超纯水电子行业级介绍

什么是“超纯水”？收藏这篇文章就够了

什么是“超纯水”？收藏这篇文章就够了超纯水作为电子行业的常用术语，是指几乎完全去除水中的导电介质，去除水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。

超纯水的电阻率大于18MΩ·cm，接近18.3MΩ·cm极限值。

尽管各行业都在使用“超纯水”，但其质量、标准各不相同。

首先，标准不同。

超纯水可分为国标《电子级水》和美标《电子和半导体超纯水质标准》。

其次，应用领域不同。

与普通净水器用于净化生活用水不同，超纯水一般用于科研、工业制造等优质用水领域。

再者，工艺技术不同。

前者是通过PP棉、颗粒活性炭、精密压缩活性炭、反渗透(RO)膜/超滤膜、后置活性炭五级滤芯过滤，滤除细菌(0.4-1μm)、病毒(0.4-0.02μm)、重金属离子等有害物质，制得达到生饮标准的饮用水，属于分子级过滤。

后者是一般工艺难以达到的程度。

需要将微滤技术、超滤技术、反渗透技术、EDI技术、离子交换技术中的两种及以上的技术，在各级滤芯、控制元件、增压泵、紫外灯的共同作用下，制备出符合实验要求的超纯水，属于离子级过滤。

莱特莱德超纯水系统采用反渗透膜技术，在改善水质方面发挥着非常重要的作用。

“超纯”强调水中各种污染物被去除至近乎于零的含量，不同于常用术语“去离子水”，除了常规指标(电导率或电阻率)外，还包括有机物和无机化合物、溶解和颗粒物、细菌和溶解气体等指标。

电子工业用超纯水设备技术简介及应用

电子工业用超纯水设备技术简介及应用EDI技术简介
EDI技术是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。

它通过使用由离子膜、离子交换树脂组成的基本单元——膜组件，在直流电的作用下，无需使用酸碱对树脂进行再生，即可连续不断的长期运行，稳定可靠的制备超纯水。

EDI相比其他水处理方法，具有结构紧凑、占地面积小、运行稳定、产水品质高、回收率高、无酸碱再生、运行费用低等优点。

EDI超纯水设备的电气控制中心;可自动监测各种运行参数;其中操作系统的运行状态。

电子工业用水 (水质符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准(18MΩ*cm，15MΩ*cm，10MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm 五级) 。

应用场合
· 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;
· 超纯材料和超纯化学试剂;
· 实验室和中试车间
· 汽车、家电表面抛光处理;
· 其他高科技精微产品。

电子工业用常见的基本工艺流程
●预处理-反渗透- 水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水点
●预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级电子工业用水反渗透(正电荷反渗膜)-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水点
●预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象
●预处理-二级反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水点 (最新工艺)。

太阳能光伏电池行业超纯水概述

太阳能光伏电池行业超纯水概述
一、概述
太阳能光伏电池行业超纯水是一种采用精密膜分离法技术，以去除高纯度水中的微量杂质，而得到的水质纯度超过18.2MΩ·cm的极其纯净的水或溶液。

超纯水的纯度超过了许多其他水源的技术要求，因此，在太阳能光伏电池行业，超纯水被广泛应用于制造、检验、清洗、腐蚀和其他工艺过程中。

二、主要用途
1、清洗：超纯水可用于清洗太阳能光伏电池行业的多种组件，其中包括电池片、太阳能元件、阴极极板、电池组件、铝合金片和封装物等。

其优点是，超纯水不会对太阳能光伏电池行业的组件产生污染或腐蚀，且可以有效地去除表面油脂和污渍。

2、检测：由于超纯水的溶解度达到18.2MΩ·cm，因此，它也可以用于太阳能光伏电池行业的检测和检验工作，其中包括太阳能电池材料、电子元件等。

3、腐蚀：超纯水可用于电池和太阳能元件表面的腐蚀，以获得更好的焊接性能和更高的电压密封性能。

4、制造：超纯水在太阳能光伏电池行业也被广泛用于精密制造过程中，如热处理过程中，可以在烧结过程中制备高质量的绝缘陶瓷产品，以及在太阳能光伏电池制造过程中，制备高质量的电池片。

