现代材料分析方法(04-EXAFS)

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材料现代研究方法-X射线分析04-1

材料现代研究方法-X射线分析04-1
1)Powder Diffraction File(PDF) File(PDF) JCPDSJCPDS-International Centre for Diffraction Data (ICDD) 粉末衍射标准联合会(The 粉末衍射标准联合会(The Joint Committee of Powder Diffraction Standard) 2)中科院贵阳地化所“矿物X射线粉晶鉴定手册” 中科院贵阳地化所“矿物X射线粉晶鉴定手册” 3)辽宁地质局“矿物X射线鉴定表” 辽宁地质局“矿物X射线鉴定表” 4)北京钢铁总院“钢和合金中常见相X射线鉴定手册” 北京钢铁总院“钢和合金中常见相X射线鉴定手册” 5)文献数据 6)自制标准
3. PDF卡片及PDF卡片索引 PDF卡片及 卡片及PDF卡片索引
1) PDF卡片 PDF卡片 1938年 哈那瓦特(J. 1938年,哈那瓦特(J. D. Hanawalt)将已知物相衍射花 Hanawalt)将已知物相衍射花 样特征(位置与强度) 样特征(位置与强度)用 d和 I(相对强度)数据组表达, 相对强度)数据组表达, 并制成相应的物相衍射数据卡片。 并制成相应的物相衍射数据卡片。 卡片1943年由 美国材料试验学会(ASTM)”出版, 年由“ 卡片1943年由“ 美国材料试验学会(ASTM)”出版,每 ASTM卡片 卡片。 年1 集,称ASTM卡片。 1969年由英 1969年由英、法、 加等国际组织“粉末衍射标准联合 年由英、 加等国际组织“ (JCPDS)”编辑出版“粉末衍射卡片” PDF卡片 卡片。 会(JCPDS)”编辑出版“粉末衍射卡片”,称PDF卡片。
µ—物质的线吸收系数(Fe对 FeKα 560 cm-1) 物质的线吸收系数(Fe对
表面极薄一层物质对衍射峰有贡献; 表面极薄一层物质对衍射峰有贡献; 4) 注意试样表面处理和防护,不能有应力和杂物; 注意试样表面处理和防护,不能有应力和杂物; 5) 当某种组成相含量较少时,最好用萃取方法提取其粉末。 当某种组成相含量较少时,最好用萃取方法提取其粉末。 萃取方法提取其粉末

材料现代分析方法

材料现代分析方法

材料现代分析方法一.绪论1.材料现代分析方法:是关于材料成分、结构、微观形貌与缺陷等的现代分析,测试技术及其有关理论基础的科学。

2.基于电磁辐射及运动粒子束与物质相互作用的各种性质建立的各种分析方法已成为材料现代分析方法的重要组成部分,大体可分为光谱分析、电子能谱分析、衍射分析与电子显微分析等四大类方法。

3.各种方法的分析、检测过程均可大体分为信号发生器、检测器、信号处理器与读出装置等几部分组成。

二.核磁共振1.核磁共振(Nuclear Magnetic Resonance,NMR):无线电波照射样品时,使特定化学结构环境中的原子核发生的共振跃迁(核自旋能级跃迁)。

2.拉摩尔进动:外磁场与核自旋磁场的相互作用,导致核自旋轴绕磁场方向发生回旋,称为拉摩尔进动。

3.核磁共振现象的产生机理:主要是由核的自旋运动引起的,核的自旋产生了不同的核自旋能级,当某种频率的电磁辐射与核自旋能级差相同时,原子核从低自旋能级跃迁到高自旋能级,产生了核磁共振现象。

