知识点(word文档物超所值)

知识点1 –成膜

1.Sputter设备生产FFS产品时，Glass表面温度约为多少摄氏度（）

2.B3 CF Sheet ID：CBM3X9803EFHG-123400，各位号码意思

在B3 CF分厂，下列选项中全部都有6轴Robot

4.各Line与设备之间的通讯协议是以下哪一项（）

5. CSA、CSB、CSC及CSD中Crane数量分别为（）

6.下列靶材与Sputter背板直接接触的物质是（）

7.B3 CF ITO Line共有多少个六轴Robot（）

8.正确的防尘服穿着顺序是（）

9. C/F制作过程中,32寸产品与18.5寸产品主要不同点（）

10.属于PM时正确做法的是（）

12．Unpack装Glass的是Crate，一般每个Crate装0.7t的Glass的片数是（）13. Sputter设备的腔体有Heater的腔体是（）

15.B3 CF Sputter设备每个Carrier上Clamp的数量为（）

16.B3 CF Sputter使用的Carrier上部从玻璃边缘到第一个Clamp的距离为（）

17.TFT-LCD显示器的显示性能指标包括（）

18. Carrier到达Sputter Process Chamber时Carrier与Carrier之间的间隔为（）19. 量产时，Sputter Process Chamber内通入的气体为（）

20. 在生产的过程中，设备重启PLC后，哪个部分不需回到原（HOME）点（）21. B3 CF Sputter设备Robot Vaccum数值多少以上为正常（）

22.关于FFS MODE正确工艺流程的是（）

23. TN Mode时Line Flow中正确流程（）

24. 3正5S中属于3正的是（）

25.洁净间内产生最大的污染源因素是（）

26.RWL的全称是（）

27.等离子体是整体上呈现（）

28. Sputter设备中阳极的电压是（）

29. Sputter设备中作为阳极的是（）

30. TN模式中ITO薄膜的主要作用是（）

31.FFS模式中ITO薄膜的主要作用是（）

32.属于ITO工艺参数的是（）

33. ITO生产模式是（）

34. ITO的Bake模式是（）

35. ITO的Offline首件模式是（）

36. SCS区的Buffer存放的是（）

37. SCS区的Buffer一般存放玻璃（）

38. Online情况下需要ITO特性值确认时，Sample玻璃投入口为（）

39.Offline情况下需要首件确认时，Sample玻璃投入口为（）

40. ITO 首件Sample特性值确认项不包括（）

41. TN模式ITO膜厚Spec为（）

42. TN模式ITO阻抗spec为（）

43. FFS模式ITO阻抗spec为（）

44. 19. TN模式ITO透过率spec为（）

45. TN 模式玻璃镀膜表面温度（）

46. TN模式ITO膜要经过Anneal的PBK工序是为了（）

47. TN型产品经过Anneal的后的ITO薄膜阻抗值（）

48. TN型产品经过Anneal的后的ITO薄膜透过率（）

49. Sputter 正常生产使用Carrier 的数量为（）

50. Sputter中起辉气体是（）

51. Sputter设备共使用靶材的数量为（）

52. Sputter使用的陶瓷靶，其成分In2O3与SnO2的比例为（）

53. ITO特性值管控项目管控不包括（）

54. 影响ITO膜厚的因素有（）

56. 提高成膜温度对ITO薄膜的影响（）

57. 设定Carrier定期更换的主要作用是（）

58. carrier更换后要进行必要那些检查（）

59. ITO工序外观检查设备是（）

60. ITO色差外观异常产生原因是（）

61. Carrier停滞发生后玻璃基板应如何处理（）

62. ITO particle多发时段在（）

63. ITO树状Mura产生的原因（）

64. 靶材中期PM的主要包括（）

65. 如果阻抗值超出Spec.值，首先要进行（）

66. Sputter破片发生应确认（）

67. 靶材表面凸起（Nodule）较多会影响（）

68. B3 CF Sputter使用靶材厚度为上/中/下（）

69.下列不良中，肯定不是ICL的洗净不良造成的是（）

70.下列Cleaner采用的新设计中，有利于Clean Room内洁净度保持的是（

）

71.在B3 Layout 中与ICL连接的Stocker是（）

72.ICL Cleaner中Air curtain的使用目的是（）

73.Cleaner内的Ionizer的作用是（）

74.Line中哪条线的清洗机同时带有上下Brush的是（）

75．RWL产生不良主要包括（）

76．玻璃基板在RWL流动顺序是（）77．RWL流动影响基板洗净效果因素有（）78．RWL中使用酸性药液主要是为了（）79．RGB Stripper单元有（）个Chamber （）80.Stripper 药液tank 最高使用温度（）

1.CF ICL有( )台Robot。

2.TFT-LCD显示器中，控制各像素电流的器件是( )

3.TFT-LCD显示器的显示性能指标包括( )

4.属于Sputter工艺需要关注的参数的是( )

5.下列没有E-UV装置的Line是( )