三、应用注意事项
1、使用超纯水需要注意，如果水源的杂质含量较高，则应使用
更高纯度的水，以便使用较高的纯度水，从而提高工作质量。

2、超纯水要与太阳能光伏电池行业使用的其他原料进行综合使用，以保证良好的工作质量。

3、超纯水的使用要严格按照生产厂家的要求和规范，以保障太阳能光伏电池行业产品的质量。

电子工业超纯水设备工艺及应用领域描述

电子工业超纯水设备工艺及应用领域描述一、概述电子、半导体、液晶显示、光伏工业生产在制作过程中，往往需要使用极其纯净的超纯水设备制水。

在光伏行业电子管生产中，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命，在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，如其配制纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪动并会造成气泡、条迹、漏光点等次品。

因此水的质量相当重要。

二、应用领域1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品;2、超纯材料和超纯化学试剂;3、实验室和中试车间;4、汽车、家电表面抛光处理;5、光电子产品;6、微电子产品、显像管制造业;7、蓄电池、锂电池、太阳能电池、干电池;8、其他高科技精微产品;三、工艺流程方案1 预处理系统→复床系统→混床系统→后处理系统→用水点方案2 预处理系统→RO 系统→混床系统→后处理系统→用水点方案3 预处理系统→RO系统→EDI系统→后处理系统→用水点四、出水水质符合美国ASTM标准、符合中国实验室用水国家标准GB6682-2000(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)五、订货须知具体的设备处理量、出水标准、设备材质、尺寸及电器控制等将会提供给您详细的方案说明。

温馨提示：水处理设备的要求需要了解几点内容：1、纯水的产水量(按每小时计，算)2、纯水要求的水质(例如多少兆欧)3、原水进水水质是什么水(例如自来水，地表水，深井水)4、制作纯水的工艺(工艺不一样价格也不一样)5、用于生产什么产品(例如电池片，蓄电池，玻璃行业，化妆品行业，化工行业等)6、配置的品牌及控制方式(PLC自动控制，手动控制)型号和数量等。

微电子行业超纯水设备知识简介

微电子行业超纯水设备知识简介现在随着微电子行业的不断兴起和迅猛发展，微电子行业的用水标准要符合行业的用水标准。

现在的微电子行业用水标准很高。

作为权威的超纯水设备生产厂家，还提供化妆品行业超纯水设备等。

半导体，集成电路，大规模和超大规模电子元件，微电子，电子芯片，单晶硅，多晶硅等行业的用水，国家按照电子级别的用水的水质分成了五个标准，这五个标准分别是18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，具体的来区分水质。

微电子行业生产用水工艺流程1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点。

2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点。

3、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的方式，这是一种制取超纯水的最新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点。

现在微电子行业用超纯水的工艺就是这三种，其他的工艺流程都是根据这三种来搭配的，要根据自己的生产情况选择适合的工艺流程。

莱特莱德微电子行业生产用超纯水设备报价适宜，经济实惠。

企业率先通过了ISO900质量认证的体系。

多年的生产经验，不断积累丰富的经验。

和很多的国内外水处理行业的公司有合作。

引进美国，韩国等发达国家的高级水处理技术，不断的创新。

本着质量求发展，科技求创新的目标不断的努力。

产品远销国外很多的国家，远到欧美国家，进到国内和东南亚国家。

电池行业用超纯水概述

电池行业用超纯水概述电池行业用超纯水包括蓄电池生产用超纯水，锂电池生产用超纯水，太阳能电池生产用超纯水，蓄电池格板用超纯水。

电池中电解液的配备对纯水要求十分严格, 通常要求水的电导率在0.1us/cm(电阻率在10兆欧姆)以上，传统用来制备电池用超纯水的工艺是常采用阴阳树脂交换设备，该工艺的缺点在于阴阳树脂在使用一段时间以后要经常再生。

电池行业用超纯水设备的工艺流程：采用离子交换方式流程如下：水源水→源水增压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点采用两级反渗透方式流程如下：水源水→源水增压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透主机→PH调节→中间水箱→第二级反渗透主机(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点采用电去离子EDI方式流程如下：水源水→源水增压泵→双室过滤器→软水器→中间水箱→低压泵→精密过滤器→一级反渗透主机→EDI系统→微孔过滤器→用水点目前制备电池行业用超纯水的工艺基本上是以上三种，其余的工艺流程大都是在以上三种基本工艺流程的基础上进行不同组合搭配衍生而来。

