍各部分的组成及工作原理。

一、真空主体——真空腔根据加工产品要求的各异，真空腔的大小也不一样，目前应用最多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔体由不锈钢材料制作，要求不生锈、坚实等，真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。

二、辅助抽气系统此排气系统采用“扩散泵+机械泵＋罗茨泵＋低温冷阱＋polycold”组成排气流程为：机械泵先将真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空状态，为扩散泵后继抽真空提供前提，之后当扩散泵抽真空腔的时候，机械泵又配合油扩散泵组成串联，以这样的方式完成抽气动作。

排气系统为镀膜机真空系统的重要部分，主要有由机械泵、增压泵（主要介绍罗茨泵）、油扩散泵三大部分组成。

机械泵：也叫前级泵，机械泵是应用最广泛的一种低真空泵，它是用油来保持密封效果并依靠机械的方法不断的改变泵内吸气空腔的体积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀从而获得真空。

机械泵有很多种，常用的有滑阀式（此主要应用于大型设备）、活塞往复式、定片式和旋片式（此目前应用最广泛，本文主要介绍）四种类型。

机械泵常常被用来抽除干燥的空气，但不能抽除含氧量过高、有爆炸性和腐蚀性的气体，机械泵一般被用来抽除永久性的气体，但是对水气没有好的效果，所以它不能抽除水气。

旋片泵中起主要作用的部件是定子、转子、弹片等，转子在定子里面但与定子不同心轴，象两个内切圆，转子槽内装有两片弹片，两弹片中间装有弹簧，保证了弹片紧紧贴在定子的内壁。

它的两个弹片交替起着两方面的作用，一方面从进气口吸进气体，另一方面压缩已经吸进的气体，将气体排出泵外。

转子每旋转一周，泵完成两次吸气和两次排气。

当泵连续顺时针转动时，旋片泵不断的通过进气口吸入气体，又从排气口不断的排出泵外，实现对容器抽气的目的。

真空镀膜机的工作原理

真空镀膜机的工作原理
真空镀膜机是一种用于在材料表面上形成薄膜的设备，其工作原理是通过在真空环境中对材料施加薄膜材料源的热蒸发或离子轰击等方法，使薄膜材料原子或分子沉积在材料表面上。

