tft级光学tac薄膜
薄膜晶体管
薄膜晶体管的定义:Thin Film Transistor (薄膜场效应晶体管),是指液晶显示器上的每一液晶象素点都是由集成在其后的薄膜晶体管来驱动。
从而可以做到高速度高亮度高对比度显示屏幕信息。
TFT属于有源矩阵液晶显示器。
补充:TFT(ThinFilmTransistor)是指薄膜晶体管,意即每个液晶像素点都是由集成在像素点后面的薄膜晶体管来驱动,从而可以做到高速度、高亮度、高对比度显示屏幕信息,是目前最好的LCD彩色显示设备之一,其效果接近CRT显示器,是现在笔记本电脑和台式机上的主流显示设备。
TFT的每个像素点都是由集成在自身上的TFT来控制,是有源像素点。
因此,不但速度可以极大提高,而且对比度和亮度也大大提高了,同时分辨率也达到了很高水平。
TFT ( Thin film Transistor,薄膜晶体管)屏幕,它也是目前中高端彩屏手机中普遍采用的屏幕,分65536 色及26 万色,1600万色三种,其显示效果非常出色。
平板显示器种类:经过二十多年的研究、竞争、发展,平板显示器已进入角色,成为新世纪显示器的主流产品,目前竞争最激烈的平板显示器有四个品种:1、场致发射平板显示器(FED);2、等离子体平板显示器(PDP);3、有机薄膜电致发光器(OEL);4、薄膜晶体管液晶平板显示器(TFT-LCD)。
场发射平板显示器原理类似于CRT,CRT只有一支到三支电子枪,最多六支,而场发射显示器是采用电子枪阵列(电子发射微尖阵列,如金刚石膜尖锥),分辨率为VGA(640×480×3)的显示器需要92.16万个性能均匀一致的电子发射微尖,材料工艺都需要突破。
目前美国和法国有小批量的小尺寸的显示屏生产,用于国防军工,离工业化、商业化还很远。
等离子体发光显示是通过微小的真空放电腔内的等离子放电激发腔内的发光材料形成的,发光效应低和功耗大是它的缺点(仅1.2lm/W,而灯用发光效率达80lm/ W以上,6瓦/每平方英寸显示面积),但在102~152cm对角线的大屏幕显示领域有很强的竞争优势。
tft级光学tac薄膜
TFT级光学TAC薄膜概述TFT级光学TAC薄膜是一种用于薄膜晶体管(TFT)显示屏的光学薄膜材料。
该薄膜具有优异的光学性能和机械强度,可提高显示屏的显示效果和可靠性。
本文将对TFT级光学TAC薄膜的特性、制备工艺和应用进行详细介绍。
特性TFT级光学TAC薄膜具有以下主要特性:1.高透明性:TFT级光学TAC薄膜具有高透明性,可保证显示屏的亮度和清晰度。
2.低色散性:TFT级光学TAC薄膜的色散性能优异,能够减少显示屏在不同角度观看时的色彩变化。
3.优异的抗刮擦性:TFT级光学TAC薄膜具有较高的硬度,能够有效抵抗划痕和磨损,延长显示屏的使用寿命。
4.良好的耐候性:TFT级光学TAC薄膜能够承受较高的温度、湿度和紫外线照射,适用于各种环境条件下的使用。
5.优异的光学性能:TFT级光学TAC薄膜具有高透光率和低反射率,可以提高显示屏的对比度和色彩还原度。
制备工艺TFT级光学TAC薄膜的制备工艺主要包括以下步骤:1.基材准备:选择适合的基材,通常使用聚酯薄膜作为TFT级光学TAC薄膜的基材。
2.涂布:将光学TAC材料通过涂布工艺均匀地涂布在基材上,形成一层薄膜。
3.预热:将涂布好的基材进行预热处理,以去除残留的溶剂和调整薄膜的结构。
4.拉伸:通过拉伸工艺,使得TFT级光学TAC薄膜具有一定的拉伸性能和机械强度。
5.硬化:将拉伸后的薄膜进行硬化处理,提高其抗刮擦性和耐候性。
6.切割:将硬化后的薄膜按照需要的尺寸进行切割,以便后续的应用。
7.质检:对切割后的薄膜进行质量检查,确保其符合要求。
应用TFT级光学TAC薄膜广泛应用于各种类型的显示屏,包括液晶显示屏、有机发光二极管(OLED)显示屏等。
其主要应用领域包括:1.智能手机:TFT级光学TAC薄膜作为手机屏幕的保护层,可以提高屏幕的耐刮擦性和显示效果。
2.平板电脑:TFT级光学TAC薄膜能够提高平板电脑的显示效果,使得图像更加清晰和真实。
3.电视:TFT级光学TAC薄膜作为电视屏幕的保护层,可以提高电视的对比度和色彩还原度。
偏光片的原理作用分类以及市场
偏光片的原理作用分类以及市场偏光片制造工序偏光片的基本结构是两层三醋酸纤维素酯薄膜(TAC)夹一层聚乙烯醇(PVA);从制造工序而言,偏光片前道制造工序为聚乙烯醇(PVA)膜片卷,以碘液染色后做单轴延伸,形成偏光子再进行贴合,上下各加覆一层三醋酸纤维素酯(TAC)薄膜,并在上层TAC膜之外再加覆一表面保护膜,另在下层TAC膜之外以光学粘着剂贴附离型膜或者反射膜后再贴合表面保护膜,最后进入后道切割工序。