现将他们的优缺点分别列于下面：1、第一种采用离子交换树脂其优点在于初投资少，占用的地方少，但缺点就是需要经常进行离子再生，耗费大量酸碱，而且对环境有一定的破坏性。

2、第二种采用两级反渗透设备，其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高，但无须树脂再生。

其缺点在于相关膜原件需定期清洗或更换，水质相对来说不是太高，大都只能做到1us/cm左右，所以在不质要求更高的时候常采用一级反渗透后面再用混床(阴阳复床)把关。

3、第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置，这是目前制取超纯水最经济，最环保的超纯水制备工艺，不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，对环境没什么破坏性。

其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。

电子厂厂房超纯水系统简介

By Lizy
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为达此目标，找出方法将生产过程中杂质和尘粒污染最小
化是必须的，亦即杂质和尘粒不应在制程中被产生或黏着于任何表面上。换言之，整个生产环境，包含材料、夹具( j i g s，e.g., cassettes andc h u c k s )、操作员、和机械手臂，即生产时晶圆所暴露的区域：晶圆制程区、传输、和储存等都需要严格的洁净(cleanliness) 与纯度(purity) 标准。然而，对移除晶圆表面污染物这样是不够有效的，也因此洁净制
密度骤然降低，对于大部分液体，密度随温度降低而增加，且当其
变成固体时，密度会再增加。
By Lizy
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By Lizy
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当具有较微小图案之组件的积集度持续增加时，晶圆表
面的微小缺陷( m i n u t edefects) 和微量杂质(trace impurities) 将更严重影响其性能( p e r f o r m a n c e )，它们会劣化元件的特性与可靠度( r e l i a b i l i t y )，进而降低ULSI 电路生产的良率 ( y i e l d )。晶圆表面的污染不只损害晶圆基板与组件的质量，堆积障碍(oxidation-induced stacking faults ，O S F )、和氧化物崩溃缺陷等。组件常受这些缺陷(defects) 和污染(contamination)
的影響，且缺陷和污染合并的效应对组件的损害也常常相当严重，例如研究者发表每一O S F的不同漏电流值(leakage current per OSF)，如表二[ 1 ]所示，不同数值可归因于在不同的O S F有不同程度的污染，
By Lizy
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简言之，污染的程度构成漏电流的一主要因素。表三[1 ]为晶圆表面与组件失效(device failure)的相互关系，如微尘(fine particle) 将在微影程产生图案偏差(pattern failure)、介电质上残余的有机合成物( o rga compound) 将使内存(memory) 的中止时间失效(pause timef a i l u r e n 接面(p-n junction) 上的细菌( b a c t e r i a )会导致接面漏电流(juncti leak)、碱金属(alkaline metal) 易造成介电质崩溃强度[崩溃电压] (diel breakdown) 的降低、和重金属(heavy metal) 会缩短少数载子寿命(m carrier lifetime) 进而影响组件的效率等。假设在组件主动区域(active 的缺陷和污染可能导致一个缺陷组件，一个组件的良率(the yield of device，Y) 可以波松分布(Poisson distribution)来估算：Y = e( - D A )，缺陷密度(defect density)，A：每一芯片的主动区域面积(active area chip)。图二[ 1 ]展示动态随机存取内存( D R A M )每一世代的芯片尺 (chip size) 和记忆胞尺寸( c e l ls i z e )，如图所示，主动区域面积随芯寸加大而增大。图三[ 1 ]显示缺陷密度与组件良率的相互关系，严谨制缺陷密度以维持相同的组件良率是必须的，例如：对于6 4M，缺度应被降低到4M 缺陷密度的一半或以下。

超纯水机电导率级别-概述说明以及解释

超纯水机电导率级别-概述说明以及解释1.引言1.1 概述在撰写本文之前，我们首先来了解一下超纯水机电导率的概念。

超纯水机电导率是衡量水质纯净程度的重要指标之一。

在许多应用领域，如实验室实验、电子工业、制药行业等，需要使用高纯度的水。

超纯水机电导率是评价水质纯净程度的重要参数之一。

超纯水是指在水样中只含有极少量的杂质的水。

由于水分子的存在，纯净的水也会具有一定的电导率。

超纯水机电导率是测量超纯水中存在的电离物种（如阴离子和阳离子）数量的方法之一。

超纯水机电导率的级别划分通常以电导率值为依据。

电导率值越低，表示水中的杂质含量越少，水质越纯净。

根据国际标准，超纯水机电导率可以分为多个级别，从最高级别的蒸馏水（电导率小于1 μS/cm）到一般级别的纯净水（电导率小于10 μS/cm），再到更高级别的超纯水（电导率小于0.1 μS/cm）等。

