DMD无掩膜光刻设备成为PCB板
与dmd相匹配的数字光刻光学系统设计研究
广东工业大学硕士学位论文应用价值。
虽然该物镜一次曝光面积比较小，如果应用到大面积ＰＣＢ的高效生产中，只需该物镜配合数块ＤＭＤ进行无缝扫描，为大面积数字光刻的研究和实践提供了有效的方法。
３２广东工业大学硕士学位论文聚焦透镜、光纤均束器、扩束准直透镜组和平面反射镜；ＤＭＤ拼接中继系统包括数字微反射镜、第一抛物面反射镜、第二抛物面反射镜、第三抛物面反射镜和第四抛物面反射镜；投影光学系统包括第一透镜组、孔径光阑和第二透镜组。
图５—１大面积数字光刻系统结构示意图Ｆｉｇ．５—１Ｓｃｈｅｍａｔｉｃｄｉａｇｒａｍｏｆｌａｒｇｅａｒｅａｄｉｇｉｔａｌｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙｓｙｓｔｅｍｓｔｒｕｃｔｕｒｅ５．２．２设计要求本光学系统在设计的过程中应该注意以下几个方面：１、由于曝光面积比较大，需要高功率光源，因此激光束可由多个４０５ｎｍ半导体激光器产生，通过聚焦透镜入射到光纤均束器，由扩束准直透镜组对光斑整形入射到多块ＤＭＤ拼接面。
２、扩束准直透镜组中的负透镜和正透镜共物方焦面，对均匀光斑整形成与多块ＤＭＤ拼接面尺寸相匹配。
３、照明系统中平面反射镜镀有高反层且偏转一定角度，保持和ＤＭＤ的微小镜束准直透镜组的出瞳与投影光学系统的入瞳相匹配实现柯勒照明，以保证ＤＭＤ拼接面有最大照明亮度和均匀度。
６、ＤＭＤ拼接中继光学系统中多块ＤＭＤ拼接在两个上３４广东ｘ．：ｔｋ大学硕士学位论文则四块ＤＭＤ拼接时的填充因子为：ｆ５．３１∥：！：旦！兰！：兰９兰兰×１００％：５７．６５％‘。
，１＝一×＝（１．０５Ｘ２＋３×Ｏ．３０）Ｘ（１．４０ｘ２＋２Ｘ０．３０）那么拼接后，基板单位面积上光刻图形面积提同、ｆｌ／ａ．１＝１３．１０％，因此当用４块ＤＭＤ拼接时，光刻效率相比无拼接时提高１３．１０％，是单块ＤＭＤ的４倍，该拼接方法适用于Ｎ（Ⅳ≥２）块ＤＭＤ拼接光刻系统。
５．３．２光程差新型补偿方法光在介质中所传播的距离三乘上该介质的折射率胛为光程△，即Ａ＝Ｌｘｎ，当多块ＤＭＤ拼接在两平行平面上时，两平面之间的距离为Ｄ，如果让拼接面发出的光线直接入射到投影透镜，则会产生光程差万＝Ｄｘ刀＝Ｄ，折射率为空气视为１，这会极大地影响后续成像质量。
PCB印制电路板-PCB生产流程介绍精品
PCB印制电路板-PCB生产流程介绍精品PCB（Printed Circuit Board）印制电路板是电子产品中不可或缺的一部分，它提供了电子元件之间的电气连接，并且提供了电气和机械支持。
PCB的制造过程是一个复杂而精细的过程，本文将详细介绍PCB的生产流程。
PCB的生产流程通常包括以下几个主要步骤：设计，制作光掩膜，制作基板，材料选择，印制，设备组装，测试和质量控制。
1.设计：2.制作光掩膜：光掩膜是制造PCB的关键工具，用于将电路图图案转移到基板上。
制作光掩膜通常采用光刻技术。
首先，根据设计文件制作金属板，然后使用光刻机将设计的图案转移到光刻胶上，形成光掩膜。
3.制作基板：制作基板是PCB生产的核心步骤之一、在制作基板之前，需要选择合适的基板材料（如FR-4、铝基板、FR-1等）。
基板制作过程包括以下步骤：切割基板，抛光基板表面，形成铜箔，制作过孔和盲孔，以及涂覆焊盘。
4.材料选择：根据设计要求和功能需求，选择合适的材料用于制造PCB。
除了基板材料，还需要选择适合的电阻、电容、晶体管和其他电子元件。
这些材料的选择将直接影响PCB的性能和可靠性。
5.印制：印制是将电路图的图案转移到基板上的过程。
在印制过程中，使用印制设备将光刻胶覆盖在基板表面上，然后通过光敏化、曝光和腐蚀等步骤，将图案转移到基板上。
在印制过程中，还可以添加阻焊和丝印等附加层。