偏光片的制作主要有延伸法及涂布法,延伸法是目前的主流工艺。
偏光片(Polarizer)是液晶面板关键零件,是目前业界投资最为热门的行业之一,其成本约占面板原材料制造成本的11%左右。
据著名调研组织Displaybank指出,全球偏光片市场销售额2006年增长到45亿美元。
由于2007年大尺寸面板市场仍持续增长,市场规模仍将不断增长,年增幅约11%左右。
然而由于偏光片的制造技术一直被日本、韩国等国家所垄断,我国偏光片产业规模较小,且产品档次较低,因而市场发展潜力巨大。
偏光板的主要作用是可以将不具偏极性的自然光转化为偏极光,使与电场呈垂直方向的光线通过,让LCD面板能正常显示影像。
偏光板产业最早萌芽于日本,产品多应用于如手表和闹钟等低阶的TN 型单色显示器上;其后随着日本 TFT - LCD 工业的大发展,TFT 型的偏光板逐渐崭露头角,截止到1999 年的统计数据显示,全球TFT 用偏光板市场规模为2 . 7 亿美元。
1999 年5 月,我国台湾省第一家偏光片厂商力特光电投产,标志着日本厂商独占偏光片市场的时代结束,但力特的技术依然来源于日本厂商的技术授权。
而韩国则于2000 年初开始进军TFT 用偏光板市场,首家厂商LG 化学于2000 年3 月量产,年产能125 万片。
偏光片的主要作用就是使通过偏光片的自然光变成偏振光。
n偏光片是一种产生和检测偏振光的片状光学功能材料。
偏光片是一种影响LCD液晶屏显示效果的关键组件。
富士推出LCD电视用TAC延迟膜
面临着降低元件费用和组装费用的挑战。 富士是世界上最大的写真胶片公司,他垄断着 极化器防护片用TAC膜市场。此外,该公司用于笔 记本电脑和LcD监视器的视角补偿膜已建立了实 用标准。 富士公司正在开发各种类型的视角补偿膜,以 满足范围广泛的各种LcD产品的需要。目前,他正 集中精力开发VA型LCD电视用的CAT延迟膜。 (李正)
富士推出LCD电视用TAC延迟膜
富士写真胶片公司(Fuji Photo)将着手生产 LCD电视用延迟膜。它是在三醋酸纤维素(TAc) 膜中加入一种添加剂,以提高TAc的光折射率。 TAC膜通常用于防护LCD的极化片。采用这种新 膜,可不再需要将延迟膜附贴到极化片的过程,因而 减化了LCD的生产工艺。据称,这种TAc膜可使 防护片和极化板的功能提高1倍,从而减少许多极 化器模块元件,使生产成本节省30%。在用于“竖 向定线(VA)”技术的宽视角LCD电视方面,这种胶 片的效益最为突出。 TAC延迟膜用于增加电视屏的视角,是LCD板 敏感元件。当从边处观看视屏时,VA-TAc胶片可 防止图象的对比度下降和色彩变白。 一般极化器模块系由环烯烃聚合物降莰烯树脂 一类延迟膜贴到极化片上生产的。在要求降低 LcD电视板高成本的情况下,极化器模块生产厂家
ji}};ilj;;|}毫誉龟罟化学品豢≤豢萋萋i
Degussa扩展电子材料业务
目前Degussa公司正在快速扩展其新近成立的 电子材料业务部门,采取的主要措施是把电子材料 业务与公司为电子业务服务的其他业务合并。公司 新近建立了Aerosil(高分散硅胶,商品名)和硅烷业 务部门,该部门最初聚焦于半导体业务,但公司将把 业务范围扩大到电子市场的其他领域。 目前新组建的电子材料业务部门的销售额在数 千万美元范围内,发展目标是达数亿美元。电子材 料业务所经营的产品主要用于半导体晶片表面磨光 技术,是为化学机械磨光料浆提供纳米粒子材料, Degussa公司还在探索扩大化学气相沉积 (CVD)工艺用硅胶前体物业务,此外也在探索向液 晶显示器薄膜供应cVD用前体物的业务。公司多 年前已积累了硅胶化学产品技术,可为电子化学品 市场的发展提供完美的技术。目前,Degussa公司在 德国莱茵费尔登、美国亚拉巴马州莫比尔、日本八日 市都建有电子材料生产基地。最近Degussa与 Epichem公司(英国半导体及其他电子产品用专用 有机金属化学品公司)实现了联合,这一联合将使 两家公司能提供硅烷和有机金属前体物两类产品。 (申荣)
偏光膜主要设备——TAC处理机设计要点
偏光膜主要设备——TAC处理机设计要点摘要:文章简要介绍了偏光膜的结构,对偏光膜主要生产设备——TAC 处理机设计要点做了详细阐述,并对TAC处理机的发展趋势进行了简要说明。
关键词:偏光膜;生产设备;TAC处理机偏光膜是液晶显示器必需的关键组件之一,其作用就是将自然光变成偏振光,由于把偏振光用于其显示原理中,偏振片不仅是必需的构件,同时对其高性能、多功能的追求对于LCD功能的提高是必不可少的。
图1是偏光膜的基本结构。
其核心层是两层TAC膜夹一层PV A膜,俗称“原板”。