超纯水机电导率在许多领域有着广泛的应用。

在实验室实验中，需要高纯度的水来保证实验结果的准确性。

而在电子工业中，超纯水被广泛应用于半导体芯片的制造过程中，以保证电子产品的质量。

此外，制药行业、医疗机构等领域也需要使用超纯水来确保产品的安全性和有效性。

总结来说，超纯水机电导率是衡量水质纯净程度的重要指标之一。

其级别划分和应用领域广泛，对于许多行业都具有重要意义。

在接下来的正文部分，我们将详细介绍超纯水机电导率的定义原理、级别划分以及其在不同领域的应用。

1.2 文章结构本文旨在介绍和探讨超纯水机电导率级别的相关内容。

文章结构如下：引言部分将概述超纯水机电导率级别的重要性，并阐明文章的目的。

同时，也会对后续内容进行总览。

正文部分将包括三个章节：2.1 超纯水机电导率的定义和原理本章节将介绍超纯水机电导率的定义和原理。

首先将解释超纯水机电导率的概念，即用于衡量水质纯净程度的指标。

然后将详细阐述超纯水机电导率的原理，包括电导和电阻的关系、离子浓度对电导率的影响等内容。

2.2 超纯水机电导率的级别划分在这一章节，将介绍超纯水机电导率的级别划分方式。

超纯水设备在电子行业的应用

超纯水设备在电子行业的应用1.电子行业超纯水设备概述电子、半导体工业的芯片生产在制作过程中，往往需要使用极其纯净的超纯水。

如果纯水水质达不到生产工艺用水的要求或者水质不稳定的话，会影响到后续工艺的处理效果和使用寿命。

此外，晶元清洗和机械碾磨过程中都会产生废水，造成对环境的污染。

通过使用超滤、反渗透、EDI和核子级离子交换系统来生产满足需求的超纯水。

并将生产过程中所产生的废水经过膜系统的处理进行回收再利用，在很大程度上减少了电子、半导体行业的用水量、降低了生产成本。

超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路超纯水水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

电子行业如导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。

集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

科瑞超纯水设备设计优势简介此超纯水设备系统采用当今最先进的全自动双级反渗透+EDI+抛光混床超纯水处理技术，前置预处理配套使用加反渗透处理，有效去除水中各种盐份及杂质，然后运用EDI及抛光混床系统，进一步提升水质，使出水达到用水工艺要求；系统采用全自运控制，科瑞设备具有产水水质稳定、操作简便、运行费用低、维护方便等优点，广泛应用于工业水处理等相关行业。

科瑞成功合作案例有：IBM、东风日产、比亚迪、来宝高科、中广核、中核集团、四川华都核电设备、中国电子工程等世界500强企业以及行业知名企业。

相关案例超纯制取工艺流程请进入我站查询。

2.电子行业超纯水设备工艺流程电子行业水处理设备的工艺大致分成以下几种：二级反渗透（RO2）：原水——预处理——级反渗——二级反渗透——纯水箱——0.22μm精密过滤器——纯化水一级反渗透+混床树脂（RO+MB）：原水——预处理－——渗透装置——混床树脂－——制混床树脂——后处理——超纯水一级反渗透+EDI装置（RO+EDI）原水——预处理——反渗透装置——EDI装置——后处理——超纯水一级反渗透+EDI装置+混床树脂（RO+EDI+MB）原水——预处理——反渗透装置——EDI装置——精制混床树脂——后处理——超纯水3.电子行业超纯水设备出水标准中国电子行业超纯水国家标准GB/T11446.1-1997实验室用水国家标准GB6682-2008美国半导体工业用纯水指标美国试验级用水标准ASTM/NCCLS4.电子行业超纯水设备应用范围半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路超纯材料和超纯化学试剂、光导纤维、光盘LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、EL、TFT、玻壳高品质显像管、萤光粉生产实验室和中试车间汽车、家电表面抛光处理光电产品。