6.设备组装：设备组装是将PCB上的电子元件焊接到其应对的位置上的过程。
这个过程通常分为手工焊接和自动化焊接。
手工焊接通常适用于小批量生产，而自动化焊接适用于大规模生产。
焊接方法包括表面贴装技术（SMT）和插针式焊接。
7.测试：在设备组装之后，需要对PCB进行测试来确保其功能和可靠性。
测试过程可以包括电气测试、AOI（Automated Optical Inspection）检查和功能测试等。
这些测试将帮助发现可能存在的缺陷和问题。
8.质量控制：质量控制是整个PCB生产流程中至关重要的一环。
掩模曝光DMD无掩模数字光刻更新
➢计算机将所需的光刻图案通过图形生成器输入到DMD芯片中，根据图形中黑 白像素的分布来改变DMD 中微反射镜的转角，并通过准直光源照射DMD表面 形成与所需图形一致的光图像，利用相应的光刻镜头将该图像投影到基片表面 并通过控制样品台的扫描运动，实现任意形状的大面积微结构制备。
➢投影物镜
➢曝光光源能量分布实际测试图
➢利用特殊的衍射匀光光学元 件和405nm激光，形成高均 匀、高效照明光源
➢丰富的投影光刻物镜光学、光机设 计经验以及成熟的精密装调工艺， 保证每一个投影光刻物镜的成像质 量。 ➢标准物镜： ➢1X：分辨力10.8μm，曝光面积21X10.5mm2
➢数值孔径NA=0.1
（2013.04.17 授权公告日） 授权
数字处理方面: 一种用于数字光刻系统的光强不均匀性测量与校正方法 刘华;卢振武 （已提交）
系统装调方面: DMD光学系统光源位置的定位辅助装置及光源位置装调方法 刘华 谭向全 党博石 发明专利
201510263495 用于定位DMD光刻系统中相机焦平面位置的新型分划板 刘华 谭向全 党博石 卢振武 发明专
利201510316684.0
发表论文：
Xiao-Duo Wang HuaLiu*、 Zhen-WuLu Li-WeiSong Tai-shengWang Bo-Shi Dang XiangQianQuan Yun-PengLi Design of a spectrum-folded Hadamard transform spectrometer in nearinfrared band Opt. Commu. 333. 80-83 (2014)
➢核心技术3——数据处理
（国内同类产品形成固定数据，分块存储，国外同类产品形成滚动数据，分块存储。）
PCB线路板制造包装流程分解
PCB线路板制造包装流程分解概述PCB（Printed Circuit Board）线路板是电子元器件的载体，广泛应用于电子产品中。
PCB制造的流程包括设计、制版、生产、检测和包装等环节。
本篇文章将对PCB的制造和包装流程进行分析和说明。
PCB制造流程PCB设计PCB设计是PCB线路板制造的第一步，包括电路原理图的绘制、PCB布线和布局的设计。
一般情况下，电路设计人员会根据电路需求和外形尺寸的要求设计出PCB的布局和原理图，然后分别进行PCB布局和布线。
制版PCB制版是PCB制造的关键环节之一，主要是将设计好的PCB图形转化为实际的PCB线路板图形。
这一过程分为两个步骤：一是光绘，二是蚀刻。
光绘是通过使用光刻机将PCB电路图形转换到光刻膜上，制作光掩膜。
随后，在内层基材上涂上光刻胶，将光刻膜置于光刻机上进行曝光，光照后的部分就成为了PCB线路的成形图形。
蚀刻是将光刻后的基材放入蚀刻液中，去除未被光照部分，保留出PCB线路板的实际形状和电路连接。
这个环节可以进行多次，从而孔径，焊盘等制程得以的完成。
生产制造第三步是将以上步骤完成的内层板，通过层压、钻孔、铜盘等成品的制造环节，每一个工序都会影响到PCB板的制作成本，且每一个厂家的工艺流程也千差万别，但总的流程大致一样。
