一种太阳能硅片清洗剂的制备方法
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（３）将溶液 Ａ与溶液 Ｂ混合搅拌均匀 ，即得到 实 验用 清洗剂 。
２０１２年第 ４期 Fra bibliotek王 亚妮等 ：一种 太阳能硅 片清洗剂 的制备方 法
表 １ 实验 中优 选 的 几 组 配 方
Ｔａｂ．１ Ｏｐｔｉｍｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ ｓｅｖｅｒａｌ ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｉｎ ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔａｌ
在光 伏产 业 ，硅 片 生产 过 程 中需 将硅 片 进行 清 洗 ，才能生产出合格产品。太阳能硅片表面污染物 主要 包 括 油 脂 、松 香 、环 氧 树 脂 、聚 乙 二 醇 等 有 机 物 ，尘 埃 及 其 它 颗粒 污染 和金 属 离 子 玷 污 等 ，它 们 通常以物理 吸附和化学 的方式存在于硅片的表 面 或硅 片 的 自身 氧化 膜 中。这些 杂 质严重 影 响着 电池 片 的性 能 、可 靠性 和 成 品率 。硅 片 清洗 要求 既 能 去 除各 类杂 质又 不破 坏硅 片…。
关键 词 ：太阳能硅 片 ；表面活性剂 ；清洗剂
中 图 分 类 号 ：ＴＮ３０５．２
文 献 标 识 码 ：Ｂ
Ａ ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ ｔｈｅ ｓｏｌａｒ ｓｉｌｉｃｏｎ ｗａｆｅｒ ｃｌｅａｎｉｎｇ ａｇｅｎｔ
Ｗ ＡＮＧ Ｙａ—ｎｉ，ＬＩＵ Ｊｕｎ，ＬＩ Ｆｅｎｇ，ＸＵ Ｊｕｎ—ｘｕｎ
ｐｌｉｅｄ ｔｏ ｃｌｅａｎ ｔｈｅ ｓｕｒｆａｃｅ ｏｆ ａ ｓｏｌａｒ ｓｉｌｉｃｏｎ ｗａｆｅｒ．Ｔｈｅ ｃｌｅａｎｉｎｇ ａｇｅｎｔ ｉｓ ｍａｄｅ ｕｐ ｏｆ ｎｏｎ—ｉｏｎｉｃ ｓｕｒ ｆａｃｔａｎｔ ａｎｄ ａｎ— ｉｏｎｉｃ ｓｕｒｆａｃｔａｎｔ．Ｉｔｓ ｓｏｌｕｔｉｏｎ ｉｓ ａｌｋａｌｉｎｅ，ｉｔ ｄｏｅｓｎ’ｔ ｃｏｎｔａｉｎ ｏｒｇａｎｉｃ ｓｏｌｖｅｎｔｓ，ｎｏ ｉｒｒｉｔａｔｉｎｇ ｏｄｏｕｒ，ｃｈｅａｐｅｒ ａｎｄ ｇｏｏｄ
１ 实验部分
１．１ 主 要 原 材 料 脂肪醇 聚氧 乙烯醚 ；６５０１壬基酚 聚氧 乙烯醚 ；十
二烷基苯磺酸钠 ＬＡＳ；三乙醇胺油酸皂 ；三聚磷酸钠； ＮａＯＨ，以上均为工业品。乙二胺 四乙酸二钠 （Ｃ．Ｐ．）。
１．２ 清洗剂的配方实验
综合表 １分析 ，最终确定 ３ 为最佳配方。 １．３ 清洗剂配制步骤
（１）将 一 定 量 的螯 合 剂 乙 二 胺 四 乙酸 二 钠 、十 二烷基苯磺酸钠 、三聚磷酸钠 、ＮａＯＨ及其它无机助 剂等溶于适量 的去离子水 中 ，５０～６０℃加热搅拌均 匀 ，使其充分溶解 ，制成溶液 Ａ；
（２）将 一定 量 的脂 肪 醇 聚 氧 乙 烯 醚 、壬 基 酚 聚 氧乙烯醚 、６５０１、三 乙醇胺油酸皂等溶于适量的去 离子水中，５０ ６０％￣Ｉ１热搅拌均匀 ，制成溶液 Ｂ；