以原板为基础,根据不同的使用要求,再在原板的一侧或两侧分别贴合不同功能的光学膜,如反射膜、半透膜、位相差膜等,由此形成不同用途的偏光膜产品,如反射型偏光膜、半透型偏光膜等。
偏光膜的主要生产设备分为TAC处理机、PV A拉伸机及涂布机。
现针对TAC处理机的设计要点进行阐述。
1 TAC处理机结构简图及作用1.1 简图TAC处理机结构简图如图2所示。
1.2 TAC表面处理的目的与作用在偏光膜的生产中,PV A膜经过水洗、膨润、染色、延伸、洗净、水切等处理并干燥之后,厚度不到25 μm,本身的机械强度和平挺度均很差,其在温热的环境中会很快变形、收缩、松弛、衰退,质脆易破,不便于使用和加工。
因此需在其两侧贴上具有高透光率、低雾度值、耐热性好、机械强度高及光学上各向同性的透明薄膜——如TAC膜,一方面起保护作用,另一方面可防止PV A膜的回缩。
两片保护膜夹一片PV A膜就成了如今常说的偏光片。
由于PV A膜对TAC膜而言,其接口为亲水性界面,因此TAC膜必须具有较大的亲水性,以利于TAC膜与PV A膜贴合。
具有较大亲水性的TAC膜接触角在20°以下,而未经处理的TAC膜接触角在30~50°以上。
所以TAC膜贴合之前必须经过表面处理,使得TAC膜具有较小的接触角,亦即较大的亲水性。
要达到这一目的,可通过TAC处理机来实现。
2 TAC处理机设计要点2.1 双工位放卷装置之所以设计成双工位,目的是为了连续生产的需要。
TFCD光学膜介绍
一、光学薄膜简介1、光学薄膜的定义光学薄膜在我们的生活中无处不在,从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说,平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品,或者是钞票上的防伪技术,皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。
倘若没有光学薄膜技术作为发展基础,近代光电、通讯或是镭射技术将无法有所进展,这也显示出光学薄膜技术研究发展的重要性。
光学薄膜系指在光学元件或独立基板上,制镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合,以改变光波之传递特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变。
故经由适当设计可以调变不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。
一般来说,光学薄膜的生产方式主要分为干法和湿法的生产工艺。
所谓的干式就是没有液体出现在整个加工过程中,例如真空蒸镀是在一真空环境中,以电能加热固体原物料,经升华成气体后附着在一个固体基材的表面上,完成涂布加工。
日常生活中所看到装饰用的金色、银色或具金属质感的包装膜,就是以干式涂布方式制造的产品。
但是在实际量产的考虑下,干式涂布运用的范围小于湿式涂布。
湿式涂布一般的做法是把具有各种功能的成分混合成液态涂料,以不同的加工方式涂布在基材上,然后使液态涂料干燥固化做成产品。
在本文中仅讨论湿式涂布技术的光学薄膜产业。
2、光学薄膜种类光学薄膜根据其用途分类、特性与应用可分为:反射膜、增透膜/减反射膜、滤光片、偏光片/偏光膜、补偿膜/相位差板、配向膜、扩散膜/片、增亮膜/棱镜片/聚光片、遮光膜/黑白胶等。
相关衍生的种类有光学级保护膜、窗膜等。
2.1、反射膜反射膜一般可分为两类,一类是金属反射膜,一类是全电介质反射膜。
此外,还有将两者结合的金属电介质反射膜,功能是增加光学表面的反射率。
一般金属都具有较大的消光系数。
当光束由空气入射到金属表面时,进入金属内的光振幅迅速衰减,使得进入金属内部的光能相应减少,而反射光能增加。
消光系数越大,光振幅衰减越迅速,进入金属内部的光能越少,反射率越高。
液晶偏光片的组成与应用
液晶偏光片由哪几种膜组成?2017-10-101、偏光片工作原理偏光片(Polarizer )全称为偏振光片,可控制特定光束的偏振方向。
自然光在通过偏光片时,振动方向与偏光片透过轴垂直的光将被吸收,透过光只剩下振动方向与偏光片透过轴平行的偏振光。
液晶显示模组中有两张偏光片分别贴在玻璃基板两侧,下偏光片用于将背光源产生的光束转换为偏振光,上偏光片用于解析经液晶电调制后的偏振光,产生明暗对比,从而产生显示画面。
液晶显示模组的成像必须依靠偏振光,少了任何一张偏光片,液晶显示模组都不能显示图像。
液晶显示模组的基本结构如下图所示:2、偏光片基本结构偏光片主要由PVA 膜、TAC 膜、保护膜、离型膜和压敏胶等复合制 成。
