【CN110205590A】一种超高纯铝溅射靶材及其轧制方法【专利】
一种al-cu溅射靶材及其制备方法
一种al-cu溅射靶材及其制备方法1简介溅射是一种重要的薄膜制备技术，它的广泛应用需要各种类型的靶材。
其中，Al-Cu合金在电子、微电子行业中得到了广泛应用，因此研发一种高质量的Al-Cu溅射靶材对应用具有重要意义。
本文介绍一种新型Al-Cu溅射靶材以及其制备方法。
2Al-Cu溅射靶材制备方法本研究通过真空热压方法制备Al-Cu溅射靶材。
该方法的步骤分别如下：2.1原材料制备以纯度高达99.99％的铝和纯度高达99.9％的铜作为原料。
铝和铜在一定比例下混合。
2.2热压成型将混合后的粉末放置于热压机，先进行预压至指定压力下，然后进行热压成型。
在热压成型过程中，铝和铜发生了钎合反应，形成了均质的Al-Cu合金材料。
2.3靶材切割和加工通过钻孔、割断等方法将热压成型后的块材切割成标准的靶材尺寸，再进行表面打磨和抛光。
3Al-Cu溅射靶材性能测试采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和光学显微镜对制备的Al-Cu 溅射靶材进行了性能测试。
3.1结构分析通过X射线衍射仪分析，Al-Cu溅射靶材呈现出了典型的fcc晶格结构。
其中，合金相以Al为主，铜均匀分散在Al晶格中。
3.2显微结构分析扫描电子显微镜和光学显微镜的显微结构分析表明，制备的Al-Cu 溅射靶材致密度高、均匀性好。
显微观察还发现，该靶材表面光洁度高，且无明显的裂纹和缺陷。
3.3电子性能分析通过溅射试验，分析Al-Cu溅射靶材的电子性能。
结果显示，制备的靶材具有较好的导电性和溅射稳定性，可以满足电子、微电子领域的相关应用需求。
4结论通过真空热压方法制备的Al-Cu溅射靶材密度高、均匀性好、电子性能稳定。
这种靶材可以广泛应用于电子、微电子行业中，具有较好的应用前景。
铝合金溅射靶材[发明专利]
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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201780033719.7(22)申请日 2017.05.16(30)优先权数据2016-113609 2016.06.07 JP(85)PCT国际申请进入国家阶段日2018.11.30(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2017/018333 2017.05.16(87)PCT国际申请的公布数据WO2017/212879 JA 2017.12.14(71)申请人 株式会社钢臂功科研地址 日本兵库县神户市中央区脇浜海岸通1丁目5番1号(邮政编码：6510073)(72)发明人 吉田慎太郎 奥野博行 (74)专利代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205代理人 马爽 臧建明(51)Int.Cl.C23C 14/34(2006.01)C22C 21/12(2006.01)C23C 14/14(2006.01)H01L 51/50(2006.01)H05B 33/26(2006.01)(54)发明名称铝合金溅射靶材(57)摘要本发明涉及一种铝合金溅射靶材，其含有超过6原子％、17原子％以下的Cu，剩余部分包含Al及不可避免的杂质。
根据本发明可提供一种有助于成膜速率的提高，且靶材的制造性优异的铝合金溅射靶材。
权利要求书1页 说明书6页CN 109312448 A 2019.02.05C N 109312448A1.一种铝合金溅射靶材，其含有超过6原子％、17原子％以下的Cu，剩余部分包含Al及不可避免的杂质。
2.根据权利要求1所述的铝合金溅射靶材，其还含有0.1原子％～5.5原子％的稀土类元素。
3.根据权利要求2所述的铝合金溅射靶材，其中所述稀土类元素为选自由Nd、La、Y、Sc、Gd、Dy、Lu、Ce、Pr及Tb所组成的群组中的至少一种。
4.一种铝合金薄膜，其使用如权利要求1至3中任一项所述的铝合金溅射靶材而成膜。
一种溅射旋转铝铜合金靶材及其制备方法[发明专利]
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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910734709.7(22)申请日 2019.08.09(71)申请人 广州市尤特新材料有限公司地址 510800 广东省广州市花都区花山镇华侨科技工业园华辉路4号(72)发明人 吴健 雷雨 肖世洪 周志宏 沈艳斌 周昭寅 (74)专利代理机构 广州三环专利商标代理有限公司 44202代理人 颜希文 宋静娜(51)Int.Cl.C23C 14/34(2006.01)C22C 21/12(2006.01)C23C 24/04(2006.01)(54)发明名称一种溅射旋转铝铜合金靶材及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种溅射旋转铝铜合金靶材及其制备方法。