具体来说，真空镀膜机通常由真空腔体、薄膜材料源、辅助设备和控制系统等组成。

首先，将待镀膜的材料放置在真空腔体中。

然后，通过泵系统将腔体内的气体抽除，建立起较高的真空环境。

接下来，通过加热薄膜材料源，使其发生热蒸发，薄膜材料的原子或分子进入气相。

这些原子或分子被真空腔体内的气体分子所加速，并沿着各种方向运动。

在运动过程中，部分薄膜材料的原子或分子会与待镀膜表面上的材料原子或分子发生碰撞，并沉积在待镀膜表面上，形成薄膜层。

同时，通过一系列的器件，如旋转台、电弧、离子镀等，可以调节薄膜层的均匀性、厚度和结构性质。

最后，当薄膜层达到预设的厚度或需求后，将停止薄膜材料源的加热，并将真空腔体重新充气，将持续维持真空的状态恢复为大气环境。

完成整个镀膜过程后，取出待镀膜材料，即可得到具有所需性质的薄膜材料。

总而言之，真空镀膜机通过在真空环境中对材料表面进行薄膜材料的沉积，达到改善材料性能、保护材料表面和实现其他功能的目的。

真空磁控镀膜设备构造讲义培训

真空磁控镀膜设备构造讲义培训一、概述真空磁控镀膜设备是一种先进的表面处理技术，通过在真空环境下利用磁场和电场对材料表面进行镀膜，可以改善材料的表面性能。

本文档将介绍真空磁控镀膜设备的构造和操作原理，帮助读者了解该设备的基本原理和使用方法。

二、设备构造真空磁控镀膜设备由以下几个主要部分组成：1. 真空室真空室是整个设备的核心部分，用于创造和维持一个低压、高真空的环境。

它通常由不锈钢制成，具有良好的密封性能。

真空室内部设有不同功能的连接口，用于连接其他设备和通入所需的气体。

2. 真空泵系统真空泵系统用于抽取真空室内的气体，以创建和维持高真空环境。

常见的真空泵包括机械泵、扩散泵和分子泵等。

不同类型的真空泵可根据需要组合使用，以达到所需的真空度。

3. 反应腔体反应腔体是放置待处理材料的空间，通常由不锈钢制成。

在镀膜过程中，材料将被放置在反应腔体内，并通过外部的电极连接到高频电源。

4. 高频电源高频电源用于提供镀膜过程中所需的工作电场。

它产生高频电场，使待处理材料表面上的离子得到加速，从而实现镀膜效果。

高频电源通常由高频发生器、匹配箱和功率放大器等组成。

5. 磁控系统磁控系统通过施加外部磁场，对待处理材料表面上的离子进行控制。

它通常由可调磁铁和磁场感应探针等组成。

磁控系统的调节可以影响镀膜过程中的离子运动轨迹，从而调节镀膜膜层的均匀性和性能。

6. 控制系统控制系统用于监测和控制整个设备的运行状态，通常由计算机和相关软件组成。

操作人员可以通过控制系统对设备进行操作、参数设定和数据记录等操作。

三、操作原理真空磁控镀膜设备的操作原理如下：1.将待处理的材料放置在反应腔体内，关闭真空室。

2.打开真空泵系统，抽取真空室内的气体。

3.当达到所需的真空度后，打开高频电源，产生工作电场。

4.同时打开磁控系统，施加外部磁场。

5.离子在电场和磁场的作用下，被加速并聚集到材料表面上，形成薄膜。

6.控制系统监测镀膜过程中的各项参数，并实时显示和记录数据。

真空镀膜机的工作原理

真空镀膜机的工作原理真空镀膜机是一种常用于表面处理和镀膜工艺的设备，它通过在真空环境下对物体表面进行处理或镀膜，实现改变其物理、化学性质的目的。

那么，真空镀膜机的工作原理是什么呢？我们需要了解真空镀膜机的基本构成。

一般而言，真空镀膜机主要由真空室、真空系统、镀膜源、控制系统等组成。

其中，真空室是用于容纳待处理或待镀膜物体的密封腔体，真空系统是用于建立和维持真空环境的装置，镀膜源是产生镀膜物质的设备，控制系统则用于控制整个镀膜过程。

在真空镀膜机的工作过程中，首先需要将待处理或待镀膜的物体放入真空室内，然后通过真空系统将真空室内的气体抽取出来，以建立起所需的真空环境。

在真空环境下，物体表面的气体分子数量较少，从而可以避免气体分子对物体表面的干扰。

同时，通过控制真空度的大小，可以对物体表面的清洁度和镀膜质量进行控制。

接下来，需要在真空镀膜机中加入镀膜源。

镀膜源可以是固体材料、液体材料或气体材料，根据需要选择不同的镀膜源。

当镀膜源加热到一定温度时，其内部的原子或分子会蒸发或溅射出来，并在真空室内形成薄膜。

这些蒸发或溅射出来的原子或分子会沉积在物体表面上，从而实现表面的改性或镀膜。

在整个镀膜过程中，控制系统起着至关重要的作用。

控制系统可以通过控制真空度、镀膜源的加热温度、镀膜时间等参数，来调节镀膜的厚度、均匀度和质量。

同时，控制系统还可以监测和反馈真空度、温度等参数的变化，以保证镀膜过程的稳定性和可控性。