偏光片的基本结构如下图所示:TACPVATACPSA 离型胶彩色滤光片抠胶薄膜晶体诗 偏光板 扩敬板保护膜 公从电极 配向膜 液品〃储电客间隙粒子 分汜片 檢蜕板 反射板偏光片的基本结构偏光片中起偏振作用的核心膜材是PVA膜。
PVA膜经染色后吸附具有二向吸收功能的碘分子,通过拉伸使碘分子在PVA膜上有序排列, 形成具有均匀二向吸收性能的偏光膜,其透过轴与拉伸的方向垂直。
构成偏光片的各种主要膜材所具备的特性及作用如下表所示:LCD面板特性与偏光片质量息息相关LCD对应16光片性能亮度偏光片透过率、厚度、时加机能膜对比度偏光片对比度.TACiHiffi机能膜视角TAC附加机能謨,偏光片忖相菱濮色度偏光片的贴合度、与补供般的贴合角度色调偏光片色调査料来淳,CNKI.舷还券J JWMF从价值分布上讲,在所有偏光片的原料成本中,PVA膜和TAC膜的成本占比最高,其中TAC膜占全部原料成本的50%左右,PVA膜占12%左右。
偏光片在整个显示产业链中,利润较好3 曲PVA (polyvinyI alcohol)膜全称聚乙烯醇薄膜,其组分主要是碳氢氧等轻原子,因此具有咼透光和咼延展性等特点。
将PVA膜在染色槽中染色后,其表面会均匀地富集一层碘分子(或染料分子)。
TFT-LCD光学膜介绍
一、光学薄膜简介1、光学薄膜的定义光学薄膜在我们的生活中无处不在,从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说,平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品,或者是钞票上的防伪技术,皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。
倘若没有光学薄膜技术作为发展基础,近代光电、通讯或是镭射技术将无法有所进展,这也显示出光学薄膜技术研究发展的重要性。
光学薄膜系指在光学元件或独立基板上,制镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合,以改变光波之传递特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变。
故经由适当设计可以调变不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。
一般来说,光学薄膜的生产方式主要分为干法和湿法的生产工艺。
所谓的干式就是没有液体出现在整个加工过程中,例如真空蒸镀是在一真空环境中,以电能加热固体原物料,经升华成气体后附着在一个固体基材的表面上,完成涂布加工。
日常生活中所看到装饰用的金色、银色或具金属质感的包装膜,就是以干式涂布方式制造的产品。
但是在实际量产的考虑下,干式涂布运用的范围小于湿式涂布。
湿式涂布一般的做法是把具有各种功能的成分混合成液态涂料,以不同的加工方式涂布在基材上,然后使液态涂料干燥固化做成产品。
在本文中仅讨论湿式涂布技术的光学薄膜产业。
2、光学薄膜种类光学薄膜根据其用途分类、特性与应用可分为:反射膜、增透膜/减反射膜、滤光片、偏光片/偏光膜、补偿膜/相位差板、配向膜、扩散膜/片、增亮膜/棱镜片/聚光片、遮光膜/黑白胶等。
相关衍生的种类有光学级保护膜、窗膜等。
2.1、反射膜反射膜一般可分为两类,一类是金属反射膜,一类是全电介质反射膜。
此外,还有将两者结合的金属电介质反射膜,功能是增加光学表面的反射率。
一般金属都具有较大的消光系数。
当光束由空气入射到金属表面时,进入金属内的光振幅迅速衰减,使得进入金属内部的光能相应减少,而反射光能增加。
消光系数越大,光振幅衰减越迅速,进入金属内部的光能越少,反射率越高。
tft工艺流程
tft工艺流程TFT(薄膜晶体管)是一种集成电路中常用的薄膜技术,广泛应用于液晶显示器等电子产品中。
下面将介绍一下TFT工艺流程。
TFT工艺流程主要包含以下几个步骤:第一步是基板准备。
TFT的基板通常是玻璃或者塑料材料,首先需要清洗基板,以保证表面的干净度。
接下来,进行镀膜处理,使用ITO(透明导电氧化物)材料涂覆在基板的一侧,形成导电层。
第二步是图案化工艺。
这个步骤是将设计好的电路图案转移到基板上。
在导电层上涂覆一层光敏胶,并使用光罩照射光线,使光敏胶在光照区域发生化学反应。
然后,通过洗涤,去除未光照的光敏胶,形成所需的电路图案。
第三步是薄膜沉积。
电路图案已经形成后,需要在基板上沉积一层薄膜。
这一层薄膜通常是氧化硅(SiO2)或者氧化硅氮(SiON),用于保护电路和改善TFT性能。
薄膜沉积可以通过物理气相沉积(PVD)或者化学气相沉积(CVD)等技术实现。