（Ｓｈａａｎｘｉ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｅｓｉｇｎ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ ｏｆ Ｐｅｔｒｏｌｅｕｍ ａｎｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔ￣，Ｘｉ ａｎ ７１００５４，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ａ ｗａｔｅｒ－ｂａｓｅｄ ｃｌｅａｎｉｎｇ ａｇｅｎｔ ｉｓ ｐｒｅｐａｒｅｄ ｆｏｒ ｃｏｍｍ ｅｒｃｉａｌ ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ ｏｆ ｓｏｌａｒ ｓｉｌｉｃｏｎ ｗａｆｅｒ，ｉｔ ｉｓ ａｐ－
本 实 验 目的在 于研 制一 种 碱性 的 、不 含 有机 溶 剂 、无刺激性气 味 、成本低且清洗效 果相当或优于
收 稿 日期 ：２０１２—０３—０８ 作者简介 ：王亚妮（１９８０一），女 ，工程师 ，主要从 事太阳能硅片切削液 、
清洗液及砂浆 回收方面的研究 。
传统清洗方法 的太 阳能硅片水基专用清洗剂。该清 洗 剂 以非 离 子 表 面 活性 剂 和 阴离 子 表 面 活性 剂 为 主剂 ，清洗方法具有操作方便 、成本低 、无毒 、对皮 肤 无腐 蚀 、对 人体 无危 害 、对 环境 无污染 等优 点 。
硅片清洗技术 的发展大致可分为 ４个阶段 ：第 １阶 ，段 建 立 了最初 的化 学 和机 械抛 光 ，但 由于处 理 不当 ，往往会造成金属杂质 的重新沉淀 以及金属杂 质的再 次污染 ；第 ２阶段 ，１９６１—１９７１年期间 ，使用 最 初 的 ＲＣＡ一１清 洗剂 ，该 清洗 技术 的发 展是 清 洗 技 术 的 历 程碑 ；第 ３阶 段 ，１９７２～１９８９年 期 间 ，这 一 阶段 的工作主要集 中于对 ＲＣＡ清洗化学原理 ，适 用 情况 和 影 响因 素等进 行 深入 研究 和分 析 ，对 ＲＣＡ 清洗技术进行改进 ；第 ４阶段 ，１９９０年至今 ，侧重于 对 溶 液 清 洗 机 理 和 动 力 学 的研 究 以及 新 型清 洗 技 术 的开 发研 究ｆ２１ 。
摘 要 ：研制一种用于工业生产中太阳能硅片的水基专用清洗剂 ，适用 于硅 片的表 面清洗处理 。该清洗
剂以非离子表面活性剂和阴离子表面活性剂为主剂 ，溶液呈碱性 ，不含有机溶 剂 ，无刺激性气 味 、成本 低 、具
有 良好的去污 、清洗性能 。清洗方法操作方便 、无毒 、对人体无危害 、对环境无污染。
ｐｅｒ ｆｏｒｍａｎｃｅ ｏｆ ｃｌｅａｎｉｎｇ．Ｔｈｅ ｃｌｅａｎｉｎｇ ｍ ｅｔｈｏｄ ｉｓ ｅａｓｙ ａｎｄ ｎｏｎ—ｔｏｘｉｃ ｏｎ ｈｕｍ ａｎｂｅｉｎｇｓ ａｎｄ ｔｈｅ ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔ．
Ｋ ｅｙ ｗ ｏｒｄｓ：ｓｏｌａｒ ｓｉｌｉｃｏｎ ｗａｆｅｒ；ｓｕｒｆａｃｔａｎｔ；ｃｌｅａｎｉｎｇ ａｇｅｎｔ
化 学 工 程 师 Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒ
２０１２年第 ｏ４期
：王
文 章 编 号 ：１００２—１ １２４（２０１２）０４—００６２—０３
：程 师 一 凰
种太阳能硅 片清洗剂的制备方法
她
王亚妮 ，刘 军，李 峰 ，许军训
（陕西 省 石 油 化 工 研 究 设 计 院 。陕 西 西 安 ７１ ００５４）