层压是通过建立起CCL铜箔的等厚整片，内层板相互叠压，形成内含芯片的板，这样可以避免双面管腔引起的信号反射和阻抗变化等问题。
这个步骤的好坏直接影响到PCB板的性能。
钻孔是在成型德板上进行钻孔，以插座，端子或借助于走线孔在PCB板上钻洞。
铜盘是为了剥离铜箔，从而形成电路的孔内连接。
这个步骤通过花式有工艺的IPC- 6012进行描述。
PCB线路板制造的第四个步骤是对PCB板进行检测，以确保其质量达到要求。
检测印刷包括PCB线路板的印刷、设备检测、X射线检测、AOI（自动光学检测）和功能性测试等环节。
检测印刷是PCB制造中的一个重要环节，它可以保证PCB板的质量符合要求，减少因品质问题造成的人力、物力和财力的损失。
DMD无掩膜光刻设备成为PCB板
掩模曝光
➢更 新
DMD无掩模数字光刻
➢三维立体光刻（实验室）
2005年，UC Berkeley的X. Zhang 课题组，微投影立体光刻装置，特 征尺寸达到0.6um
u高密度DNA芯片 u器官芯片 u微流控芯片
➢生物芯片制造
➢生物3Du行打打移印植印多；孔生物支架，生长组织，进
u打 印 立 体 微 环 境 ， 进 行 体 外 环 境 模 拟；
相对于单光束扫描曝光系统：多光束扫描曝光
❖ DMD芯片上的每一个微反射镜都可以等效的看作是一处独 立光源，其曝光过程相当于多光束逐点曝光，通过匹配微 反射镜的开关频率与样品台的运行速度，实现DMD的图形 滚动曝光，提高了系统的生产效率。
2.3基于DMD的紫外高速数字光刻设备的应用方向
PCB板工业制造
4
平台扫描方向
3 432
3
Video 1. : Number
利用部分数据预制模版来进一步平衡照明的不均匀性。
否
差值Dn
逐行关闭像素
关闭像素的 灰度值和Gn Gn≥Dn & Gn≤3Dn/2
校正后的均匀度 是否大于95%
否
结束
利用畸变补偿方法，对数据预制处理，以抵消镜头畸变的影响， 降低对镜头的质量的要求。
我们的优势
基于DMD微光刻的导光板模板的制作方法
基于DMD微光刻的导光板模板的制作方法李晓建;朱冀梁;申溯;周小红;陈林森【期刊名称】《应用光学》【年(卷),期】2009(030)004【摘要】A flexible and efficient solution for fabricating the ultra-thin light guided plates (LGP) is presented. The approach is based on maskless lithography which is realized by the aid of a digital micro-mirror device (DMD). The image of microstructures created by DMD is projected by passing through a projection optical system to the substrate with a photoresist layer. After exposure, development and electroforming, a nickel template with patterned microstructures is obtained and can be used to fabricate LGP by hot embossing. The proposed method has the advantages of arbitrary microstructures created by DMD lithography and costeffective mass production by embossing replication. A fabricated LGP with thickness down to 0.381 mm was demonstrated, in which the microstructures have the resolution of 2 μm. The process provides a effective scheme for fabricating large format LGP with more complex microstructures.