电子工业用超纯水设备技术及应用

电子工业用超纯水设备技术及应用发布时间：2023-03-06T02:27:29.394Z 来源：《中国电业与能源》2022年20期作者：金万明[导读] 超纯水是把水中所有的电解质都除金万明青海黄河水电开发有限责任公司西宁太阳能电力分公司邮编：810000摘要: 超纯水是把水中所有的电解质都除去，使悬浮物，微生物，微粒，有机物，溶解气体等降低到最低限度。

在25℃条件下，超纯水的理论电阻率为18.25 M. cm.在电子行业中，生产的超纯水主要应用在晶片制造、一般机台用水、设备零件清洗、化学品稀释等方面。

其中，生产用水主要是酸洗、有机溶剂清洗、黄光显影清洗、机械研磨清洗等。

利用脱离子、反渗透、离子交换等技术，制备了一种新型的超纯水。

文章着重对超纯水在电子行业中的应用进行了分析。

关键词:电子工业;超纯水;技术;应用在半导体、集成电路、液晶显示、微电子工业、高精度线路板、光电器件等行业中，半成品和成品都要用大量的超纯水清洗。

水中的杂质会对产品的品质产生一定的影响。

重金属会使氧化薄膜绝缘变差，从而缩短使用寿命。

无机物质会产生杂质，使薄膜后的不均匀性和加速侵蚀。

溶解氧可引起纯水细菌，从而恶化树脂，从而影响薄膜的厚度。

有机物质会使晶圆表面产生氧化和晶体缺陷，使器件的性能下降，从而造成蚀刻的不均和净化效果差。

1超纯水水质要求超纯水产水质量的检测依据见表1?表1超纯水产水质量的检测依据其他技术指标的水质检测结果应符合GB/T11446.1—2013《电子级水》给出的指标范围,水质评价等级为EW-I? 2超纯水设备技术和应用分析 2.1多介质过滤器 MMF用于除去原水中的悬浮物和胶体。

水里的悬浮颗粒或凝胶颗粒，由于它们的表面带着负电荷，互相排斥，加入具有相反电荷的FeCl3/PAC，将电荷中和，使水中的凝胶和悬浮物质聚集在一起，形成更大的絮状体，由过滤器进行过滤。

长时间的使用，会在无烟煤层中积累大量的絮凝物，增大了水流的阻力，从而降低了过滤的效率，这时采用简易的反冲洗措施，可以在较短的时间内恢复过滤能力。

电子级超纯水中国国家标准GBT11446

中华人民共和国国家标准GB/T 11446.1-1997电子级水代替GB 11446.1--89Electronic grade water1 范围本标准规定了电子级水的级别、要求、试验方法和检验规则.本标准适用于电子元器件生产和清洗用水．2 引用标准下列标准所包含的条文，通过在本标准中引用丽构成为本标准的条文．本标准出版时，所示版本均为有效．所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性．GB/T 11446.3——1997 电子级水测试方法通则GB/T 11446.4——l997 电子级水电阻率的测试方法GB/T 11446.5——1997 电子级水中痕量金属的原子吸收分光光度测试方法GB/T 11446.6——1997 电子级水中二氧化硅的分光光度测试方法GB/T 11446.7——1997 电子级水中痕量氯离子、硝酸根离子、磷酸根离子、硫酸根离子的离子色谱测试方法GB/T 11446.8——1997 电子级水中总有机碳的测试方法GB/T 11446.9——1997 电子级水中微粒的仪器测试方法GB/T 11446.10——1997 电子级水细菌总数的滤膜培养测试方法3 定义本标准采用下列定义．3.1电子级水electronic grade water制造电子元器件工艺过程中所用的高纯水．3.2电阻率resistivity在规定温度下,1 cm²水溶液两相对面之间测得的电阻值．通常用符号P表示，单位为Ω﹒cm，纯水的理论电阻率为18.3 MΩ﹒cm (25℃)．3.3全硅total silicon水中可溶性硅和以二氧化硅胶体状态存在的硅的总量．3.4可溶性硅soluble silicon以单一分子状态存在于水中的溶解性硅酸盐．3.5微粒性物质granular matter除气体以外，以非液态分散在水中，并形成非均相混合物的物质．3.6总有机碳(TOC) total organic carbon水中以各种有机物形式存在的碳的总量．包括易被一般强氧化剂氧化的有机物和需用特殊方法氧化的有机物。