１．４ 清洗方 法 （１）常温下将硅片在盛有循环去离子水 的水槽
２０１２年第 ４期 Fra bibliotek王 亚妮等 ：一种 太阳能硅 片清洗剂 的制备方 法
表 １ 实验 中优 选 的 几 组 配 方
Ｔａｂ．１ Ｏｐｔｉｍｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ ｓｅｖｅｒａｌ ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｉｎ ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔａｌ
在光 伏产 业 ，硅 片 生产 过 程 中需 将硅 片 进行 清 洗 ，才能生产出合格产品。太阳能硅片表面污染物 主要 包 括 油 脂 、松 香 、环 氧 树 脂 、聚 乙 二 醇 等 有 机 物 ，尘 埃 及 其 它 颗粒 污染 和金 属 离 子 玷 污 等 ，它 们 通常以物理 吸附和化学 的方式存在于硅片的表 面 或硅 片 的 自身 氧化 膜 中。这些 杂 质严重 影 响着 电池 片 的性 能 、可 靠性 和 成 品率 。硅 片 清洗 要求 既 能 去 除各 类杂 质又 不破 坏硅 片…。
关键 词 ：太阳能硅 片 ；表面活性剂 ；清洗剂
中 图 分 类 号 ：ＴＮ３０５．２
文 献 标 识 码 ：Ｂ
Ａ ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ ｔｈｅ ｓｏｌａｒ ｓｉｌｉｃｏｎ ｗａｆｅｒ ｃｌｅａｎｉｎｇ ａｇｅｎｔ
Ｗ ＡＮＧ Ｙａ—ｎｉ，ＬＩＵ Ｊｕｎ，ＬＩ Ｆｅｎｇ，ＸＵ Ｊｕｎ—ｘｕｎ
ｐｌｉｅｄ ｔｏ ｃｌｅａｎ ｔｈｅ ｓｕｒｆａｃｅ ｏｆ ａ ｓｏｌａｒ ｓｉｌｉｃｏｎ ｗａｆｅｒ．Ｔｈｅ ｃｌｅａｎｉｎｇ ａｇｅｎｔ ｉｓ ｍａｄｅ ｕｐ ｏｆ ｎｏｎ—ｉｏｎｉｃ ｓｕｒ ｆａｃｔａｎｔ ａｎｄ ａｎ— ｉｏｎｉｃ ｓｕｒｆａｃｔａｎｔ．Ｉｔｓ ｓｏｌｕｔｉｏｎ ｉｓ ａｌｋａｌｉｎｅ，ｉｔ ｄｏｅｓｎ’ｔ ｃｏｎｔａｉｎ ｏｒｇａｎｉｃ ｓｏｌｖｅｎｔｓ，ｎｏ ｉｒｒｉｔａｔｉｎｇ ｏｄｏｕｒ，ｃｈｅａｐｅｒ ａｎｄ ｇｏｏｄ
１ 实验部分
１．１ 主 要 原 材 料 脂肪醇 聚氧 乙烯醚 ；６５０１壬基酚 聚氧 乙烯醚 ；十
二烷基苯磺酸钠 ＬＡＳ；三乙醇胺油酸皂 ；三聚磷酸钠； ＮａＯＨ，以上均为工业品。乙二胺 四乙酸二钠 （Ｃ．Ｐ．）。
１．２ 清洗剂的配方实验
综合表 １分析 ，最终确定 ３ 为最佳配方。 １．３ 清洗剂配制步骤
（１）将 一 定 量 的螯 合 剂 乙 二 胺 四 乙酸 二 钠 、十 二烷基苯磺酸钠 、三聚磷酸钠 、ＮａＯＨ及其它无机助 剂等溶于适量 的去离子水 中 ，５０～６０℃加热搅拌均 匀 ，使其充分溶解 ，制成溶液 Ａ；
（２）将 一定 量 的脂 肪 醇 聚 氧 乙 烯 醚 、壬 基 酚 聚 氧乙烯醚 、６５０１、三 乙醇胺油酸皂等溶于适量的去 离子水中，５０ ６０％￣Ｉ１热搅拌均匀 ，制成溶液 Ｂ；