需要注意的是，真空镀膜机的工作原理还涉及到一些其他因素的影响。

例如，物体表面的清洁度对镀膜质量有着重要的影响，因此在镀膜前需要对物体进行清洗处理。

此外，镀膜源的种类和性质也会对镀膜效果产生影响，因此需要根据具体需求选择合适的镀膜源。

总结起来，真空镀膜机的工作原理是通过在真空环境下对物体表面进行处理或镀膜，实现改变其物理、化学性质的目的。

通过控制真空度、镀膜源的加热温度、镀膜时间等参数，可以调节镀膜的厚度、均匀度和质量。

镀膜机的原理和系统

镀膜机的原理和系统
镀膜机是一种利用蒸发或溅射技术对表面进行涂覆的设备，主要被广泛应用于电子、光学、太阳能等领域。

其原理是通过在真空环境下，利用高能电子轰击等方法将固态材料转化为气态，然后将其沉积在基底表面，形成一层薄膜。

其系统主要分为以下几个部分：
1.真空系统：确保膜层生长过程在高真空环境下进行，避免空气、氧气等气体的影响。

2.加热系统：通过对靶材进行加热，使之发生升华或溅射，从而将其转化为气态，进入沉积室进行沉积。

3.靶材系统：靶材是用于制备薄膜的材料。

常用的靶材材料有铝、银、金等金属材料，以及氧化锌、铝氧化物等陶瓷材料。

4.基底系统：基底是在沉积过程中支撑薄膜生长的基础。

常用的基底材料有玻璃、硅、聚酰亚胺等。

5.监测系统：用于监测生长过程中的沉积速率、薄膜厚度和组成等物理和化学参数。

常用的监测系统包括石英晶体微天平、光学监测器等。

6.控制系统：用于控制真空度、加热温度、靶材转速、沉积速率等系统参数，并实时调节以达到精确的薄膜制备要求。

总的来说，镀膜机的原理和系统设计复杂，需要各个系统有机协调，才能实现高效、精确、稳定的薄膜制备过程。

真空镀膜机组成结构

真空镀膜机组成结构真空镀膜机是一种先进的表面处理设备，主要用于在各种材料表面上形成薄膜覆盖层，以增强材料的性能和改善外观。

它由多个部分组成，包括主腔体、抽气系统、镀膜源、辅助设备等。

首先，主腔体是真空镀膜机的核心部分，它是一个密封的空间，用于创建和维持真空环境。

主腔体通常由不锈钢材料制成，具有良好的密封性能和抗腐蚀性能。

在主腔体内部，还会安装电加热器和冷却系统，以控制腔体的温度，并确保镀膜过程的稳定性。

其次，抽气系统是真空镀膜机的重要组成部分之一。

它由真空泵和配套的气体管道组成，用于将腔体内的气体抽出，建立所需的真空度。

真空泵可以根据需要选择不同类型，如旋片式真空泵、根式真空泵等。

抽气系统的性能直接影响到真空镀膜的效果和速度，因此选择合适的真空泵非常重要。

再者，镀膜源是真空镀膜机的另一个关键部分。

它是用于蒸发或溅射目标材料的装置，将材料的原子或分子释放到真空腔体中，在工件表面上形成薄膜层。

镀膜源通常由加热器、坩埚和材料供给系统组成。

不同的材料有不同的蒸发或溅射方式，常用的镀膜源包括电子束蒸发源、磁控溅射源等。

最后，辅助设备也是真空镀膜机不可或缺的一部分。

它包括真空度检测器、温度控制器、压力控制器等。

真空度检测器用于实时监测和控制真空腔体内的气体压力，确保所需的真空度得到维持。

温度控制器用于实时监测和控制腔体的温度，保证镀膜过程的稳定性。

压力控制器则用于调节进气量，平衡腔体内外压力差。

综上所述，真空镀膜机是一个复杂的系统，由多个部分精密组合而成。

每个部分都起着重要的作用，共同完成材料表面镀膜的任务。

在使用真空镀膜机时，需要对各个部分进行细致的调试和控制，以确保镀膜效果的质量和稳定性。

同时，对真空镀膜技术的深入了解和不断的研发也是至关重要的，以不断推动这一领域的发展和应用。

镀膜机工作原理

镀膜机工作原理
镀膜机是一种用于在材料表面上涂覆薄膜的设备，它在各种工业领域中都有着
广泛的应用。

镀膜技术可以改善材料的表面性能，增加其耐磨性、耐腐蚀性和光学性能，因此受到了广泛的关注和应用。

在本文中，我们将介绍镀膜机的工作原理，从而更好地理解这一技术的应用。

镀膜机主要由真空腔体、镀膜材料、加热系统、抽气系统和控制系统等部分组成。

在进行镀膜过程时，首先将待镀膜的材料放置在真空腔体中，然后通过抽气系统将腔体内的空气抽出，形成高真空环境。

接下来，通过加热系统对镀膜材料进行加热，使其达到一定温度，从而使镀膜材料蒸发并沉积在材料表面上。

控制系统则用于控制整个镀膜过程的参数，确保镀膜的均匀性和稳定性。

在镀膜机工作时，主要有两种镀膜方式，分别是物理气相沉积和化学气相沉积。

物理气相沉积是指利用高能粒子轰击材料表面，使其表面原子或分子蒸发并沉积在基底表面上。

