2010-2011第二学期B卷参考答案及评分标准
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2010-2011第二学期B卷参考答案及评分标准
安徽大学2010—2011学年第2学期
《集成电路原理》(B卷)考试试题参考答案及评分标准
一、名词解释题(每小题3分,共15分)
1. EDA:Electronic Design Automatic (2分)电子设计自动化(1分)。
2. DRC:Design Rule Check (2分)设计规则检查(1分)。
3.TSPC:True Single Phase Clock (2分)真正的单相时钟(1分)。
4. ASIC:Application Specific Integrated Circuit (2分)专用集成电路(1分)。
5. ULSI:Ultra Large Scale Integrated Circuits (2分)甚大规模集成电路(1分)。
二、编程题(20分)
设计一个时钟电路,具有时/分/秒计数功能,完成12小时计数。
答:module counter_h12 (clk, rst, s, m, h);
input clk, rst;
output [5:0] s, m;
output [3:0] h;
reg [5:0] s, m; (5 分)
always@(posedge clk or posedge rst)
if(rst)
s<=6’b000000;
else if (s= =6’b111011)
s<=6’b000000;
else
s<=s+1; (5 分)
always@( posedge clk or posedge rst)
if (rst)
m<=6’b000000;
else if (s= =6’b111011)
begin
if(m= =6’b111011)
m<=6’b000000;
else
m<=m+1;
end (5 分)
always@( posedge clk or posedge rst)
if(rst)
h<=4’b0000;
else if ((s= =6’b111011)&&(m= = 6’b111011))
begin
if(h= =4’b1011)
h<=4’b0000;
else
h<=h+1;
end
endmodule (5 分)
三、简答题(每小题4分,共20分)
1.集成电路的设计方法分为哪三种?
答:基于PLD的设计方法(2分),半定制设计方法(1分),定制设计方法(1分)。
2.一般电路的输入或输出端的4种ESD应力模式是什么?
答:某一个输入(或输出)端对地的正脉冲电压或负脉冲电压;(2分)某一个输入或输出端相对V DD端的正脉冲电压或负脉冲电压。
(2分)
3.DRAM和SRAM有哪些主要区别?
答:DRAM具有结构简单、面积小、有利于提高集成度的优点,但是由于靠电容存储信息,信息不能长期保持,会由于泄漏电流而丢
失。
(2分)
SRAM是采用双稳态电路存储信息,因此信息存储可靠,只要不断电存储信息可以长期保持。
(1分)
DRAM采用1T1C结构,SRAM需要6个晶体管。
(1分)
4.简述类NMOS电路的特点。
答:(1)在类NMOS电路中只用NMOS管串、并联构成的逻辑功能块,而上拉通路用一个常导通PMOS管代替复杂的PMOS逻辑功能块。
(1分)
(2)类NMOS电路不是无比电路,不再具有无比电路的优点。
由于PMOS负载是常通的,在输出低电平时存在电源到地的直流通路,输出低电平不是0,而是决定于N管和P 管的导通电阻的分压比。
为了保证的电平合格,必须设计合适的比例因子,因此这种电路叫做有比电路。
由于输出低电平时存在直流导通电流,电路有较大的静态功耗。
从直流特性看,为了降低功耗,同时保证输出低电平合格,都不希望PMOS的导电因子太大,但太小将使电路的上升时间增加。
(3分)
5. 什么是摩尔定律?
答:集成度大约是每18个月翻一番,或者集成度每三年4倍的增长规律就是世界上公认的摩尔定律。
(4分)
四、综合题(每小题10分,共30分)
1. 请问三态输出有那三种输出状态?画出常用的CMOS三态输出电路。
答:
输出高电平状态—有电流流出
输出低电平状态—有电流流入
高阻态—既不能有电流流出,也不能有电流流入。
(6分)
Z
E
+
(4分)
2.请画出CMOS反相器的晶体管级原理图和版图,并说明工作原理。
答:
(2分)
Y
多晶硅
铝线有源区 n阱
DD
V
GND
(5分)
工作原理:当输入A是高电平V DD时,NMOS导通而PMOS截止,输出连接到地,因此为低电平;当输入A是低电平0时,NMOS 截止而PMOS导通,输出连接到电源,因此为高电平。
(3分)
3.请画出二极管输入ESD保护电路,说明其工作原理。
答:
工作原理:对CMOS集成电路连接到压点的输入端常采用双二极管保护电路。
二极管D1是和PMOS源、漏区同时形成,是p+n-结构,二极管D2是和NMOS源、漏区同时形成的,是n+p-结构。
当压点相对地出现负脉冲应力,则二极管D2导通,导通的二极管和电阻形成了ESD电流的泄放通路。
当压点相对地出现正脉冲应力,使二极管D2击穿,只要二极管D2击穿电压低于栅氧化层的击穿电压,就可以起到保护作用。
(5分)
(5分)
五、设计题(15分)
解:由18.0=-=
DD
TP
P V V α代入)]1.029.1ln()
1(21
)1(1.0[
2P P P P P r t αααατ--+--=得
P r t τ78.1= (5分)因为ns t r 5.0=,所以ns P 28.0=τ 又pF C V K C L DD
P L
P 1,==
τ,得24/1014.7V A K P -?=
8.2310
601014.722)(6
4'===--P P P K K L W
(5分)同理可得,
5.1110
120109.622)(64'===--N N N K K L W
取um L L P N 6.0==,则得
um
W um W P N 28.149.6== (5分)。