镁及镁合金的腐蚀电位

镁及镁合金的腐蚀电位
镁的耐蚀性主要取决于表面氧化膜的性质，这层膜决定了它的耐蚀性，抗化学作用和机械作用的能力。

大家知道，镁和镁合金在大气中或者溶液中生产的表面膜非常薄而且是多孔状的。

因此，对镁及其合金基本没有很好的防护作用，且膜质脆，所以，镁及其合金极易遭到腐蚀破坏。

镁合金之所以耐蚀性差主要有两方面的原因：一是镁中含有微量杂质引起的电化学腐蚀；而是镁合金表面形成的氧化膜体积和生成这些氧化膜消耗金属体积比小于1，不能形成邮箱致密的保护膜。

为了深化理解镁的腐蚀行为，不仅要知道热力学上的反应和可能性，而且必须要了解腐蚀过程动力学及其影响因素。

镁及镁合金的腐蚀电位镁的平衡电位在金属中是很负的，其标准电极电位为-2.37V，比铁低约2V，比铝低0.7V左右。

在百分之三的氯化钠溶液中腐蚀电位为-1.72V，在海水中为-1.5~-1.6V，在自然界腐蚀环境中，腐蚀电位大多处于-1.3~-1.5V。

镁的腐蚀电位与介质有关，其变化范围较大，一般介于
+0.5~-1.64V之间。

镁腐蚀电位随着盐浓度的变化分化成三种：（1）随着盐浓度增大，镁腐蚀电位变负。

（2）随盐浓度提高，镁腐蚀电位变正；（3）在低盐浓度的时候，镁腐蚀电位变负，盐浓度高的时候，盐浓度变正。

通常情况下镁及其合金腐蚀电位会随着时间的延长而趋正。

在试验过程中开始的2到3个小时之间，腐蚀电位急剧趋正，经过10到20个小时以后，腐蚀电位就会趋于稳定。

在氢氟酸溶液中，由于镁表面生产稳定的MgF2保护膜，是镁的腐
蚀电位急剧变正，约为350mV。

在中性溶液中，镁腐蚀点Wie为
-1.2~-1.5V，这时候镁和谁会反应出氢气。

其中阴极反应为氢去极化反应，与此同时，阴极上也可能发生氧去极化反应。

在薄水膜覆盖或者大气环境中，镁及其合金的腐蚀主要为氧去极化过程。

在蒸馏水中，氧和氢去极化作用大致相当。

在盐和酸溶液中，主要阴极反应为氢去极化。

因此，在0.1mol/L NaCI溶液中高纯镁腐蚀以氧去极化为主，而工业镁和铸造ZM5合金腐蚀则以氢去极化为主。

镁合金的电化学行为主要取决于表面膜状态，因此镁的腐蚀电位也主要取决于表面状态。

在PH=4~11的溶液中，阴极氯离子可以使镁的腐蚀电位负移。

在PH固定的MgSO4溶液中，不同盐使镁腐蚀电位负移的大小顺序为Na2SO4、KCI、KI、KCNS。

在Mg中加入铝，使其在不同的溶液中（HCI、NaCI、NaOH）中腐蚀电位随着铝含量的增加（在百分之五十AI之前）而正移。

值得指出的是Mg+2%AI合金在酸性和碱性溶液中腐蚀电位比镁还负。

在HCI溶液中镁合金腐蚀速度随着铝的含量增加而降低，当含百分之四十八的铝时腐蚀速率最低。

在NaCI溶液中随着铝含量的增加腐蚀速度开始增加而后又降低。

镁及镁合金的氢超电位随着溶液中性变为碱性而提高。