【CN109906890A】一种西红柿高效设施栽培方法【专利】

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910240475.0(22)申请日 2019.03.27

(71)申请人 山东博华高效生态农业科技有限公

司

地址 256500 山东省滨州市博兴县吕艺镇(72)发明人 薛鹏飞　李小艳　顾强　王程璐　

孟娟　孔德强　徐会连　(74)专利代理机构 济南舜源专利事务所有限公

司 37205

代理人 赵斌　苗峻(51)Int.Cl.

A01G 22/05(2018.01)A01G 24/20(2018.01)A01G 24/22(2018.01)A01G 24/25(2018.01)

A01G 24/27(2018.01)A01G 24/30(2018.01)A01C 21/00(2006.01)C05F 17/00(2006.01)C05G 3/00(2006.01)C12N 1/20(2006.01)C12N 1/16(2006.01)C12R 1/01(2006.01)C12R 1/04(2006.01)C12R 1/645(2006.01)

(54)发明名称

一种西红柿高效设施栽培方法(57)摘要

本发明涉及农业设施栽培领域，具体涉及一种西红柿高效设施栽培方法。该方法根据西红柿的生长习性和温度对西红柿生长的影响，结合中国的古法农业和现代农业技术，发明了一种西红柿高效设施栽培方法，该方法能够显著提高西红

柿品质和质量。

权利要求书2页 说明书7页

CN 109906890 A 2019.06.21

C N 109906890

A

权　利　要　求　书1/2页CN 109906890 A

1.一种西红柿栽培专用基质，其特征在于，其制备方法如下：

1)发酵剂制备：按照常规方法将EM菌进行厌氧发酵，扩繁增殖后得到发酵剂A；

2)一次发酵：按重量份取西红柿秸秆50-60份，玉米秸秆10-20份，食用菌菌糠10-20份，椰糠10-20份，稻壳5-10份，尿素2-5份混合后，加水调节含水量至35-45％，得到发酵原料；将发酵原料按照层式建堆发酵4-6个月得一次发酵产物；

3)二次发酵：将一次发酵产物进行粉碎，筛分，使物料细度≤0.5cm；然后按照重量份将筛分后的一次发酵产物85-95份与发酵剂A5-10份进行混合，再加入该混合料总质量2-5％的糖蜜和2-5％的EM菌，并用水调节含水量到35-40％，然后建成宽1.5-2m，高0.8-1m，长度任意的条形堆进行好氧堆肥发酵10-15天；得到西红柿专用栽培基质。

2.根据权利要求1所述的西红柿栽培专用基质，其特征在于，发酵剂A按照以下方法进行制备：

(1)按照重量份取米糠55-65份，豆粕15-20份，麦麸15-20份进行混合，然后加入混合料总质量1-2％的糖蜜和2-5％的EM菌，混合均匀，加水调整水分至30％-40％，装入发酵桶中；其中糖蜜为普通市售糖蜜，有机质含量为50％以上；

(2)将发酵桶密封，35-40℃条件下厌氧发酵24-36h；然后转到室外，常温厌氧发酵7-10天，检测发酵物料，其pH值在3-4之间，有明显醇香味，此时发酵完成，即得到发酵剂A。

3.根据权利要求1所述的西红柿栽培专用基质，其特征在于，步骤2)所述的层式建堆具体为每层发酵原料上面覆盖一层发酵剂A，3-4层发酵原料后，在最后一层发酵剂A上面覆盖9-12cm厚的细沙土，发酵原料堆宽为1.5-2m，长度任意，发酵原料每层高度为40-50cm，每层发酵剂A厚度为0.5-1.5cm。

4.根据权利要求1所述的西红柿栽培专用基质，其特征在于，根据权利要求1所述的西红柿栽培专用基质，其特征在于，步骤3)中好氧堆肥发酵堆内温度上升至60℃以上时需进行翻堆。

5.一种西红柿高效设施栽培方法，其特征在于，该栽培方法具体包括：

1)西红柿栽培设施建设

(1)水循环设施建设：选用上宽下窄，纵切面为梯形的基质槽，在基质槽的内壁两侧及底部加装导热管；

(2)顶芽送风装置建设

在基质槽的正上方，安装送风管，在送风管上分装小送风口；保证每一棵西红柿顶芽可以接受到热风刺激，使西红柿顶芽区温度可控；

2)苗期管护：

(1)缓苗期：将西红柿幼苗栽植到改装基质槽的基质土中，定植完成后浇定植水，启动水循环设施，通过水循环加热保证基质土温度在20-25℃之间；

(2)缓苗后到第一穗果开花前：缓苗后，使用酵素菌肥每隔15-20天进行叶面喷施；

(3)第一穗果坐果后：同时开启水循环设施和顶芽送风装置，使基质土温度在20-25℃之间，送风温度为20-25℃，每隔2天开启1次，每次持续时间为6h；

(4)适时采收：待西红柿转色完成后，按照上市需求进行采收。

6.根据权利要求5所述的西红柿高效设施栽培方法，其特征在于，所述的基质槽规格为35-40cm*25-30cm*30-35cm，厚度为0.1-0.3cm。

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