所述溅射旋转铝铜合金靶材包括以下重量百分比的组分：难熔物质0.2-3wt％、铜0.5-6wt％和铝余量，所述难熔物质为熔点超过1500℃的金属或氧化物。
本发明以高纯铝粉、铜粉、难熔金属或氧化物粉末为原料，经冷喷涂制备旋转铝铜合金靶材。
本发明所用方法工艺简单、操作方便，适合大规模工业生产，制备出的靶材纯度高(≥99.9％)、相对密度大(≥95％)，氧含量小于1500ppm，综合性能优异。
权利要求书1页 说明书7页CN 110396669 A 2019.11.01C N 110396669A1.一种溅射旋转铝铜合金靶材，其特征在于，包括以下重量百分比的组分：难熔物质0.2-3wt％、铜0.5-6wt％和铝余量，所述难熔物质为熔点超过1500℃的金属或氧化物。
2.根据权利要求1所述的溅射旋转铝铜合金靶材，其特征在于，包括以下重量百分比的组分：难熔物质0.8-2wt％、铜4.5-6wt％和铝余量。
3.根据权利要求1或2所述的溅射旋转铝铜合金靶材，其特征在于，所述难熔物质包括钽、钛、钇、氧化锆中的至少一种；所述氧化锆中含有5-7wt％氧化钇。
一种高择优取向细晶超高纯铝靶材的制备方法[发明专利]
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专利名称：一种高择优取向细晶超高纯铝靶材的制备方法专利类型：发明专利
发明人：涂益友,李峰,何晗,徐文静,袁梦琪,蒋建清
申请号：CN201710416241.8
申请日：20170606
公开号：CN107119244A
公开日：
20170901
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明涉及金属材料加工技术领域，具体涉及一种高择优取向细晶超高纯铝靶材的制备方法。
包括以下步骤：将超高纯铝板材于50℃～300℃下热轧，道次压下量控制在40％～50％；将热轧后的超高纯铝板材在100～300℃温度下保温0～1小时；然后进行冷轧，道次压下量控制在40％～50％，通过对板材进行道次间空冷、水冷以及冰水冷却控制板材轧制过程的温升，抑制板材的再结晶。
最后进行100℃～300℃的再结晶退火。
优点为通过此方法可以生产平均晶粒尺寸在200um以下，晶粒取向以(100)面为主的大尺寸靶材。
申请人：东南大学
地址：211189 江苏省南京市江宁开发区东南大学路2号
国籍：CN
代理机构：南京苏高专利商标事务所(普通合伙)
代理人：柏尚春
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一种铝合金靶材及其制备方法[发明专利]
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专利名称：一种铝合金靶材及其制备方法专利类型：发明专利
发明人：芦海东,黄宇彬,童培云,朱刘
申请号：CN202210029390.X
申请日：20220111
公开号：CN114481052A
公开日：
20220513
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明提供了一种铝合金靶材及其制备方法，属于靶材制备领域。
本发明提出将铝铜铸锭旋转锻打、轧制整形、热处理得到靶材胚料。
将靶材胚料和铝合金背板进行V型齿槽加工，卡合后进行冷等静压处理和V型齿结合边缘凹面电子束焊接得到铝合金靶材。
本发明运用冷等静压处理与电子束焊接相结合的方式保证结合率高于98％。
V型齿啮合技术，增大结合面面积，大大提高结合率，同时降低人工成本，减少传统绑定能耗，提高了人员舒适性。
冷等静压处理二次循环压制工艺，极大的保证了靶材结合强度以及一定程度上减少了杂质的渗入，保证了靶材完整性。
本发明铝合金靶材适用于物理气相沉积中的应用。
申请人：先导薄膜材料(广东)有限公司
地址：511517 广东省清远市高新区百嘉工业园27-9号A区
国籍：CN
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【CN110205590A】一种超高纯铝溅射靶材及其轧制方法【专利】
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910379953.6(22)申请日 2019.05.08(71)申请人 东莞市欧莱溅射靶材有限公司地址 523000 广东省东莞市厚街镇汀山村汀山路121号(72)发明人 吴本明 文宏福 (74)专利代理机构 广州骏思知识产权代理有限公司 44425代理人 程毅(51)Int.Cl.C23C 14/34(2006.01)C23C 14/14(2006.01)(54)发明名称一种超高纯铝溅射靶材及其轧制方法(57)摘要本发明公开了一种超高纯铝溅射靶材及其轧制方法。