%提出了一种基于数字微反射镜(DMD)微光刻的导光模板的制作方法.导光板的网点单元图形由DMD输入,经过缩微光学成像系统缩微后,在光刻胶干板上逐单元网点曝光,再经过显影、微电铸得到导光板模板,在PC薄板材上用微纳米压印制成导光板,厚度仅为0.381 mm.采用自行研制的SVGwriting-DMD激光直写系统,图形的最小分辨率为2 μm,DMD微光刻法无需掩膜版,可实现不同形状、大小、微结构的单元网点图形及网点的排布,便于大幅面的导光板模板的制作.【总页数】5页(P669-673)【作者】李晓建;朱冀梁;申溯;周小红;陈林森【作者单位】苏州大学,信息光学工程研究所,江苏,苏州,2156006;苏州大学,信息光学工程研究所,江苏,苏州,2156006;苏州大学,信息光学工程研究所,江苏,苏州,2156006;苏州大学,信息光学工程研究所,江苏,苏州,2156006;苏州大学,信息光学工程研究所,江苏,苏州,2156006【正文语种】中文【中图分类】TN249;TN27【相关文献】1.基于DMD的Hadamard编码模板改进设计与光谱数据修正方法研究 [J], 徐君;谢承旺;刘海文;刘强;李斌成2.基于DMD的数字光刻定焦变倍投影系统设计 [J], 唐志方;牟达;杨旭;陈炳旭;高佳旭3.基于紫外纳米压印光刻的氟化混合物模板制备 [J], 胡克想;王阳培华;王庆康;;4.基于DMD无掩膜光刻快速制作亲疏水图案化表面 [J], 陈鹏;李木军5.基于运动补偿的DMD无掩模光刻拼接误差校正 [J], 姜旭;杨絮;刘红;胡俊;王英志因版权原因，仅展示原文概要，查看原文内容请购买。
DMD光刻和电沉积结合制备金微阵列电极的结构优化与性能检测
DMD光刻和电沉积结合制备金微阵列电极的结构优化与性能检测DMD光刻和电沉积技术是一种常用于制备金微阵列电极的方法。
其中，DMD光刻技术用于制备精密的光掩膜，通过光掩膜对电沉积过程进行精确控制，达到所需的电极结构。
本文将围绕DMD光刻和电沉积结合制备金微阵列电极的结构优化和性能测试展开，通过1200字以上的论述和说明来全面阐述相关内容。
首先，本文将介绍DMD光刻和电沉积技术的原理。
DMD光刻是一种基于光掩膜的高精度光刻技术，通过控制DMD器件上的微小反射镜单元，能够精确调整光掩膜的光学透过度。
电沉积技术是一种通过在金属底板（基片）上电解沉积金属材料的方法，通过控制沉积电流和沉积时间，能够制备出具有精确定义的电极结构。
接下来，本文将讨论DMD光刻和电沉积技术在金微阵列电极制备中的结构优化。
结构优化包括两个方面：第一，光刻图案的设计和优化；第二，沉积条件的优化。
在光刻图案设计和优化方面，可以通过调整DMD光刻机上的反射镜单元的排列，来控制光的透过度和反射度，从而实现不同形状和尺寸的电极结构。
在沉积条件的优化方面，可以通过调整沉积电流和沉积时间，控制金属材料的沉积速率和均匀性，从而获得更加均匀和精确的电极形态。
最后，本文将介绍金微阵列电极的性能检测方法。
性能检测包括电化学性能测试和表面形貌分析两个方面。
电化学性能测试可以通过电化学工作站等设备，测量电极的循环伏安曲线、电化学阻抗等参数，评估电极的电化学性能。
表面形貌分析可以通过扫描电子显微镜等设备，观察电极表面的形貌和粗糙度，评估电极的表面形态。