4.描述核自旋运动的量子数I与原子核的质子数和中子数有关,有下列三种情况:(1)偶-偶核,I=0;(2)奇-偶核,I为半整数;(3)奇-奇核,I为整数。

5.核磁共振的条件:(1)原子核有自旋现象(I﹥0);(2)在外磁场中发生能级裂分;(2π)。

(3)照射频率与外磁场的比值υB=γIB。

6.1H核磁共振条件:υO=γI2π7.化学位移:某一质子吸收峰出现的位置,与标准物质质子吸收峰出现的位置之间的差异,称为该质子的化学位移δ。

8.化学位移现象:同一种类原子核,但处在不同的化合物中,或是虽在同一种化合物中,但所处的化学环境不同,其共振频率也稍有不同,这就是所谓的化学位移现象。

9.影响化学位移的因素:诱导效应、共轭效应、磁各向异性效应、氢键效应和溶剂效应。

质子周围电子云密度↑,屏蔽效应↑,在较高磁场强度处(高场)发生核磁共振,δ小;电子云密度↓,屏蔽效应↓,在较低磁场强度处(低场)发生核磁共振,δ大。

现代材料分析方法

现代材料分析方法

1、怎么对未知材料进行分析?先选择测试方法,对于有机材料主要选择IE(红外)等进行材料的成分分析,对于无机材料的话可以选择XRD,SEM和XRF等对材料的成分和结构进行分析。

成分及物相分析:首先利用XRD初步确定材料的主要成分。

微观形貌测试与表征:在用扫描电镜进行样品表面及断口的微观形貌。

并利用SEM 上配备的能谱仪(EDS)进行能谱定点分析。

热分析:再利用DSC来进行热分析。

2、用扫描电镜观察样品表观形貌,选用样品时必须考虑那几方面?答:(1)试样必须是干净的固体(块状、粉末或沉积物),在真空中能保持稳定。

含水试样应先脱水。

木材、催化剂等易吸附气体的多孔试样在预抽气室中预抽气,沾有油污的试样是造成荷电的重要原因,必须先用丙酮等溶剂仔细清洗。

(2)试样应有良好的导电性:高分子、陶瓷、生物等试样在入射电子照射时,表面易积累电荷(荷电现象),严重影响图像质量,这些样品必须镀膜,通常用真空镀膜机在试样表面上蒸镀一层几十埃厚的金属膜(金、银)或碳膜。

镀膜目的:避免荷电;金属膜可增加试样表面二次电子发射率,从而提高反差;金属膜可减少入射电子束对试样的辐射损伤。

(3)试样尺寸不能过大:不同仪器样品台规定试样大小差异很大。

3、扫描电镜图片的分析:扫描电镜照片是灰度图像,分为二次电子像和背散射电子像,主要用于表面微观形貌观察或者表面元素分布观察。

一般二次电子像主要反映样品表面微观形貌,基本和自然光反映的形貌一致,特殊情况需要对比分析。

背散射电子像主要反映样品表面元素分布情况,越亮的区域,原子序数越高。

另外,可从表面形貌的均匀性、大致尺寸、形状是否规则以及致密程度。

4、透射电镜样品的制备及注意事项?答:TEM的样品制备方法:持膜法复型法晶体薄膜法超薄切片法电子束的穿透能力不大,这就要求要将试样制成很薄的薄膜样品。

电子束透固体样品的能力,主要取决于加速电压和样品物质的原子序数。

加速电压越高,样品原子序数越低,电子束可以穿透的样品厚度就越大。

现代材料分析方法

现代材料分析方法

随着科学技术的发展进步,分析材料的方法越来越多,我们不在局限于观察宏观的物质或者结构,而电子显微镜的发明足以让我们观察到更细致的微观世界。

在研究材料领域中,电子显微镜起着举足轻重的作用,电子显微镜分为透射电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)。

扫描电镜主要运用材料科学的表面结构研究,共混物的分相,各种复合材料的应力缺陷,物质晶体结构及其应力变化等。

因此扫描电镜在材料性能研究与应用中扮演着的非常重要的角色。

关键词:电子显微镜;扫描电镜;材料;学科;应用自从1965年第一台商品扫描电镜问世以来,经过40多年的不断改进,扫描电镜的分辨率从第一台的25nm提高到现在的0.01nm,而且大多数扫描电镜都能通X射线波谱仪、X射线能谱仪等组合,成为一种对表面微观世界能过经行全面分析的多功能电子显微仪器。