而化学气相沉积则是通过在真空腔体中引入一定的气体，使其在表面反应生成所需的薄膜材料，然后沉积在基底表面上。

镀膜机的工作原理可以简单概括为，首先，将待镀膜的材料放置在真空腔体中，然后通过抽气系统将腔体内的空气抽出，形成高真空环境。

接下来，通过加热系统对镀膜材料进行加热，使其达到一定温度，从而使镀膜材料蒸发并沉积在材料表面上。

最后，控制系统用于控制整个镀膜过程的参数，确保镀膜的均匀性和稳定性。

总的来说，镀膜机是一种利用真空环境下的物理或化学方法，将薄膜材料沉积
在材料表面上的设备。

通过对镀膜机的工作原理进行了解，可以更好地应用和控制这一技术，满足不同材料的表面处理需求。

镀膜机的基本结构课件

松开此螺丝调节犄角平行度
标准
松开螺丝后犄角下方垫铜片，确保犄角的水平
标准
镀膜前电子枪注意事项
确认坩埚挡板高度是否80mm
坩埚挡板打开角度90
80mm
左右
坩埚挡板架子需要包铝箔
镀膜之前用吸尘器吸
铝箔包住
取灰尘，确保真空室
内部清洁
挡板角度打开90左右
6. 离子源的作用
监控片玻璃
10. 加热丝
温度对膜层原子或分子提供额外能量补充，在膜层折射率、应力、附着力、硬度和不溶性都会因基片温度的不同而有较大差异
侧壁加热
升温优点：
1. 排除基片表面的剩余气体分子，增加基片与沉积分子之间的结合力
2. 促使膜层物理吸附向化学吸附转化，增加分子之间相互作用，使膜层紧密，附着力增加，提高机械强度
一、真空腔体
1. 观察基板窗口
观察基板窗口观察蒸发源
成膜时通过观察窗可了解真空室内的情况
2. 遥控盒功能
MASK
NO下降、EX抬起
SHUTTER
IB:离子源挡板开关
EB1:电子枪1挡板开关
EB2:电子枪2挡板开关
HEARTH
HEARTH1:左坩埚台旋转
HEARTH2:右坩埚台旋转
投光器用的电源。
在前面表示Lamp 电压、电流、使用时间。
从分光器发出的光量电信号、从投光器发出的参考信号的光量値（电圧）输送到PC。
把光投到监控玻璃、接受反射光。
[HOM2-P]
[HOM2-D1]
[HOM2-U14]
离子源总装图
RFN-3A Neutralizer

第八章真空镀膜机的设计PPT课件

▪ （3）单靶——中心圆柱靶，上下圆靶（方靶），长方靶伸入圆筒中。
▪ （4）多靶——多个圆柱靶平行（如平板玻璃镀膜机）或环绕排列（如太阳能集热管镀膜机）。
▪ 多弧靶在圆柱面螺旋排列。中心圆柱靶+两侧矩形靶。
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8.6真空系统
▪ （1）泵——扩散泵+旋片泵；分子泵+旋片泵；离子泵+分子泵+旋片泵；
第八章真空镀膜机设计
The Design of Vacuum Coating Equipments
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8.1真空设备设计原则
▪ ⑴先功能，后结构。先给出指标参数、生产要求、功能
▪ ⑵先核心，后辅助。由内向外。先决定靶尺寸、靶基距
▪ ⑶先局部，后整体。再由整体，定局部。 ▪ ⑷先设计，后校核。由粗到细。
▪ 定速运行——交流电机+减速器 ▪ 调速要求——直流电机+减速器、步进电
机； ▪ 皮带轮传动可防卡死 ▪ 功耗计算
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8.4工件架 ------- 5挡板机构
▪ 作用是控制蒸发 ▪ （多靶时）防各靶间相互污染
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8.4工件架 ------- 6 设计要求
▪ 强度要求
▪ 运动要求灵活性（转动轻快，无卡滞，无噪音；不加润滑剂）
▪ （2）阀——高阀、预抽阀、前级阀、泵口压差阀、放气阀、节流阀，闸阀；
▪ （3）管——主管路、预抽管路、前级管路；冷阱
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8.7供电系统
▪ 蒸发镀膜用大电流的产生与输送 ▪ 大电流三相平衡变压器，送电汇流排，水
冷铜电极、铜坩埚， ▪ 动静电接头：电卡头、电触头—铜钥匙、
插板式、花瓣式、铜箔弹簧 ▪ 中频感应电源（8000Hz）及电容补偿，

论述真空镀膜机的原理及故障排除策略

论述真空镀膜机的原理及故障排除策略1、引言随着经济的不断的发展，电子工业也随之不断的发展，因此对于工业的要求也在不断的提高，对于主要应用在电子工业中的真空镀膜机而言，真空镀膜机自身的性能也在不断的提升。