通过这些性能检测方法，可以评估金微阵列电极的电化学性能和表面形态，进一步优化电极结构和沉积条件。
综上所述，DMD光刻和电沉积技术结合制备金微阵列电极是一种常用的方法。
通过结构优化和性能检测，可以制备出具有精确形态和优良性能的电极。
本文通过详细的论述和说明，全面阐述了DMD光刻和电沉积结合制备金微阵列电极的结构优化和性能测试过程，为相关研究提供了参考和指导。
dmd芯片的封装方式
dmd芯片的封装方式
DMD芯片是一种数字微镜器件，用于数字投影显示和光学成像等领域。
它的封装方式通常有两种：
1.COB封装：COB全称为Chip-on-Board，是一种将芯片直接焊接在PCB板上的封装方式。
在COB封装中，DMD芯片被直接粘贴在PCB板上，并通过焊接将芯片与PCB板连接起来。
这种封装方式可以节省空间，使整个设备更加紧凑。
2.CSP封装：CSP全称为Chip Scale Package，是一种将芯片封装成更小、更轻、更薄的形式。
在CSP封装中，DMD芯片被封装成一个非常小的塑料外壳，可以直接粘贴在PCB板上。
这种封装方式可以减小整个设备的体积和重量，提高便携性。
需要注意的是，DMD芯片的封装方式可能因制造商和型号而异。
在选择DMD 芯片时，需要根据实际需求和设备设计来选择合适的封装方式。
同时，还需要考虑封装方式对设备性能、稳定性和可靠性等方面的影响。
用于PCB、HDI、IC载板的高精度多光束激光动态LDI技术
形 采用了阵列式多光引擎 同步曝光实现 高 精度量产型ＬＩ Ｄ设备。
关键词 激光无掩曝光技 术 ；激光直接光刻技术 中 图分 类 号 ：Ｔ ４ 文 献标 识码 ：Ａ Ｎ１ 文章 编 号 ：１ ０ — ０ ６（ ０ ２） ４ ０ ０ — ４ ０ ９ ０ ９ ２ １ ０ — ０ ６ ０
Ｍ ｕ ｔ－ ｐ ｉａ － ｎ ｉ ｅｌ ｓ ｒｄ ｎ ｍ ｉ ａ ｉ ｇｔ ｃ ｎ ｌ ｇ ｎ ｌｉｏ ｔｃ ｌｅ ｇ ｎ ｅ ｙ ａ ｃｉ ｇ ｎ ｅ ｈ ｏ ｏ ｙ ａ ｄ － － ａ ｍ ｉｓａ ｌ ａ ｉ ｎ ｉ ｔ ｐｐ ｉ ｔｏ ＰＣＢ． ＤＩａ ｄ Ｉ ｓ ｂ ｒ ｃ ａ ｒｃ ｔｏ ｓ ｃ ｎ Ｈ ｎ Ｃ ｕ ｔ ａ ｔｆ ｂ ｉａ ｉ ｎ
图形形成与蚀刻 Ｐ ｔ ｒ ｏｍ ｔ ｎａ ｄ ｔ ｉ ａｔ ｎＦ ｒ ａｉ ｎ Ｅｃ ｎ ｅ ｏ ｈｇ
近 年 来 ， 由于 政 府 颁 布 的 关于 加 快 培 育 和 发 展
战 略性 新 兴 产 业 的决 定 以及高 端 电子 产 品 发 展 的 规 划 ，为 中 国的Ｔ Ｔ ＯＬ Ｄ平 板 显示 ，智 能手 机和 触 摸 Ｆ／ Ｅ 屏 的产 业 的发 展 带 来 历 史性 的机 遇 ， 中 国高 端 电子
ｐ ｎ ｉｇ ｓ ｕ ｔｒｓ（ｅ ｅ ｄｎ ｔ ｃｕｅ ｉ ＤＭＤ ｆｌ ｗｉｇ ｂ ａ ｓｏ ｃｏ ｌｎ ｙ ｒ ａ ｄｃ ｍｂｎｎ ｔ ｌｃ ｎｒ ｅ ｍ ａｈ ｒ … ｏｌ ｎ ｙｐ ｉ ｆ ｏ ｒ ｍｉｒ— ｓｌ ｅｓ ｎ ｏ ｉｉｇｗｉ ａｔ ｅ ｅ ｔ ｃｂ ａ ｐ ｔ， ｅ ａ ｈ ｅ ｉ
产 品面 板 产 业 正 处 于迅 猛 发 展 阶 段 ， 全 球 高端 电子 产 品产 业 的发 展 重 心 正 在 向 中 国大 陆 转 移 。 中 国 大
无掩膜光刻机原理
无掩膜光刻机原理光刻技术是半导体制造中非常关键的工艺之一，而无掩膜光刻机则是光刻技术中一种重要的设备。
无掩膜光刻机是一种能够直接将图案刻写在光刻胶上的设备，它的原理与传统光刻机有所不同。
传统的光刻机使用掩膜制作光刻胶上的图案，而无掩膜光刻机则是直接在光刻胶上进行图案刻写，省去了制作掩膜的步骤，大大提高了生产效率。
无掩膜光刻机的原理主要包括以下几个关键步骤：1. 准备工作：首先需要准备一块光刻胶基片，将其放置在无掩膜光刻机的工作台上。