电子级超纯水设备的七大性能优势介绍

电子级超纯水设备的七大性能优势介绍
2020年2月10日
电子级超纯水设备因其系统操作简单、使用方便、占地面积小、无化学污染等优点被很多企业用户所喜爱，那么为了让更多用户更简单明了的了解电子级超纯水设备系统的特点及优势，这里就为您解析一下电子级超纯水设备的七大性能优势：
1、无化学污染
持续的树脂电解再生使得无需用腐蚀性很强的化学品，如果前级RO系统运作正常，则极少需要清洗。

2、连续再生
连续再生替代了间歇式再生，这就不再需要备用离子交换设备。

每个模块都可以独立进行化学清洗，剩余的模块可以承担短期的高流量。

3、启动/操作简单
与混床的间歇式再生相比，不再需要再生操作。

电子级超纯水设备操作简单，所需阀门少，同时也无需操作者花费很大精力，操作只需简单的分析和控制。

4、模块更换方便
模块的一般寿命高于3-5年，备用模块储存方便。

外围的铝板能很好的保护模块、管道和食品不受损坏。

更换电子级超纯水设备模块简单、快捷。

5、产水纯度更高
在进水低于40us/cm时，产水一般超过10~15MΩ.cm(25℃)，不受产水量波动的影响。

6、回收率更高
如果水的硬度以CaCo3计小于1ppm时，回收率可达到90-95%。

7、占地面积小
电子级超纯水设备系统与混床相比在相同流量处理能力的条件下占地面积要小的多，约为1/10。

这种为客户着想的设计是通过省去巨大的再生储存和废水中和系统而得以实现的。

总而言之，电子级超纯水设备系统操作简单、使用方便、占地面积小、无化学污染等性能优势，为广大用户带来了极大的方便。

超纯水设备在电子行业中的应用

超纯水设备在电子行业中的应用
我们日常生活中离不开的电子设备，其生产过程也离不开一种叫超纯水的东西。

超纯水作为电子制造中常见水，其制备离不开电子超纯水设备。

该设备可以保证电子产品所需超纯水高质量的产出，从而确保适用电子制造中硅片、半导体材料、晶元材料等清洗使用。

所以，电子超纯水设备广泛地用于电子行业中。

电子超纯水设备由预处理系统，加上反渗透系统与EDI电除盐系统，组合产出高品质的超纯水。

该设备中的反渗透系统的低压管路部分，再到EDI装置进水均采用UPVC管路，反渗透高压管路则采用承压好的不锈钢管，从而确保设备稳定运行。

该电子超纯水设备会采用非常合理的工艺设计，并且其占地面积非常小，可以为企业节省很多空间，这样专业的设备在出厂前均会进行装置调试，所以设备故障几率较小，在使用中注意日常保养、维修就可以更好地延长使用寿命，稳定产出超纯水。

并且设备中还会采用反渗透预脱盐技术，可以保证不会在制备中产生二次污染，保障了设备的出水水质。

并且这样的超纯水制取设备，在制备超纯水过程中废水产出量少，避免了对水体环境造成污染。

总体来说，电子超纯水设备是一款具有较高的环境效益、经济效益的制备产品，可以有效去除水中各种盐分及杂质，进一步提升水质，超纯水水质符合电子行业生产用水要求，所以其发展前景广阔。

电子级超纯水标准

EW－Ⅱ
EW－Ⅲ
EW-Ⅳ
电阻率MΩ，cm(25℃)
18以上，（95％时间）不低于17
15，（95％时间）不低于13
12.0
0.5
全硅，最大值,μg/L
2
10
50
1000
＞1μm微粒数，最大值，个/mL
0.1
5
10
500
细菌个数，最大值，个/mL
0.01
0.1
10
100
铜，最大值，μg/L
0.2
1
2
500
0.1
铜 ≤μg/L
0.2
1
锌 ≤μg/L
0.2
1
镍 ≤μg/L
0.1
1
钠 ≤μg/L
0.5
2
钾 ≤μg/L
0.5
2
氯 ≤μg/L
1
1
硝酸根 ≤μg/L
1
1
磷酸根 ≤μg/L
1
1
硫酸根 ≤μg/L
1
1
总有机碳 ≤μg/L
20
100
中国国家电子级超纯水GB/TII446.1－1997标准
指标\级别
EW－Ⅰ
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新闻动态
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水质标准
※
行业知识
水质标准
中国电子行业超纯水国家标准
(GB/T11446.1-1997 )
指标名称
一级水（EW-1）
二级水（EW-2）
电阻率MΩ.CM.（25℃）
18(95‰时间)不低于17
15(95‰时间)不低于13
硅 ≤μg/L
2
10
微粒数＞1μm
0.1
5
细菌个数 ≤个/ml

电子行业中EDI超纯水设备的应用.