近年来,随着现代科学技术的不断发展,相继开发了环境扫描电子显微镜、扫描隧道显微镜、原子力显微镜等其它一些新的电子显微技术。

这些技术的出现,显示了电子显微技术近年来自身得到了巨大的发展,尤其是大大扩展了电子显微技术的使用范围和应用领域。

在材料科学中的应用使材料科学研究得到了快速发展,取得了许多新的研究成果。

扫描电镜已成为各种科学领域和工业部门广泛应用的有力工具。

从地学、生物学、医学、冶金、机械加工、材料、半导体制造、陶瓷品的检验等均大量应用扫描电镜作为研究手段。

在材料领域中,扫描电镜技术发挥着极其重要的作用,被广泛应用于各种材料的形态结构、界面状况、损伤机制及材料性能预测等方面的研究。

利用扫描电镜可以直接研究晶体缺陷及其生产过程,可以观察金属材料内部原子的集结方式和它们的真实边界,也可以观察在不同条件下边界移动的方式,还可以检查晶体在表面机械加工中引起的损伤和辐射损伤等。

一、扫描电镜的介绍1.1扫描电镜的发展扫描电镜的设计思想早在1935年便已提出,1942年在实验室制成第一台扫描电镜,但因受各种技术条件的限制,进展一直很慢。

现代材料分析方法

现代材料分析方法

X-射线衍射仪
F:X-射线源 S1:梭拉狹缝
H:发散狹缝 O:样品台
M:发散狹缝 S2:梭拉狹缝
G:接收狹缝 D:计数器
目前,X-射线衍射分析主要采用衍射仪。测量具有快 速、准确等有点,并可与计算机联机实现自动分析等。
氯化钠粉末的X-射线衍射谱图
通过转动计数器连续测得某角度范围内的衍射强度。 可以测定整个衍射花样,也可以测定局部衍射线的分布。
电子探针
是指用聚焦很细 的电子束照射要 检测的样品表面, 用X-射线分光谱 仪测量其产生的 特征X-射线的波 长和强度,分析 微区(1-30um) 中的化学组成。
扫描电子显微镜 (SEM)
主要用于材料的形貌 组织观察,可测定样 品形态和粒度、显微 形貌分析、材料断口 和失效分析、复合材 料界面特性的研究等; 与能谱仪联用,可研 究样品的微区元素成 份分布,对材料中的 元素进行定性分析、 定量分析、线分析、 面分析。
扫描电镜成象原理
在扫描电镜中,电子枪发 射出来的电子束,一般经 过三个电磁透镜聚焦后, 形成直径0.02~20m 的 电子束。末级透镜(也称 物镜,但它不起放大作用, 仍是一个会聚透镜)上部 的扫描线圈能使电子束在 试样表面上作光栅状扫描。 通常所用的扫描电镜图象 有二次电子象和背散射电 子象。
电子的散射
入射电子进入试样后,与试样原子的原子核及核外 电子发生相互作用,使入射电子发生散射(弹性、 非弹性散射) 。其中,弹性散射指入射电子与原子 核的作用,而非弹性散射是入射电子与核外电子的 作用。
重元素比轻元素对电子的散射能力强。
散射(质量-厚度)衬度 由于试样上各部分散射能力不同所形成的衬度,称 为散射(质量-厚度)衬度。
电子衍射与X-射线衍射的比较

材料现代研究方法X射线分析

材料现代研究方法X射线分析

理论上,对一系列 若求 出a外延到90,即可得到 a,但存在人为等误差
其它因素: 入射束发散度(A、D),单色性和偏振性(F), 偏心度(B),测量条件(E) 样品因素:晶粒大小,均匀性,吸收及X线透入深度(C)
d d

cos
2

(
A
sin 2
B
sin
C)
D
sin 2
Ws、 Wα——标准物质、待测相质量量比
Ws 一定时,
Ia IS
Wa
绘制定标曲线:配制固定标准物质成分,不同比例待测相试
样,测出各样品Iα/IS,绘制绘出Iα/Iα0—Wα曲线, 在曲线 上找到实测点,对应横坐标既为Wα。
3. K值法(属于内标法)
某相与混合物中标准物质衍射强度比:
I IS

随其体积分数为 fj 增加而增高; 由于物质吸收X射
线线,故 Ij 依赖于 I j与 fj 及吸收系数 间的关系。
定量分析一般采用衍射仪法(准确测定衍射线强度)
2. 物相定量分析
在衍射仪法中单相晶体各衍射线相对累积强度:
I积