光刻胶基片通常是由光刻胶涂覆在硅片上制成的。
2. 曝光：无掩膜光刻机使用激光束或电子束等光源对光刻胶进行曝光。
曝光时，光源发出的光束通过光学系统进行聚焦和准直，然后照射到光刻胶上。
光刻胶对光源的特定波长具有较高的敏感性，当光束照射到光刻胶上时，光刻胶会发生化学反应，使得光刻胶在曝光区域发生物理或化学性质的改变。
3. 显影：曝光后，光刻胶中只有曝光区域发生了物理或化学性质的改变，而未曝光区域的光刻胶仍然保持原样。
接下来需要进行显影步骤，即将光刻胶放入显影液中进行处理。
显影液会将未曝光区域的光刻胶溶解掉，而曝光区域的光刻胶则保留下来。
4. 修复：在显影后，光刻胶上形成了所需的图案。
但由于显影过程中可能会产生一些缺陷，因此需要进行修复。
修复的方法可以使用激光束或电子束对光刻胶进行局部加热，使其重新固化并修复缺陷。
5. 排水和检查：处理完毕后，需要将光刻胶基片从无掩膜光刻机中取出，并进行排水和检查。
排水是为了去除光刻胶和显影液的残留物，以保证光刻胶基片的质量。
检查是为了确保图案的质量和正确性，以便进行后续的工艺步骤。
通过以上几个关键步骤，无掩膜光刻机可以实现直接在光刻胶上刻写图案的目的。
相比传统光刻机，无掩膜光刻机具有更高的生产效率和更灵活的制程能力，能够适应不同尺寸和形状的光刻胶基片，满足不同的制造需求。
总结起来，无掩膜光刻机是一种能够直接在光刻胶上刻写图案的设备，其原理主要包括准备工作、曝光、显影、修复和排水与检查等关键步骤。
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目前的诸如PCB板的加工基本使用掩膜曝光设备。其价格低，但需加工掩 膜版。掩模板制作复杂、周期长、费用昂贵，一旦完成无法修改，这些缺陷 已经严重限制了高端个性化PCB板的加工制作。数字印刷行业也面临同样 转型升级状态，急需无掩膜光刻设备来对其进行更新换代。而单点激光直写 无掩膜设备效率低下，不适合该行业需求。DMD无掩膜光刻设备成为PCB 板、数字印刷行业发展的必然选择。（工业）
掩模曝光
➢更 新
DMD无掩模数字光刻
➢三维立体光刻（实验室）
2005年，UC Berkeley的X. Zhang 课题组，微投影立体光刻装置，特 征尺寸达到0.6um
u高密度DNA芯片 u器官芯片 u微流控芯片
➢生物芯片制造
➢生物3Du行打打移印植印多；孔生物支架，生长组织，进
u打 印 立 体 微 环 境 ， 进 行 体 外 环 境 模 拟；
DMD芯片分类
波段：紫外 、近红外、可见的芯片 尺寸：0.95英寸、0.75英寸、0.45英寸、0.2英寸 帧频:高帧频（20kHz）低帧频(1k-3kHz) 匹配不同的控制芯片，利用FPGA进行可编程开发，形成各类驱动。
2.2基于DMD的紫外高速数字光刻设备的特点
相对于掩膜曝光系统：无掩膜
❖ 无需加工不同结构的掩模板，极大降低了生产成本，提高 了工作效率和系统稳定性。
（国内同类产品形成固定数据，分块存储，国外同类产品形成滚动数据，分块存储。）
形成灰度滚动数据处理很存储方式，利用扫描曝光方式提高 设备工作效率。
A
DMD
B
DMD
C
DMD
平台扫描方向
平台扫描方向
平台扫描方向
1
2
DMD
E
DMD
D
DMD
……
平台扫描方向
5 555
5
……
平台扫描方向
4 543
核心技术4 自动调焦
❖ 利用激光三角测量原理形成自动调焦系统，包括激光光 源、光学系统和PSD。
❖ 调焦精度: 1um
➢所持专利和文章
DMD驱动方面： 滚动灰度光刻的DMD动作方法 许家林 孙强 发明专利201410508288.3授权
照明方面: 刘华;卢振武; 实现半导体激光光束匀化的微光学元件 中国发明专利 CN201110272797
投影物镜
曝光光源能量分布实际测试图