电子行业中EDI超纯水设备的应用目前,各行各业对水质的要求千差万别,电子行业发展迅速,特别是在我国,EDI超纯水设备电子行业的需求不断增加,而且对水质的要求也越来越严格,所以需要原水超纯水设备深度处理采用EDI。

介绍了电子级超纯水设备。

电子产业超纯水装备制备超纯水工艺有以下3种:1、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床(复床→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床(复床→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点3、采用反渗透设备与电去离子(EDI设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式,这是一种制取超纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点电子产业超纯水装备特性电子工业超纯水系统设备无需过多的人工操作,省时省力,能节省大量人力,在工艺选材上也比其他工艺具有优势,这些特性使得电子工业超纯水设备跟其他同类产品相比具有更高的实用价值。

为了保证EDI超纯水设备的连续制水,提高系统运行的稳定性,EDI装置通常采用模块化设计,即利用若干个一定规格的EDI膜块组合成一套EDI装置.如果其中的一个模块出现故障,在不影响装置运行的情况下,可以方便地对故障模块进行维修或更换处理.另外,模块化的设计方式还可以使装置保持一定的扩展性。

按结构形式分类EDI膜块作为EDI装置的核心部件,其设计参数是保证EDI装置整体运行性能的关键。

EDI膜块按其结构形式可分为板框式及螺旋卷式等两种。

板框式EDI模块板框式EDI膜块简称板式模块,它的内部部件为板结框工结构,主要由阳、阴电极板板、极框、离子交换膜、淡水隔板、浓水隔板及端板等部件按一定的顺序组装而成,设备的外形一般为长方形或圆形。

电子工业超纯水设备的工艺和应用(精)

电子工业超纯水设备的工艺和应用一、简介超纯水是指经过处理的水，可以达到最低的离子、有机物含量，以及低微的细菌、化学物质和颗粒物质含量的水。

它是生产半导体、微电子、纳米技术、仪器仪表等高科技产品的必备原材料。

电子工业超纯水设备是用于制备超纯水的生产设备，具有杂质去除、水质稳定可靠、节能环保等优势，是高科技工业发展的关键装备之一。

二、超纯水制备工艺超纯水的制备过程主要包括预处理、反渗透、电离交换和混床处理等步骤。

1. 预处理超纯水的预处理过程是指将自来水、地下水等作为原水，经过过滤、消毒、脱氯、软化等物理化学处理，去除有机和无机物质等杂质。

这一步骤是超纯水制备的前置步骤，对后续处理质量具有重要的影响。

2. 反渗透反渗透是一种常见的分离技术，主要是利用半透膜的物理性质，将水和溶质分离开来。

在超纯水的制备过程中，反渗透技术可以去除水中大部分的离子、杂质、有机和无机物质。

同时，反渗透膜的使用也降低了后续电离交换工艺的使用量，减少了成本。

3. 电离交换电离交换技术是一种用于除去小分子离子的工艺，通过在离子交换树脂中通入交换剂，使得溶液中的正离子和负离子与树脂上的交换剂发生置换作用。

在电离交换的过程中，不同种类的离子会被吸附或释放，因此可以通过电离交换技术去除水中难以被其他技术去除的溶质。

在电离交换的过程中，通常会使用氢型和氢氧型的交换树脂，分别去除阳离子和阴离子。

4. 混床处理混床处理是一种将阳离子和阴离子交换树脂混合使用的工艺，同时去除水中残留的溶质物。

当阳离子交换树脂和阴离子交换树脂混合使用时，可以形成一个混床，水通过混床会被过滤、降低电导率，提高水的纯度。

三、应用超纯水在现代电子工业中应用广泛，主要用于以下几个方面：1. 半导体生产超纯水是半导体制造过程中无可替代的物质，它作为半导体芯片加工的溶剂和清洗剂、掺杂剂的稀释剂，确保芯片制作过程中的无尘、无细菌、无离子、无有机物等严苛要求，保证器件的性能、可靠性和寿命。