N
2 PHKL FH2KLe2M
(
1 sin
cos2 2 2 cos
81.17 °的衍射线(3 3 3)。
a h2 k 2 l 2 1.5405
2 sin
2sin 8117
o
4.0490 A
32 32 32
2. 误差分析:
由布拉格方程微分及d-a关系有:
a d cot( )
ad
sin
即,若a/a小, 90
(
P F2 (

材料分析方法4 X射线衍射实验方法

材料分析方法4 X射线衍射实验方法
材料学院 教师:孙继兵 6
德拜相机直径



德拜相机直径为57.3mm或114.6mm。 目的是: 当相机直径为57.3mm时,其上周长为180mm, 因为圆心角为360º,所以底片上每一毫米长 度对应2º圆心角; 当相机直径是114.6mm时,底片上每一毫米 对应1º圆心角,这样做完全是为了简化衍射 花样计算公式。
材料学院
教师:孙继兵
24
七、相机的分辨本领




照相机的分辨本领: 1)当一定波长的X射线照射到两个间距相近的晶面上时, 用衍射花样中两条相邻线条的分离程度来定量表征; 2)它表示晶面间距变化时引起衍射线条位置相对改变的灵 敏程度。 按照 面间距d发生微小改变值d,而在衍射花样中引起线条位置 的相对变化为L,则相机的分辨本领
材料学院 教师:孙继兵 2
多晶体粉末法
第一节
第二节
粉末照相法 X射线衍射仪
材料学院
教师:孙继兵
3
第一节 粉末照相法
一、德拜法及德拜相机 二、试样的要求 三、德拜照相法试样制备 四、底片的安装 五、摄照规程的选择 六、衍射花样的测量和计算 七、相机的分辨本领

材料学院 教师:孙继兵 4
德拜相的计算
材料学院
教师:孙继兵
19
衍射花样的指标化
对立方晶系,衍射方向 对同一试样中同一物相,由于对任何线条所反映的点阵参数 a和摄照条件l均相同,所以可以考虑消掉 a与 l
2 把 sin 2 q 都用 sin q1 来除,得到
其中N为整数

h2 k 2 l 2
由小到大的顺序排列,并考虑到系统消光可以得到
材料学院 教师:孙继兵 35

材料现代分析方法

材料现代分析方法

二、物相定量分析
定标曲线的制作: 制备若干(3个以上)待测相(a)含量(wa)不同且已知的样品, 在每个样品中加入含量(ws)恒定的内标物(s), 制成复合样品,
Intensity
测量复合样品的Ia/Is值, 绘制Ia/Is-wa曲线.
250 200 150 100 50
FeZn11 FeZn7
适用于物相种类比较固定,
根据待分析相(a)与s相之强度比Ia/Is;
可求得a相含量, 此即为物相分析之内标法. 分为内标曲线法、K值法与任意内标法等方法.
二、物相定量分析
2.内标(曲线)法 设样品总量W=1,待测相a→质量Wa,质量分数wa, Wa=wa, 内标物s→ws,待测相a→w'a, w'a=wa(1-ws)
Intensity
无机相字母索引、Fink无机索引、矿物检索手册等。
按检索方法,手册可分为两类, 数值索引→以d值数列为索引; 字母索引→以物质名称为索引。
一、物相定性分析
(1)数值索引(以Hanawalt无机物检索手册为例) 其编排方法为: 一个相一个条目,在索引中占一横行; 内容简介: 按强度递减顺序,排列了8条强线的晶面间距、相对强度值、化学式、卡片 编号和参比强度值. 线条相对强度写在d值的右下角,分为10个等级,分别以×(最强线,100%) 和数字表示(如5表示50%.7表示70%等)。 1980年前,将每个相的前三强线条按d1d2d3,d2d3d1,d3d1d2的排列顺序(其余 5个d值顺序不变)分列为3个条目,即每个相在索引中不同部分可出现3次; 索引按d值分组并按d值大小递减排列.每个条目按d1值决定它属于哪一组, 每组内按d2值递减顺序编排条目;d2值相同的条目,则按d3值递减顺序编排.