设备的使用有时候会出现某些故障，而对故障的及时排除不但可以缩短维修的时间，同时对类似的设备的排除工作提供便利。

2、真空镀膜机简介2.1真空镀膜机结构本文主要介绍DMF-700真空镀膜机的结构和特点，DMF-700真空镀膜机是一种大型的真空镀膜的设备。

DMF-700真空镀膜机是在以前的镀膜机的基础上进行改进而来。

DMF-700真空镀膜机主要是由真空系统、机械系统以及电子束蒸发系统为主要部分构建而成。

三大系统中的电子束蒸发系统又是主要由纵向以及横向扫描单元和电子枪的灯丝变压和高压电源组合而成。

2.1.1基于高压电源的电子枪设备：三相变压器电路为电子枪的使用提供了它所需要的直流的电压，在正端是和复合装置相连，可以到达接地的目的，而相较于正端的接地，负端和电子枪中的电子枪灯丝相连接。

以此来组成回路。

2.1.2纵向/横向扫描单元：两种扫描单元都可以提供三角波扫描信息，主要的特点是三角波扫描信号是对称发生的。

当它和比较稳定的电源相配合的时候就会对电子枪提供扫描电流，从而可以达到对电子束的控制。

2.2真空镀膜机的原因真空镀膜机是用于真空的条件下，采用了电阻式的蒸发源的形式，来对石英片蒸镀一层可以导电的导电膜，导电膜通常使用的是银，这样就会形成电极，以便于可以作为各种不同频率的振荡器。

2.3真空镀膜机的主要特点：2.3.1真空镀膜机在整个镀膜的过程中都是处于在高真空、恒温以及设备的自动控制中进行处理的，在这种的环境中，可以保证元器件所镀的膜的均匀性、一致性以及整个膜层的牢固度，保证了膜的整体的质量。

2.3.2设备在连续的高温烘烤的环境状态中，机器中的十八个工作的工位夹会连续的进行六十到一百二十度的持续翻转，工作夹的准确定位、没有噪音的产生以及不会发生卡滞的现象，会在一定的程度上确保蒸镀上的晶片上每个被镀的表面上都有均匀、牢固的膜层。

真空镀膜机技术指标

真空镀膜机技术指标用途：本产品主要用于光学零件真空制备激光膜镀膜主要结构：真空室体、真空获得系统、工件转动系统、水冷却系统、气动系统、蒸发镀膜系统、电器控制系统等组成1.真空室：1.1.内腔尺寸：φ800×1000mm 。

蒸发室与抽气室整体连接。

底板为22mm，壁厚为5mm。

1.2.形式：立式前开门，室体门有装饰面板。

1.3.材料：优质不锈钢U304材料；外壁通冷却水。

1.4.防污板：真空室内衬优质不锈钢材料防污板，装卸简单方便（二套）。

1.5.观察窗：门上部斜趋式窗口一个，门下部中央设观察窗口一个。

窗口为直接水冷式，装备有耐高温玻璃、防辐射玻璃和防强光防护镜。

1.6.门上配备高压保护装置及开门限位装置。

2.真空系统：2.1.极限真空：2.8×10－4Pa。

2.2.恢复真空时间：大气→4×10－3Pa≤15min。

2.3.漏气率：在极限真空达到后关闭所有阀门,一小时真空度应≤3×10-1Pa。

2.4.测试方法：按照GB11164真空镀膜机通用技术条件测试，测试仪器为ZDF－Ⅲ型数字真空计。

2.4.1.真空度检测位置在抽气室侧面及在蒸发室电子枪上方200mm处。

2.4.2.室温环境应为真空室清洁、蒸发室无样品、镀膜材料。

2.4.3. 蒸发室烘烤后、经干燥氮气充气。

2.4.4.低真空测量：ZJ-25型电阻规，测量范围1×103 Pa～10-1Pa。

2.4.5.高真空测量：ZJ-27型电离规，测量范围10Pa～10-5Pa。

2.4.6. 测量规管加金属保护套。

2.5.真空系统配置：－630扩散泵+2X－70机械泵（TK－630扩散泵抽速12000L/S， 2X－70机械泵抽速70L/S）。

2.5.2.为了有效防止扩散泵返油，在泵口上方配紧密型水冷阱。

2.5.3.在抽气口设置百叶窗挡板和防滑片栅网，拆卸清洗方便2.6.真空系统测量点：电阻规二点、电离规一点。