电子和半导体行业超纯水标准指南

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电子超纯水

电子超纯水纯度极高的水。

集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。

此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。

一、简介超纯水：既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。

电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值（25℃）。

超纯水，是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm（25℃）。

超纯水是美国科技界为了研制超纯材料（半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等）应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，这种水中除了水分子（H20）外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，一般不可直接饮用，对身体有害，会吸出人体中很多离子。

二、基本概况纯度极高的水。

集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。

此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水。

超纯水是指下列杂质含量极低的水：①无机电离杂质，如Ca、Mg、Na、K、Fe2+、Fe3+、Mn、Al、HCO、CO、SO、Cl、NO、NO、SiO、PO等；②有机物，如烷基苯磺酸、油、有机铁、有机铝以及其他碳氢化合物等；③颗粒，如尘埃、氧化铁、铝、胶体硅等；④微生物，如细菌、浮游生物和藻类等；⑤溶解气体，如N2、O2、CO2、H2S等。

超纯水中电离杂质的含量用水的电阻率数值来衡量。

理论上，纯水中只有H离子和OH离子参加导电。

在25℃时超纯水的电阻率为18.3（兆欧·厘米），一般约为15～18（兆欧·厘米）。

电子行业EDI超纯水设备简介

电子半导体工业EDI超纯水设备介绍超纯水，既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。

电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值。

超纯水，是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm。

超纯水最初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，这种水中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质。

成都碧海康环保科技有限公司设计研发的电子半导体工业EDI超纯水设备，采用最先进的多级预处理+双级RO反渗透+EDI+混床抛光技术，根据不同用户的需要，定制设计不同产水水质要求和不同产水流量要求的超纯水设备，设备产水量0.2-10吨/小时，制备的超纯水完全符合中国国家实验室用水GB6682-2008标准，对于特定领域的特殊要求，可设计产水水质达到18.25MΩ的极限超纯水设备。

应用领域超纯水设备适合电子半导体、生物制药等行业，以及原子吸收光谱、原子发射光谱、高效液相色谱、离子色谱、质谱分析、ICP等离子发射光谱等的微量分析及配置，稀释分析试剂等一般化学实验室的应用，也适合于精密光学镜片及感光胶片冲洗等行业用的纯水和超纯水。

设备特点1.0.2-10吨/小时产水量的中型超纯水设备预处理和反渗透单元所有管件、配件采用304不锈钢，EDI和抛光除盐系统所有管件、配件采用卫生级内外抛光无死角的无菌316L不锈钢，保证水质的同时，坚固耐用，抗腐蚀。

2.主要部件采用国际知名品牌，保证优良的产水水质。

3.超纯水设备的电路和水路彻底分离，避免因内部潮湿、漏水引起的电路老化损坏。

4.先进的微电脑控制以及参数修改、提示功能，运行状态和产水水质在线显示，操作简单、快捷。

中国电子行业超纯水国家标准

0.1
1
2
500
钠，最大值，μg/L
0.5
2
5
1000
钾，最大值，μg/L
0.5
2
5
500
氯，最大值，μg/L
1
1
10
1000
硝酸根，最大值，μg/L
1
1
5
500
磷酸根，最大值，μg/L
1
1
5
500
硫酸根，最大值，μg/L
1
1
5
500
总有机酸，最大值，μg/L
20
100
200
1000
中国实验室用水国家标准
实验用三个等级净化水的技术要求(GB6682－1992)：
一级水：基本上不含有溶解或胶态离子杂质及有机物。它可用二级水经进一步处理而制得。
二级水：可含有微量的无机、有机或胶态杂质。
三级水：适用一般实验室实验工作。
指标名称
一级
二级
三级
pH值范围（25oC )
—
—
5.0-7.5
电导率（25oC )(μs/cm)≤
中国电子行业超纯水国家标准
(GB/T11446.1-1997 )
指标名称
一级水（EW-1）
二级水（EW-2）
电阻率MΩ.CM.（25℃）
18(95‰时间)不低于17
15(95‰时间)不低于13
硅 ≤μg/L
2
10
微粒数＞1μm
0.1
5
细菌个数 ≤个/ml
0.01
0.1
铜 ≤μg/L
0.2
1
锌 ≤μg/L
0.1
1.0
5.0
可氧化物的限度试验