现代材料分析方法(04-EXAFS)

现代材料分析方法(04-EXAFS)

EXAFS的产生原理
出射光电子波受到周围 近邻原子的背散射: 背散射光电子波峰将与 出射光电子波发生干涉: 相长干涉使吸收增加, 相消干涉使吸收下降。 这样就使吸收曲线出现 振荡
原理
增加入射 X光子的能量将使光电子波长变 短,出射与散射光电子波之间的干涉结果也 就不同; 当散射原子的种类、数量及其与吸收原子 的距离不同时, EXAFS 细节也将出现差异, 因此它包含着吸收原子周围近邻原子短程结 构信息。
K (k )
EXAFS函数
根据EXAFS的产生机理,可以预计 (k ) 将与 下列因素有关: 1、与吸收原子周围的第 j 近邻原子壳层中 的同种原子数Nj、距离 Rj 及原子散射因 数 fj (2k) 有关。这一部分可表示为:
Nj Rj
f j (2k )
EXAFS函数
2 、与散射光电子的位相改变有关。位相改


吸收原子周围的第 j 近邻原子壳层中 的同种原子数。 Debye-Waller因子
出射光电子 平均自由程
Nj m 2 2 x( k ) f ( 2 k ) exp( 2 k j ) exp(2R j / ) sin 2kRj 2 j (k ) j 2 4h k j R j
EXAFS谱方法的特点
元素选择性:由于不同元素吸收边的位置不同, 因此通过调节入射 X 射线的能量,可以分别是 测量不同元素的K或L吸收边,从而可以选择性 地研究多元样品中不同元素的近邻环境。另外, 由于不同元素背散射振幅的差别,原则上可以 用来区分背散射原子的种类。
EXAFS谱方法的特点
敏感性:利用高强度的同步辐射光源及荧光 XAFS 技术,可以测定样品中含量很低的元素 的近邻结构。因而很适用于掺杂物质中,杂质 原子的近邻环境研究。 取向性:利用偏振的 X 射线源并考虑多重散射 效应,可以研究样品中原子的配位键角及原子 排列的空间取向。在某些情况下,能够获得远 配位层的原子结构信息或配位键角信息。

材料现代分析方法

材料现代分析方法

材料现代分析方法1、γ射线核反应产生;X射线内层电子跃迁;紫外线、可见光外层电子跃迁;红外线分子振动能级跃迁;微波分子转动能级跃迁;射频电子自旋、核自旋。

2、晶向指数是表示晶体中点阵方向的指数,由晶向上阵点的坐标值确定。

晶面指数是表示晶体中点阵平面的指数,由晶面与三个坐标轴的截距值所确定。

倒易点阵是由晶体点阵按照一定的对应关系建立的空间点阵,对于一个由点阵基矢ai 定义的点阵,若有另一个由点阵基矢aj定义的点阵满足3、辐射的吸收是值辐射通过物质时,其中某些频率的辐射被组成物质的粒子(分子原子离子等)选择性吸收从而使辐射强度减弱的现象。

辐射的发射是指物质吸收能量后产生电磁辐射的现象,辐射发射的实质在于辐射跃迁。

辐射的散射是指电磁辐射与物质发生相互作用后部分偏离原入射方向而分散传播的现象。

4、分子散射是入射线与线度即尺寸大小远小于其波长的分子或分子聚集体相互作用而产生的散射。

包括:瑞利散射是指入射线与光子发生弹性碰撞作用,仅光子运动方向改变而没有能量变化的散射,该射线与入射线同波长。

拉曼散射是指入射线(单色光)光子与分子发生非弹性碰撞作用,在运动方向改变的同时有能量增加或减少的散射。

5、电子散射包括相干散射和非相干散射。

相干散射是指入射线光子与原子内受核束缚较紧的电子(如内层电子)发生弹性碰撞作用,仅改变运动方向而没有能量损失的散射。

非相干散射是指入射线光子与原子内受核束缚较弱的电子(如外层电子或晶体中自由电子)发生非弹性碰撞作用,在光子运动方向改变的同时有能量损失的散射。

6、共振线是指电子在基态与任一激发态之间直接跃迁所产生的谱线。

原子光谱中做容易产生的谱线称为灵敏线,一般主共振线即为灵敏线。

7、原子荧光光谱:受具有特定波长的电磁辐射(单色光)激发,气态原子外层电子从基态或低能态跃迁到高能态并在很短的时间内(10-8s)又跃迁回基态并发射的辐射即为原子荧光。