（Ｓｈａａｎｘｉ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｅｓｉｇｎ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ ｏｆ Ｐｅｔｒｏｌｅｕｍ ａｎｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔ￣，Ｘｉ ａｎ ７１００５４，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ａ ｗａｔｅｒ－ｂａｓｅｄ ｃｌｅａｎｉｎｇ ａｇｅｎｔ ｉｓ ｐｒｅｐａｒｅｄ ｆｏｒ ｃｏｍｍ ｅｒｃｉａｌ ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ ｏｆ ｓｏｌａｒ ｓｉｌｉｃｏｎ ｗａｆｅｒ，ｉｔ ｉｓ ａｐ－
本 实 验 目的在 于研 制一 种 碱性 的 、不 含 有机 溶 剂 、无刺激性气 味 、成本低且清洗效 果相当或优于
收 稿 日期 ：２０１２—０３—０８ 作者简介 ：王亚妮（１９８０一），女 ，工程师 ，主要从 事太阳能硅片切削液 、
清洗液及砂浆 回收方面的研究 。
传统清洗方法 的太 阳能硅片水基专用清洗剂。该清 洗 剂 以非 离 子 表 面 活性 剂 和 阴离 子 表 面 活性 剂 为 主剂 ，清洗方法具有操作方便 、成本低 、无毒 、对皮 肤 无腐 蚀 、对 人体 无危 害 、对 环境 无污染 等优 点 。
硅片清洗技术 的发展大致可分为 ４个阶段 ：第 １阶 ，段 建 立 了最初 的化 学 和机 械抛 光 ，但 由于处 理 不当 ，往往会造成金属杂质 的重新沉淀 以及金属杂 质的再 次污染 ；第 ２阶段 ，１９６１—１９７１年期间 ，使用 最 初 的 ＲＣＡ一１清 洗剂 ，该 清洗 技术 的发 展是 清 洗 技 术 的 历 程碑 ；第 ３阶 段 ，１９７２～１９８９年 期 间 ，这 一 阶段 的工作主要集 中于对 ＲＣＡ清洗化学原理 ，适 用 情况 和 影 响因 素等进 行 深入 研究 和分 析 ，对 ＲＣＡ 清洗技术进行改进 ；第 ４阶段 ，１９９０年至今 ，侧重于 对 溶 液 清 洗 机 理 和 动 力 学 的研 究 以及 新 型清 洗 技 术 的开 发研 究ｆ２１ 。
摘 要 ：研制一种用于工业生产中太阳能硅片的水基专用清洗剂 ，适用 于硅 片的表 面清洗处理 。该清洗
剂以非离子表面活性剂和阴离子表面活性剂为主剂 ，溶液呈碱性 ，不含有机溶 剂 ，无刺激性气 味 、成本 低 、具
有 良好的去污 、清洗性能 。清洗方法操作方便 、无毒 、对人体无危害 、对环境无污染。
ｐｅｒ ｆｏｒｍａｎｃｅ ｏｆ ｃｌｅａｎｉｎｇ．Ｔｈｅ ｃｌｅａｎｉｎｇ ｍ ｅｔｈｏｄ ｉｓ ｅａｓｙ ａｎｄ ｎｏｎ—ｔｏｘｉｃ ｏｎ ｈｕｍ ａｎｂｅｉｎｇｓ ａｎｄ ｔｈｅ ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔ．
Ｋ ｅｙ ｗ ｏｒｄｓ：ｓｏｌａｒ ｓｉｌｉｃｏｎ ｗａｆｅｒ；ｓｕｒｆａｃｔａｎｔ；ｃｌｅａｎｉｎｇ ａｇｅｎｔ
化 学 工 程 师 Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｅｎｇｉｎｅｅｒ
２０１２年第 ｏ４期
：王
文 章 编 号 ：１００２—１ １２４（２０１２）０４—００６２—０３
：程 师 一 凰
种太阳能硅 片清洗剂的制备方法
她
王亚妮 ，刘 军，李 峰 ，许军训
（陕西 省 石 油 化 工 研 究 设 计 院 。陕 西 西 安 ７１ ００５４）
１．４ 清洗方 法 （１）常温下将硅片在盛有循环去离子水 的水槽