轧制中先将轧机辊缝设为单道次压下量一半对超高纯铝铸锭进行轧制，咬入后倒回并将辊缝设定为单道次压下量再次对超高纯铝铸锭进行轧制，通过该方法能够避免在轧制过程中出现咬入打滑现象，实现大压下量轧制。
另外，本发明还通过对咬入条件进行改善，通过对润滑剂使用、轧制温度进行控制，设定严格工艺，使轧制顺利进行同时实现大压下量轧制、提高生产率，制得的超高纯铝溅射靶材，其晶粒细小，均匀性良好，控制在150微米内，满足客户需求。
权利要求书1页 说明书4页 附图2页CN 110205590 A 2019.09.06C N 110205590A1.一种超高纯铝溅射靶材的轧制方法，其特征在于，包括以下步骤：1)将超高纯铝铸锭进行表面铣削，去除表面的氧化层；2)将铸锭放入加热炉加热至230-270℃；3)轧制：将加热后的铸锭在可逆式热轧机上进行轧制，单道次压下量为20mm，轧制时使用乳液进行润滑；首先可逆式热轧机辊缝设为单道次压下量的一半，铸锭头部咬入后停止轧制，轧辊翻转，铸锭回退至入口侧；随后调整可逆式热轧机辊缝至单道次压下量进行轧制，多次轧制得到厚度为50mm的靶坯；4)将步骤3)所得靶坯头尾铸口咬合部分切除，随后根据所需长度对靶坯进行等分，自然冷却；5)将步骤4)所得的靶坯再次加热至230-270℃，保温；6)随后进行二次轧制，控制单道次压下量为10-30mm，经单道次或多道次轧制将靶坯厚度轧制至成品厚度；终轧后立即将轧件迅速均匀冷却至室温；7)对步骤6)所制得的靶材进行热处理,热处理温度为250-270℃，保温1h，退火；8)对退火后的靶材矫平后进行铣削加工，制得超高纯铝溅射靶材。
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910379953.6
(22)申请日 2019.05.08
(71)申请人 东莞市欧莱溅射靶材有限公司
地址 523000 广东省东莞市厚街镇汀山村
汀山路121号
(72)发明人 吴本明 文宏福
(74)专利代理机构 广州骏思知识产权代理有限
公司 44425
代理人 程毅
(51)Int.Cl.
C23C 14/34(2006.01)
C23C 14/14(2006.01)
(54)发明名称
一种超高纯铝溅射靶材及其轧制方法
(57)摘要
本发明公开了一种超高纯铝溅射靶材及其
轧制方法。
轧制中先将轧机辊缝设为单道次压下
量一半对超高纯铝铸锭进行轧制，咬入后倒回并
将辊缝设定为单道次压下量再次对超高纯铝铸
锭进行轧制，通过该方法能够避免在轧制过程中
出现咬入打滑现象，实现大压下量轧制。
另外，本
发明还通过对咬入条件进行改善，通过对润滑剂
使用、轧制温度进行控制，设定严格工艺，使轧制
顺利进行同时实现大压下量轧制、提高生产率，
制得的超高纯铝溅射靶材，其晶粒细小，均匀性
良好，控制在150微米内，
满足客户需求。
权利要求书1页 说明书4页 附图2页CN 110205590 A 2019.09.06
C N 110205590
A
权 利 要 求 书1/1页CN 110205590 A
1.一种超高纯铝溅射靶材的轧制方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)将超高纯铝铸锭进行表面铣削，去除表面的氧化层；
2)将铸锭放入加热炉加热至230-270℃；
3)轧制：将加热后的铸锭在可逆式热轧机上进行轧制，单道次压下量为20mm，轧制时使用乳液进行润滑；首先可逆式热轧机辊缝设为单道次压下量的一半，铸锭头部咬入后停止轧制，轧辊翻转，铸锭回退至入口侧；随后调整可逆式热轧机辊缝至单道次压下量进行轧制，多次轧制得到厚度为50mm的靶坯；
4)将步骤3)所得靶坯头尾铸口咬合部分切除，随后根据所需长度对靶坯进行等分，自然冷却；
5)将步骤4)所得的靶坯再次加热至230-270℃，保温；
6)随后进行二次轧制，控制单道次压下量为10-30mm，经单道次或多道次轧制将靶坯厚度轧制至成品厚度；终轧后立即将轧件迅速均匀冷却至室温；
7)对步骤6)所制得的靶材进行热处理,热处理温度为250-270℃，保温1h，退火；
8)对退火后的靶材矫平后进行铣削加工，制得超高纯铝溅射靶材。
2.根据权利要求1所述的超高纯铝溅射靶材的轧制方法，其特征在于：步骤2)中所述加热炉为推进式加热炉。
3.根据权利要求1所述的超高纯铝溅射靶材的轧制方法，其特征在于：步骤3)中首次咬入前关闭热轧乳液开关，咬入后重新开启。
4.根据权利要求1所述的超高纯铝溅射靶材的轧制方法，其特征在于：步骤5)中保温时间为1h。
5.根据权利要求1所述的超高纯铝溅射靶材的轧制方法，其特征在于：步骤7)中热处理的升温速度为3.5-4.5℃/min。
6.一种超高纯铝溅射靶材，其特征在于：使用权利要求1-5任一所述的方法轧制所得。
2。