第四步是有源区域制备。
有源区域是TFT电路中的主要部分,用于控制电流流过液晶元素。
在沉积的薄膜上,通过光刻和蚀刻等技术,制备出有源区域的通道、源极和栅极等。
第五步是封装和封装测试。
TFT电路完成后,需要进行封装,将其与液晶屏幕等组件组合在一起,形成完整的显示器件。
封装过程中还需要进行相关测试,以确保产品的质量和性能。
最后一步是测试和质量控制。
对于TFT电路来说,测试非常重要,只有通过严格的测试才能保证产品的质量和可靠性。
测试主要包括开路测试、短路测试、漏电流测试等。
总结起来,TFT工艺流程是一个综合工艺流程,通过不同的步骤实现电路的制备、封装和测试。
这些步骤对于确保TFT产品的质量和性能至关重要,同时也需要在整个流程中严格控制工艺参数,以提高产品的可靠性和一致性。
TFT工艺设备
TFT工艺设备TFT(薄膜晶体管)工艺设备是用于制造薄膜晶体管的关键设备。
薄膜晶体管广泛应用于平面显示器(LCD)、有机发光二极管(OLED)等领域,其制造过程涉及到多个工序,需要高精度和高装配的设备来完成。
1. TFT 工艺TFT工艺是一种用于制造显示器的工艺流程。
它主要包括以下几个主要步骤:1.1 清洗和准备在制造TFT之前,首先需要清洗和准备基板,通常使用的基板是玻璃或聚酯膜。
清洗的目的是去除杂质和污垢,以确保后续处理步骤的质量。
1.2 涂布和暴光在准备好的基板上,涂布光刻胶,涂布机的作用是将均匀的光刻胶层涂布在基板上。
涂布完成后,基板经过暴光机的曝光过程,将图案暴露在光刻胶上。
1.3 蚀刻和清洗曝光后,利用蚀刻机将未暴露的光刻胶蚀刻掉。
经过蚀刻后,再次进行清洗步骤,以去除蚀刻液和光刻胶残留物。
1.4 沉积和刻蚀在蚀刻后,需要进行沉积和刻蚀步骤。
沉积用于形成薄膜晶体管的关键结构,刻蚀用于去除多余的材料。
1.5 导线和连接在完成薄膜晶体管的形成后,需要进行导线和连接的制造。
这些导线和连接器将不同部分的薄膜晶体管连接起来,以形成完整的电路。
1.6 封装和测试最后一步是封装和测试。
封装将薄膜晶体管放置在适当的基板上,并进行密封。
测试是确保薄膜晶体管的正确性和可靠性。
2. TFT 工艺设备为了实现TFT工艺的各个步骤,需要使用特定的工艺设备。
以下是几个常见的TFT工艺设备:2.1 涂布机涂布机用于将光刻胶均匀地涂布在基板上。
涂布机使用旋转式涂布头和端子来实现均匀的涂布。
涂布机具有高精度和稳定性,可确保涂布的质量。
2.2 暴光机暴光机用于将图案暴露在光刻胶上。
它使用特定的光源和投影系统,将图案投射到光刻胶上。
暴光机需要高精度的光刻系统,以确保图案的清晰和准确。
2.3 蚀刻机蚀刻机用于将未暴露的光刻胶去除。
它使用特定的蚀刻液和蚀刻过程来实现这一步骤。
蚀刻机需要高精度的控制系统,以确保蚀刻的准确性和一致性。
tft的分类
tft的分类TFT的分类TFT(Thin Film Transistor)薄膜晶体管是一种用于液晶显示器中的关键技术。
根据不同的材料和结构,TFT可以分为多种不同的类型。
本文将介绍几种常见的TFT分类。
一、依据材料分类1. 硅基TFT:硅基TFT是最常见的一种类型,其主要材料是硅。
硅基TFT具有制作工艺简单、稳定性好、成本相对较低等优点。
由于硅基TFT的晶体管电子迁移率较低,因此在高分辨率和高刷新率的显示器中使用受到限制。
2. 多晶硅TFT:多晶硅TFT采用多晶硅材料制造,相比硅基TFT,其电子迁移率更高,因此可以用于高分辨率和高刷新率的显示器。
多晶硅TFT的制造工艺较复杂,成本也相对较高。
3. 非晶硅TFT:非晶硅TFT采用非晶硅材料制造,具有较高的电子迁移率和透光性能,可以用于高分辨率和高刷新率的显示器。
非晶硅TFT的制造工艺相对简单,但成本较高。
二、依据结构分类1. 非透明TFT:非透明TFT是最常见的一种类型,其结构包括底电极、薄膜晶体管、液晶层和顶电极。
非透明TFT在液晶显示器中起到控制液晶分子排列和光的透过与阻挡的作用。
2. 透明TFT:透明TFT的结构与非透明TFT类似,但顶电极采用透明材料制造,如氧化铟锡(ITO)。
透明TFT广泛应用于透明显示器、触摸屏等领域,可以实现透明且可视的显示效果。
3. 柔性TFT:柔性TFT采用柔性基板制造,如聚酰亚胺薄膜。
相比传统的玻璃基板,柔性TFT具有更好的柔韧性和轻薄性,可以应用于可弯曲、可卷曲的显示器和电子产品中。
三、依据制作工艺分类1. 常规TFT:常规TFT制作工艺采用传统的光刻、蒸镀等工艺,制造过程相对较复杂。
常规TFT具有制造成本高、生产周期长等缺点,但在稳定性和可靠性方面表现良好。