分为共振荧光和非共振荧光,非共振荧光又分为斯托克斯荧光(分为直跃线荧光和阶跃线荧光)(λf>λa)和反斯托克斯荧光(分为热助直跃线荧光和热助阶跃线荧光)。

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Extended X-ray Absorption Fine Structure (EXAFS)
Introduction
扩展X射线吸收谱精细结构(Extended X-ray absorption fine structure, EXAFS)是X射线吸 收限高能侧30eV至约1000eV范围内吸收系数 随入射X光子能量增加而起伏振荡的现象,近 年来它被广泛应用于测定多原子气体和凝聚态 物质吸收原子周围的局域结构,成为结构分析 的一种新技术。
吸收原子 的距离Rj


原子散射因数
光程差引起的位相差及 出射和散射引起的相移
EXAFS的数据采集与处理
x(k ) K (k ) o (k )/ o (k )
(1)求 K (k ) - E曲线 (2)扣除背景 (3) o 拟合 (4)E→k转换 (5)求 x(k ) (6)获得结构参数
应用举例(在玻璃中的应用)
晶化前后样品及三方相ZnF2的Zn-K吸收边的XAFS
应用举例(在玻璃中的应用)
晶化前后样品及四方相ZnF2的k3 x(k ) 以及径向分布函数 晶化前后玻璃样品中Zn的配位情况发生明显变化,结 构的无序度增大
EXAFS谱方法的特点
局域性:由于XAFS对应着原子的近邻结构, 它不要求被研究的物质具有晶格周期性,因 而它除了用于研究晶态物质的原子近邻结构 外,对非长程有序的物质,例如:非晶、气 态、溶态及熔态物质的原子近邻结构研究同 样有效,较之常规X射线衍射的应用范围要广 阔得多。
变包含两部分:光程差引起的位相差及出射
和散射引起的相移。这一部分可表示为:
sin[2kRj 2 j (k )]
EXAFS函数
3、与第 j 壳层原子的漫散分布程度有关。 它包含热振动和原子无序分布的影响。设 σj 为对 Rj 的均方根偏离,这个影响可表示为 Debye-Waller温度因数型的项
原理
一般教科书中给出的X 射线吸收系数随波长变 化的曲线除在K、L1、 L11、L111等吸收限处吸 收发生突变外,其余部 分是平滑的;这平滑部 分可用Victoreen公式 μ 来表述:
K吸收边
=C D
3
4
吸收系数与波长的关系
λ
原理
可是实际上更精确的测量 μ 表明,在吸收限高能侧附 近,随样品的成分和状态 不同会显示不同的振荡现 象。对于单原子气体,只 在极靠近吸收限处有振荡; 对于多原子气体、液体和 固体,振荡扩展到约 1000eV左右。