利用特殊的衍射匀光光学元件和405nm 激光，形成高均匀、高效照明光源
丰富的投影光刻物镜光学、光机设 计经验以及成熟的精密装调工艺， 保证每一个投影光刻物镜的成像质 量。 标准物镜： 1X：分辨力10.8μm，曝光面积21X10.5mm2
数值孔径NA=0.1
➢核心技术3——数据处理
Zheng Xiong Hua Liu* Xiangquan Tan Zhenwu Lu Cuixia Li Liwei Song Zhi Wang Diffraction analysis of digital micromirror device in masklessphotolithography system J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS 13(4), 043016 (Oct–Dec 2014)
（2013.04.17 授权公告日） 授权
数字处理方面: 一种用于数字光刻系统的光强不均匀性测量与校正方法 刘华;卢振武 （已提交）
系统装调方面: DMD光学系统光源位置的定位辅助装置及光源位置装调方法 刘华 谭向全 党博石 发明专利
201510263495 用于定位DMD光刻系统中相机焦平面位置的新型分划板 刘华 谭向全 党博石 卢振武 发明专
2.1 DMD的结构特点
DMD芯片是MEMS（Micro Electro Mechanical systems，微电子机械系统）技术 下的产物的，在其芯片表面集成了数十万乃至百万个微反射镜（Micromirror Pitch）。 微反射镜是其DMD芯片的物理像素，微反射镜越多，DMD芯片所能的显示的分辨率 越高, 通过电控每个微反射镜的转动来实现所需要的光图形。
相对于单光束扫描曝光系统：多光束扫描曝光
❖ DMD芯片上的每一个微反射镜都可以等效的看作是一处独 立光源，其曝光过程相当于多光束逐点曝光，通过匹配微 反射镜的开关频率与样品台的运行速度，实现DMD的图形 滚动曝光，提高了系统的生产效率。
2.3基于DMD的紫外高速数字光刻设备的应用方向
PCB板工业制造
DAD2000
DMD驱动板
0.7'' DMD
高速信号和电源完整性的PCB仿真； 高帧频（20000Hz），实现灰度图像DMD驱动程序； 基于网络的接口通用协议的VHDL实现，如TCP/IP，UDP/IP。
➢核心技术2——光学模块
（国内同类产品以卤素灯为主，国外同类产品以LED照明为主）
激光照明系统
4
平台扫描方向
3 432
3
Video 1. : Number
利用部分数据预制模版来进一步平衡照明的不均匀性。
否
差值Dn
逐行关闭像素
关闭像素的 灰度值和Gn Gn≥Dn & Gn≤3Dn/2
校正后的均匀度 是否大于95%
否
结束
利用畸变补偿方法，对数据预制处理，以抵消镜头畸变的影响， 降低对镜头的质量的要求。
2.3核心技术水平
➢核心技术1——DMD驱动
（国内的DMD帧频在2000以内，效率低。国外DMD帧频在15000以上，效
率高。）
接口
FPGA
内存
TI 芯片组
GigaEthernet Fiber
Camera Link LVDS PAL USB2.0
Virtex5/Kintex7
DDR SDRAM
DDC4100
利201510316684.0
发表论文：
Xiao-Duo Wang HuaLiu*、 Zhen-WuLu Li-WeiSong Tai-shengWang Bo-Shi Dang XiangQianQuan Yun-PengLi Design of a spectrum-folded Hadamard transform spectrometer in nearinfrared band Opt. Commu. 333. 80-83 (2014)