2. 薄膜互补金属氧化物(IGZO)TFT:IGZO TFT是一种新兴的制作工艺,采用氧化物材料代替传统的硅材料制造。
IGZO TFT具有电子迁移率高、透光性好等优点,可以实现更高的分辨率和刷新率。
薄膜晶体管(TFT)基础知识
关于TFTThin film transistor(TFT):薄膜晶体管原理类似于MOS 晶体管,区别在于MOS 是凭借反型层导电,TFT 凭借多子的积累导电。
常见TFT 结构:底栅结构(BG )、顶栅结构(TG )和双栅结构(DG )如下图所示 源极漏极有源层栅极衬底绝缘层栅极绝缘层源极漏极有源层衬底 衬底有源层漏极栅极源极绝缘层绝缘层栅极a ) BG 结构b )TG 结构c )DG 结构图一.常见的TFT 结构BG 特点:金属栅极和绝缘层可同时作为光学保护层,避免产生光生载流子,影响电学稳定性,通常在最上层加一层钝化层以减少外界干扰。
TG 特点:可以通过改善光刻工艺降低成本。
但要加保护层,防止背光源照射到有源层,产生光生载流子,影响电学性能。
DG 特点:可通过调节背栅电压来调整阈值电压,增加了器件的阈值稳定性。
弥补了BG 和TG 的缺点。
有报道称和C G 成反比关系,而双栅结构的C G =C BG +C TG ,所以DG 结构有较好的阈值稳定性。
表征TFT 性能的参数:1) 阈值电压:决定了器件的功耗,阈值越小越好。
2) 迁移率:表征器件的导电能力。
3) 开关电流比I On /I Off :表征栅极对有源层的控制能力。
4) 亚阈值摆幅S:漏极电流减小一个数量级所需的栅压变化,表征TFT 的开关能力。
TFT 的发展:主要是沟道材料的变化:氢化非晶硅多晶硅金属氧化物(ZnO 和a-IGZO )表1为以上材料的性能对比:由表1可以看出,1.非晶Si:迁移率较低,不透明,禁带宽度低,光照下不稳定。
2.多晶Si: 有较高的迁移率,但均匀性差,难大面积制备性质均匀的薄膜。
3.金属氧化物:有较高的迁移率,可见光透过率高,禁带宽度高,稳定性好。
金属氧化物ZnO和IGZO由于较高的迁移率和透光性,成为现阶段器件中主流的沟道材料。
IGZO和ZnO的性质:纯净的金属氧化物是不导电的,ZnO和IGZO的导电是在制备过程中会产生元素空位,ZnO 中既有Zn空位,又有O空位,呈弱n型半导体性质,这一性质决定了ZnO作为沟道层时在负压下阈值有较大的偏移,而IGZO主要以氧空位为主,呈强n型半导体性质,沟道层中几乎没有空穴,这使得IGZO在负压下有较好的阈值稳定性。
光学薄膜行业分析报告2012
2012年光学薄膜行业分析报告2012年11月目录一、光学薄膜在平板显示产业链中举足轻重 (5)1、何为光学薄膜 (5)2、光学薄膜在TFT-LCD中的分配及作用 (7)(1)背光模组用光学薄膜:提供均匀明亮的面光源 (8)①反射膜:反射导光板漏出光线,增加整体辉度 (9)②扩散膜:均匀化光线分布,遮蔽污点 (10)③增亮膜:聚光,提高亮度 (11)(2)偏光片:控制光线能否通过 (13)3、光学薄膜在TFT-LCD成本结构中占比较高 (15)二、平板显示产业加速向国内转移,光学薄膜迎来黄金发展期 (16)1、TFT-LCD VS OLED主流之争 (16)2、全球面板行业温和复苏,国内市场保持高速增长 (18)3、成本优势凸显,液晶面板产能加速向国内转移 (20)(1)面板价格维持低位,厂商成本诉求强烈 (20)(2)成本较低,全球面板产能加速转移到中国 (21)(3)国内液晶面板产能增速明显,占全球市场份额逐年提高 (22)4、大陆业已成为全球最大背光模组产地,光学膜发展机会大 (24)(1)技术门槛低,成本领先,大陆背光模组产能居世界第一 (24)(2)台韩系厂商成为背光模组的主要供应商 (25)三、全球光学薄膜市场容量保持稳定,国内市场需求潜力巨大 (27)1、2013年全球背光模组用光学薄膜市场容量:42亿美元,5.4亿平方米. 27(1)2013年全球背光模组光学膜市场容量为42亿美元 (27)(2)2013年全球背光模组光学薄膜需求面积达5.4亿平方米以上 (27)2、2013年中国背光模组用光学薄膜市场容量:65亿元,1.33亿平方米 (28)3、2013年全球偏光片市场容量:69亿美元,3.5亿平方米 (29)4、2013年中国偏光片市场容量:83亿元,6660万平方米 (30)四、光学薄膜国产化不足,进口替代机会显现 (30)1、竞争格局:美日韩台占主导,大陆兴起产业化大潮 (30)(1)国外企业垄断光学膜供给,国产化逐步成行 (30)(2)光学薄膜从前段到后端,产业集中度逐渐降低 (31)2、光学基膜:中低端产业化获得突破,高端研发仍在路上 (32)(1)光学基膜主要用于LCD光学薄膜的生产,一般通过涂布等工序制成光学薄膜 (32)(2)行业巨头垄断供给,国内光学基膜投资加码 (32)3、背光模组用光学薄膜:产业化有所分化,量产逐步成行 (34)(1)反射膜:国产化处于起步阶段 (35)(2)扩散膜:日韩台逐鹿全球,大陆产业化快速推进 (36)(3)增亮膜:3M主导市场,国产化快速扩张 (38)4、偏光片:外资企业垄断膜片及原材料的供应 (40)(1)偏光片:日韩台三方争霸,大陆位于起步期 (40)(2)上游TAC、PV A膜:寡头垄断,日企掌握话语权 (42)五、行业相关公司简析 (44)1、全球主要光学薄膜上市公司 (44)(1)背光模组用光学薄膜上市公司经营情况 (44)①东丽:代表性产品为反射膜 (44)②Kimoto:代表性产品为扩散膜、反射膜 (45)③SKC:代表性产品为扩散膜、增亮膜 (45)④Shinwha Intertek:代表性产品为扩散膜、增亮膜 (46)⑤Sangbo:代表性产品为扩散膜 (46)⑥华宏新技:代表性产品为扩散膜 (47)⑦长兴化工:代表性产品为扩散膜 (48)⑧3M:代表性产品为增亮膜、反射膜 (48)⑨MNTech:代表性产品为增亮膜 (49)⑩嘉威光电:代表性产品为增亮膜 (49)⑪迎辉科技:代表性产品为增亮膜、硬化膜 (50)⑫友辉光电:代表性产品为增亮膜 (50)(2)偏光片及上游TAC膜、PV A膜上市公司 (51)①Nitto Denko:代表性产品为偏光片 (51)②Sumitomo:代表性产品为偏光片 (51)③LG CHEM:代表性产品为偏光片 (52)④Optimax:代表性产品为偏光片 (52)⑤Fuji Photo Film:代表性产品为TAC薄膜 (53)⑥Konica Minolta:代表性产品为TAC薄膜 (53)⑦Kuraray:代表性产品为PV A膜 (54)⑧Nippon Synthetic Chemical:代表性产品为PV A膜 (54)2、国内上市公司 (55)(1)康得新:背光模组用光学薄膜后起之秀,快步腾飞 (55)(2)裕兴股份:光学基膜先发性企业,稳步前进 (56)(3)深纺织A:大陆偏光片第一股,填补国内空白 (57)(4)乐凯集团:多点出击的光学膜龙头企业 (59)六、风险因素 (60)一、光学薄膜在平板显示产业链中举足轻重1、何为光学薄膜光学薄膜是指在透明平整的基片或金属光滑表面上,用物理或化学的方法涂敷的单层或多层透明介质薄膜。
tft级光学tac薄膜
tft级光学tac薄膜【原创实用版】目录1.TFT 级光学 TAC 薄膜的概述2.TFT 级光学 TAC 薄膜的特点3.TFT 级光学 TAC 薄膜的应用领域4.TFT 级光学 TAC 薄膜的发展前景正文1.TFT 级光学 TAC 薄膜的概述TFT 级光学 TAC 薄膜,全称为 Thin Film Transistor 级光学抗指纹涂层,是一种新型的高科技材料。
TAC 薄膜是一种具有优异抗指纹性能的涂层,广泛应用于各类触控面板、显示屏等领域。
TFT 级光学 TAC 薄膜在原有 TAC 薄膜的基础上,通过特殊的制备工艺和材料设计,进一步提升了其抗指纹性能,使其在触控面板等应用中具有更高的耐用性和稳定性。
2.TFT 级光学 TAC 薄膜的特点(1)优异的抗指纹性能:TFT 级光学 TAC 薄膜具有极低的表面能,可有效减少指纹、油渍等在表面的附着,保证触控面板的清晰度。
(2)良好的透光性:TFT 级光学 TAC 薄膜具有高透光性,可保证触控面板在抗指纹的同时,仍具有高清晰度的显示效果。
(3)高硬度和耐磨性:TFT 级光学 TAC 薄膜具有较高的硬度和耐磨性,可提高触控面板的使用寿命。
(4)良好的附着力:TFT 级光学 TAC 薄膜与各类触控面板基材具有良好的附着力,可确保涂层在长时间使用过程中不易脱落。
3.TFT 级光学 TAC 薄膜的应用领域TFT 级光学 TAC 薄膜主要应用于以下领域:(1)触控面板:TFT 级光学 TAC 薄膜广泛应用于各类触控面板,如手机、平板电脑、车载导航等触控设备。
(2)显示屏:TFT 级光学 TAC 薄膜可用于各类显示屏,如 LCD、OLED 等,以提高显示效果的清晰度。
(3)光学器件:TFT 级光学 TAC 薄膜可应用于各类光学器件,如光学镜头、滤镜等,以提高其抗指纹性能。
4.TFT 级光学 TAC 薄膜的发展前景随着科技的不断发展,触控面板和显示屏等电子产品逐渐成为人们日常生活中的必需品。
偏光片制造技术7
第7章 偏光片生产质量管理7.1 偏光片的特性指标LCD 偏光片的基本性能指标主要有:光学性能、耐久特性、粘接特性、外观性能和其他特殊性能几个方面的基本技术指标要求。
