磁控溅射技术及其发展

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磁控溅射技术及其发展

作者：李芬， 朱颖， 李刘合， 卢求元， 朱剑豪， LI Fen， ZHU Ying， LI Liu-he， Lu Qiu-yuan， ZHU Jian-hao

作者单位：李芬,朱颖,李刘合,LI Fen,ZHU Ying,LI Liu-he(北京航空航天大学,机械工程及自动化学院,北京,100191)， 卢求元,朱剑豪,Lu Qiu-yuan,ZHU Jian-hao(香港城市大学,应用物理及材

料系,香港)

刊名：

真空电子技术

英文刊名：VACUUM ELECTRONICS

年，卷(期)：2011(3)

被引用次数：53次

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