吸收原子周围的第 j 近邻原子壳层中 的同种原子数。 Debye-Waller因子
出射光电子 平均自由程
Nj m 2 2 x( k ) f ( 2 k ) exp( 2 k j ) exp(2R j / ) sin 2kRj 2 j (k ) j 2 4h k j R j
EXAFS谱方法的特点
元素选择性:由于不同元素吸收边的位置不同, 因此通过调节入射 X 射线的能量,可以分别是 测量不同元素的K或L吸收边,从而可以选择性 地研究多元样品中不同元素的近邻环境。另外, 由于不同元素背散射振幅的差别,原则上可以 用来区分背散射原子的种类。
EXAFS谱方法的特点
敏感性:利用高强度的同步辐射光源及荧光 XAFS 技术,可以测定样品中含量很低的元素 的近邻结构。因而很适用于掺杂物质中,杂质 原子的近邻环境研究。 取向性:利用偏振的 X 射线源并考虑多重散射 效应,可以研究样品中原子的配位键角及原子 排列的空间取向。在某些情况下,能够获得远 配位层的原子结构信息或配位键角信息。
K (k )
EXAFS函数
根据EXAFS的产生机理,可以预计 (k ) 将与 下列因素有关: 1、与吸收原子周围的第 j 近邻原子壳层中 的同种原子数Nj、距离 Rj 及原子散射因 数 fj (2k) 有关。这一部分可表示为:
Nj Rj
f j (2k )
EXAFS函数
2 、与散射光电子的位相改变有关。位相改
EXAFS函数
通常EXAFS用一参量 x(k ) 表示,它表示 X射线吸 收系数μ的归一化的振荡部分。
x(k ) K (k ) o (k )/ o (k )
式中:k 是出射光电子的波矢的模, ,
k 2 / e λe为光电子波长;
为 的平滑变化部分,在物理上相 o (k ) K (k ) 当于孤立原子的吸收系数; 为扣除背底以后的 K 吸收限高能侧吸收 系数。
exp(2K )
2 2 j
EXAFS函数
4、与出射光电子保持原状态的传播距离有关。 这个因数为:
2R j exp i
Nj m 2 2 x( k ) f j (2k ) exp(2k j ) exp(2R j / ) sin 2kRj 2 j (k ) 2 4h k j R j
o
EXAFS的数据采集与处理
x(k ) K (k ) o (k )/ o (k )
(1)求 K (k ) - E曲线 (2)扣除背景 (3) o 拟合 (4)E→k 转换 (5)求 x(k ) (6)获得结构参数
2m k (E E 0) 2
EXAFS的数据采集与处理
应用举例(在玻璃中的应用)
20GaF3-15InF3-20CdF2-15ZnF2-20PbF2-10SnF2
应用举例(在玻璃中的应用)
晶化前后样品及三方相GaF3的Ga-K吸收边的XAFS
应用举例(在玻璃中的应用)
晶化前后样品及三方相GaF3的k3 x(k ) 以及径向分布函数
晶化前后玻璃样品中Ga的配位情况没有发生明显变化
EXAFS谱方法的特点
广泛性:除常规的EXAFS技术(透射法和荧光 法)以外,还衍生出许多相关的EXAFS技术。 EXAFS技术作为一种探测原子近邻结构的手段 已被广泛地应用于多学科的结构研究。既可用 以研究固态、液态、气态、熔态,又可用于研 究非晶、多晶、单晶及准晶。既可以研究稀薄 样品、浓聚物质,又可以研究表面结构。结合 各种EXAFS技术,原则上可以测量周期表中各 种元素,用表面 EXAFS 技术已可以获得 C 、 O 等轻元素的K吸收近边谱。
λ
原理
30eV以内的振荡称为吸收 谱近限结构(X-ray absorption near structure) 30~1000eV的振荡称为扩 展X射线吸收谱精细结构 (Extended X-ray Absorption Fine Structure EXAFS)。 两者都是吸收原子周围的 邻原子对出射光电子散射 引起的,但理论细节不完 全相同。
x(k ) K (k ) o (k )/ o (k )
(1)求 K (k ) - E曲线 (2)扣除背景 (3) o 拟合 (4)E→k 转换 (5)求 x(k ) (6)获得结构参数
理论计算拟合法:先拟定被研究 物质的结构模型,给出结构参数, 然后根据理论公式计算相应的 EXAFS谱。将理论计算与实验测 定的EXAFS谱进行比较,获得结 构参数。 标样法:用结构已知并与待定结 构相近的一种物质作为标样,通 过测定试样和标样的EXAFS谱来 确定未知结构。

EXAFS的产生原理
出射光电子波受到周围 近邻原子的背散射: 背散射光电子波峰将与 出射光电子波发生干涉: 相长干涉使吸收增加, 相消干涉使吸收下降。 这样就使吸收曲线出现 振荡
原理
增加入射 X光子的能量将使光电子波长变 短,出射与散射光电子波之间的干涉结果也 就不同; 当散射原子的种类、数量及其与吸收原子 的距离不同时, EXAFS 细节也将出现差异, 因此它包含着吸收原子周围近邻原子短程结 构信息。
其它原子的吸收,通过Victoreen 公式拟合。
EXAFS的数据采集与处理
x(k ) K (k ) o (k )/ o (k )
(1)求 K (k ) - E曲线 (2)扣除背景 (3) o 拟合 (4)E→k转换 (5)求 x(k ) (6)获得结构参数
是自由原子的吸 收,一般取中线。
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