7.1.1 偏光片的光学性能偏光片的光学性能包括:偏振度、透光率和色调三项主要性能指标,其它还包括防紫外线性能以及半透射型偏光片半透膜的透光率、全反射率和漫反射率指标。
在一般LCD 产品的使用中,要求偏振度和透光率性能指标越高越好。
偏振度和透光率越高,LCD 显示器件的显示效率就越高,相对能耗就小。
但对常规碘染色的偏光片产品而言,偏振度和透光率是一对矛盾,偏振度越高,透光率就会越低,而且还要受到色调的约束,因此一般普通型的偏光片产品的偏振度都在90%~99%之间,透光率在41%~44%之间。
三利谱偏光片透射型透光率42%以上,偏振度98%以上;反射型反射率27%以上,偏振度98%以上;半透射系列透光率4~24%,反射率16~28%,偏振度98%以上;黑白STN 系列透光率42%以上,偏振度98%以上;彩色STN 系列透光率42%以上,偏振度99.9%以上;OLED 系列透光率43%以上,偏振度99.9%以上;3D 系列透光率41%以上,偏振度98%以上;TFT 系列透光率43%以上,偏振度99.9%以上。
色调指标主要为满足人们的视觉习惯,同时要求偏光片产品的色调偏差要小,以保证LCD 最终产品外观色调的一致性,这主要由偏光片产品的色度坐标参数值和它们的控制公差范围来标识,一般其控制公差的范围越小越好。
从根本上说,偏光片是一种光学元件,因此光学性能是衡量偏光片是否合格的根本指标。
随着数码时代的到来和人们对高清显示效果的追求,偏光片的光学指标也变得越来越受到人们的重视。
基本偏光片的光学指标主要有:单体透过率(T s ),平行透过率(T p ),交叉透过率(T c ),380nm 透过率(T uv ),偏振度(P),色调(Hue)等等,有特殊功能的偏光片还有雾度(Haze),相位补偿值(Re, R th )等参数。
tac薄膜生产工艺流程
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tft级光学tac薄膜
TFT级光学TAC薄膜是一种高分子薄膜材料,广泛应用于液晶显
示器的制造过程中。
这种薄膜具有高分辨率、高对比度和高透射率的
特点,能够有效提升液晶显示器的品质和可靠性。
本文将介绍TFT级
光学TAC薄膜的特性、制备方法以及应用领域。
一、TFT级光学TAC薄膜的特性
TFT级光学TAC薄膜是一种具有优异光学性能的材料。
它具有以
下几个主要特点:
1. 高分辨率:TFT级光学TAC薄膜具有极低的表面粗糙度和高平
整度,能够有效提高液晶显示器的显示分辨率。
2. 高对比度:TFT级光学TAC薄膜能够减少光的散射,提高光的
透过率,从而使得液晶显示器在各种光照条件下都能够显示出清晰、
锐利的图像。
3. 高透射率:TFT级光学TAC薄膜具有高透射率,能够最大程度
地减少光的损失,提高显示器的亮度和能源利用率。
4. 耐用性强:TFT级光学TAC薄膜具有良好的机械强度和耐磨性,能够有效保护液晶屏幕,延长其使用寿命。
二、TFT级光学TAC薄膜的制备方法
TFT级光学TAC薄膜的制备通常采用化学合成的方法。
下面是一
种常见的制备步骤:
1. 原料准备:准备TFT级光学TAC薄膜所需的化学原料和溶剂。
2. 材料混合:将化学原料按照一定的配比溶解在溶剂中,并进行均
匀混合。
3. 涂布:将混合好的溶液均匀涂布在基材上,形成一层薄膜。
4. 干燥:将涂布好的基材在恰当的温度和湿度条件下进行干燥,使
薄膜完全固化。
5. 收集和加工:将固化好的TFT级光学TAC薄膜进行收集和加工,得到最终的产品。
三、TFT级光学TAC薄膜的应用领域
TFT级光学TAC薄膜广泛应用于各种液晶显示器的制造过程中。
它主要应用于以下几个方面:
1. 手机和平板电脑屏幕:TFT级光学TAC薄膜能够提供高质量的
显示效果,并且具有耐用性强的特点,非常适合用于手机和平板电脑
的屏幕保护。
2. 电视和电脑显示器:TFT级光学TAC薄膜能够提高显示器的对
比度和透射率,使得图像更加清晰、细腻,广泛应用于电视和电脑显
示器中。
3. 汽车仪表盘:TFT级光学TAC薄膜可以有效降低日照反射,提
升汽车仪表盘的清晰度和可读性。
4. 医疗设备:TFT级光学TAC薄膜在医疗设备的显示屏中起到了
重要的作用,能够提供高精度和高清晰度的图像显示。
综上所述,TFT级光学TAC薄膜具有优异的光学性能和耐用性,
是液晶显示器制造过程中不可或缺的关键材料。
其制备方法简单可行,广泛应用于手机、平板电脑、电视、电脑显示器、汽车仪表盘以及医
疗设备等领域。
随着科技的不断进步,相信TFT级光学TAC薄膜在液
晶显示技术中的应用前景将更加广阔。